新型半导体n—n结构高选择性乙醇气敏元件

】报道了一种基于气敏元件互补反馈和互补增强原理的新型半导体ｎ－ｎ结构高选择性乙醇气敏元件,该新型气敏元件具有高的选择性,同时还有好的热稳定性、高的灵敏度和抗湿度干扰能力。     

半导体气敏元件的选择性研究

全面介绍了半导体气敏元件的选择性研究在国内外的发展状况，并重点论述了选择性研究中出现的一系列新方法、新材料及新技术等；在半导体气敏材料中加入催化剂和添加剂、控制气敏传感器的工作温度、使用气体过滤膜、使气敏材料纳米化等是提高半导体气体传感器的选择性的一个主要途径。在气敏元件选择性研究的新进展等方面也作了较详细的论述。对提高气敏元件选择性的研究具有重要的参考价值。     

气敏半导体元件的改进

一、前言近年来,气敏半导体元件在架空电缆和地下电缆探漏,天然气管道探漏等方面得到广泛的应用,现在已经试制了各种可燃气体报警器、检测仪等。但气敏半导体元件主要存在以下几个问题:一是提高气敏元件的稳定性和选择性;二是降低耗电量;三是改善气敏元件的一致性(或称互换性)等。如果这些问题能够解决,气敏元件就能更广泛地得到应用。根据用户的要求和应用中存在的问题,我们研究了降低整机耗电量,并在提高气敏     

陶瓷敏感元件的发展趋势

敏感元件不仅在工业设备中得到了应用,而且在消费品中也得到了应用。在实际应用中,敏感元件所需要的条件越来越严苛,而且必须进一步降低成本。在本文中主要讨论陶瓷气敏元件和湿敏元件。一、气敏元件气敏元件是直接以电信号输出的敏感元件,可粗分为半导体型和接触燃烧型,很适于探测气体漏泄。半导体型敏感元件按下列方式进行工作。由加热器加热到高温的半导体(通常为 SnO_2、Fe_2O_3和ZnO 等 n 型氧化物半导体)与可燃气体接触时,其     

掺杂对甲醛气敏元件气敏特性的改善

纳米材料SnO2对大多数VOC气体具有敏感性.文中以SnO2为基料制作了旁热式甲醛气敏元件,为改善甲醛气敏元件的气敏特性,选择了2%Sb,3%Sb,2%Pd,3%Pd,4种比例的掺杂材料,并以低体积分数甲醛作为测试气体,对SnO2气敏元件的气敏特性进行了测试.结果显示:掺杂2%Pd的气敏元件气敏特性良好.     

低功耗烧结气敏元件制备和气敏特性研究

未经掺杂的金属氧化物半导体气敏传感器通常灵敏度很高，但选择性较差。为提高选择性和一致性，设计了一种特殊结构的低功耗SnO2烧结气敏元件的制备方法，测试了SnO2烧结气敏元件的气敏特性。制备的SnO2烧结气敏元件在40mW的加热功率条件下，100ppm的CO气氛中灵敏度达到3，响应时间仅为4s；在180mW的加热功率条件下，对氢和碳氢化合物（如CH4和LPG）敏感。这类低功耗烧结气敏元件选择性和一致性好，有望用于室内煤气泄漏检测等场合。     

采用富集方法提高气敏元件对甲醛的响应

用纳米SnO_2制作了旁热式甲醛气敏元件,测试了气敏元件对甲醛的响应,为了提高气敏元件对低浓度甲醛的响应,组装了一套富集装置.甲醛气体通过测试腔之前,先通过富集腔对其浓缩富集一段时间,然后加热活性炭使甲醛解吸出来,送入测试腔进行测试.测试了活性炭的最佳解吸温度为160 ℃.比较了富集前后气敏元件对甲醛的响应,富集前后气敏元件对20 ppm(1 ppm=10-6)甲醛的响应为分别为1.2和13.6.结果表明:富集后气敏元件对甲醛的响应明显提高.     

半导体气敏元件的结构及制作工艺

本文对不同类型气敏元件的结构和制作工艺进行了分析对比。并总结归纳出各自的性能特点。实验证明。气敏元件的制作工艺是影响元件性能的至关重要的因素。对元件结构和制作工艺的深入探讨。有助于我们开发性能更加优良的气敏元件。     

气敏半导体元件

武汉市半导体器件二厂广大革命职工,发扬独立自主,自力更生的精神,高举“鞍钢宪法”的旗帜,经过反复试验,试制成功气敏半导体元件和用它装成的气体报警器。气敏元件是一种其电导率随所吸收的气体面变化的新型半导体元件,它是依靠分子吸附来工作的。制造这种元件的主要材料是一些金属氧化物半导体(如氧化锡、氧化锌、三氧化     

日本松下公司制成新型气体敏感元件

日本松下电气公司已经制成一种新型高灵敏气体敏感元件,它不仅对丙烷、丁烷和氢气敏感,而且对于过去普通气敏元件来探测都很困难的甲烷也敏感。因此,它适用于包括天然甲烷气体在内的各种类型的城市的气体的探测。这种新型的陶瓷半导体气敏元件采用烧结铁复合氧化物(α-型氧化铁:α-Fe_2O_3)作为敏感元件,从而不再需要贵金属催化剂)。松下新型高性能和高可靠性的气体敏感元件可望在漏气报警装置和防止漏气爆炸用的自动气体阀门装置中找到更广泛的应用。普通气敏元件现有两种型式:①“半导体型”气敏元件可通过探测诸如氧化锡(SnO_2)和氧化锌(ZnO)等半导体材料中电阻突然降低来感知易燃气体。当这些材料     

高灵敏度腔增强吸收式乙炔气体检测系统

基于超窄线宽激光特性和光源波长扫描技术,构建了高灵敏度腔增强吸收式乙炔气体检测系统。该系统采用超窄线宽可调谐半导体激光器作光源,使用两块高反射率平凹透镜组成的光学谐振腔作吸收池,通过扫描腔长使入射激光频率与谐振腔模式相匹配,利用激光失谐技术快速断开入射激光,从而实现对微量乙炔气体浓度的衰荡测量。利用腔增强吸收技术测得了激光衰荡时间和6 518.824 cm^-1附近的乙炔弱吸收光谱并进行了分析。结果表明,乙炔气体浓度线性相关系数优于0.999,最大相对误差小于2.5%,极限检测灵敏度为2×10^-6;逐次充入一定体积的乙炔气体,动态响应时间均小于10 s。该检测系统精确度好、灵敏度高,具有较好的动态响应特性,可用于电力变压器故障气体实时在线监测。     

手提式钢缆激光切割系统的设计

介绍了一种手提式光纤传输钢缆激光切割系统。以脉冲固体激光器作为光源,采用光纤进行柔性传输,设计了切割钢缆的专用夹具,研究了钢缆的切割工艺。通过优化放电电流、脉冲频率、脉冲宽度、辅助气压等参数,该系统可满足直径12mm内的钢缆的切割要求,提供了切割钢缆的新方法。     

镁合金激光加工技术的研究

在综述国内外镁合金激光切割、激光焊接、激光表面改性等技术的基础上,对镁合金的激光加工技术进行了研究。结果表明：激光切割AZ31B镁合金,切缝窄细平直,垂直度为0．05mm,切面波纹小且分布规律,热影响区不明显;激光焊接镁合金,焊缝成形好,气孔少,热影响区小;AZ31B镁合金激光熔凝处理后,晶粒得到细化,硬度和耐磨性都得到提高。     

钢铁冶炼过程气体激光原位分析技术的应用

基于半导体激光吸收光谱技术的激光原位气体分析系统响应速度快且无需采样预处理装置,可较好地满足钢铁行业对过程气体的实时在线检测要求。在转炉煤气回收系统应用中,激光原位气体分析系统的响应速度比采样气体分析系统快约20s,从而可以多回收约4.8%的能源气。     

CO_2激光深熔焊接光致等离子体吸收及其控制

研究高功率密度 CO2 激光焊接过程中光致等离子体对入射激光的吸收以及侧吹辅助气体对等离子体控制的影响。采用准基模 CO2 激光束在 1 Cr1 8Ni9Ti不锈钢表面进行扫描焊缝 ,通过光谱检测装置检测等离子体辐射谱线强度 ,从而计算等离子体对激光的吸收系数 ;采用侧吹喷嘴分别通CO2 、N2 、Ar、He4种气体压缩等离子体。研究结果表明 ,光致等离子体对入射激光能量的吸收损失高达 2 0 % ;随着侧吹辅助气体流量的增加 ,焊缝呈现3个区间 :当气体压力低于金属蒸汽压力时 ,焊缝为“酒杯”状 ,深宽比很小 ;当辅助气体操作压力稍高于金属蒸汽压力 ,等离子体可被有效控制从而获得最佳焊缝。     

激光改性后氮化铝基板的可加工性研究

利用激光改性方法研究了被广泛应用在微电子组件封装中的氮化铝（AlN）陶瓷基板在不同气体环境、激光功率、扫描间隔下的可加工性,通过试验测量了AlN试件表面硬度值和元素含量。试验结果表明：在N2、Ar、O2三种气体环境下,试件表面成分主要为AlN、Al和Al2O3,且显微硬度计测得Ar环境下的熔覆层硬度最低,最有利于后续切削加工。在Ar环境下,随着激光功率的增大和扫描间隔的减小,AlN表面改性后的硬度减小,最小值可达到174.83HV,更易进行切削加工。     

大功率激光切割机切割工艺参数分析

初步探讨了影响激光切割碳素结构钢板切割质量的因素,在其他参数不变的情况下,最小打孔功率和最小无"挂渣"切割功率随着板材厚度的增加而增大;切缝断面粗糙度随着切割气体压力和切割速度先减小后增大。     

激光切割前沿辐射与切割质量关系的初探

介绍了一种以切割前沿辐射信号为检测参量的激光切割实时监测系统,利用此监测系统时采集了氧气辅助激光切割时的前沿辐射信号,并对切割质量与前沿辐射信号的关系进行了初步研究,研究表明不同切割质量时的信号特征明显不同,信号的振幅谱在低频区的主频与切割辉纹出现质量时的信号特征明显不同,信号的振幅谱在低频区的主频与切割辉纹出现的频率有良好的对应关系,还对没切割质量下特征信号产生的机理进行了分析。     

激光气体分析仪在钢铁行业的应用

本文论述了基于半导体激光吸收光谱测量技术的激光气体分析仪的分析原理、仪器结构和主要性能特点,并介绍了它在钢铁行业在线气体检测中的应用.     

Laser produced plasmas as intense X-ray sources for microscopy at the Central Laser Facility

Some of the X-ray microscopy work being performed at the Central Laser Facility (CLF) is reviewed. The X-ray sources generated by the high power glass and gas lasers, Vulcan and Sprite, are discussed and compared with other sources. The instrumentation used to perform X-ray microscopy of laser driven implosions at the CLF is outlined and the results obtained shown. Other experimental work utilizing the intense X-ray emission properties of laser produced plasmas is reviewed and details of work involving X-ray diffraction, EXAFS and X-ray microscopy of biological samples is given.