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硅橡胶是一种分子键兼具无机和有机性质的高分子弹性材料,硅橡胶具有最广的工作温度范围(-100~350℃),耐高低温性能优异,此外,还具有优良的热稳定性、电绝缘性、耐候性、耐臭氧性、透气性、很高的透明度、撕裂强度,优良的散热性以及优异的粘接性、流动性和脱模性,一些特殊的硅橡胶还具有优异的耐油、耐溶剂、耐辐射及在超高低温下使用等特性。硅橡胶按其硫化温度,可分为高温(加热)硫化型及和室温硫化型两大类,高温胶主要用于制造各种硅橡胶制品,而室温胶则主要是作为粘接剂、灌封材料或模具使用。硅橡胶又是一种由氧和硅交联成的聚合物制成的独特的合成弹性体。它完美地平衡了机械性质和化学性质,因而能满足今天许多苛刻的应用场合要求,因此受到业内的高度关注。 相似文献
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炭黑是橡胶工业不可缺少的原料,其用量仅次于生胶,是一种最有效的、被广泛应用的补强剂。炭黑能改进硫化胶的性能,提高胶料的硬度、模量、断裂能量、抗张强度、抗撕裂、耐疲劳和耐磨耗性能。炭黑的另外一大作用是有效降低橡胶制品的成本,特别是用在硅橡胶、氟橡胶和丙烯酸酯橡胶等特种橡胶制品中。 相似文献
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众所周知,硅橡胶的应用正在日益扩大,并在不同的市场领域获得广泛的应用,特别是越来越多的硅橡胶用于橡胶工业制品上。第一批硅橡胶产品早在1960年以前就已进入市场。这是因为有机硅(即称为聚硅氧烷)具有独特的性能,才收到欢迎。又基于其分子结构具有典型的硅/氧主链(图1),而硅原子的其余共价键被烃自由基(主要是由基团)所饱和,则有机硅和硅橡胶显示出下列突出特性: 相似文献
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为开发一款对各类基材具有良好黏接性的中低温固化液体硅橡胶,研究增黏剂类型、铂催化剂质量分数、含氢硅油活性氢含量对加成型硅橡胶硫化速度和黏接性等性能的影响。结果表明:当环氧含氢环体增黏剂和苯基含氢增黏剂复配时,制备的硅橡胶的硫化速度、对不同基材的黏接力等性能均较好;随着铂催化剂质量分数、含氢硅油活性氢含量的增大,硫化速度均加快,但黏接强度先增加后降低。当环氧含氢环体增黏剂和苯基含氢增黏剂配比为2∶1,铂催化剂质量分数为1.5×10~(-5),含氢硅油活性氢质量分数为0.5%时,研制的双组分加成型液体硅橡胶可在60℃下20 min完全固化,且对不同基材具有良好的黏接性,对不锈钢、聚苯醚(PPO)基材的拉伸剪切强度分别达到1.8 MPa和1.1 MPa。 相似文献
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硅橡胶所包括的范围相当广,其中有机硅已在不同细分市场广泛应用于工业橡胶制品。首批硅橡胶产品早在60多年前就被引入了市场。这之所以成为可能的事情,乃是由于有机硅(也称为聚硅氧烷)的独特性能,而这又基于其分子结构带有典型的硅/氧主链(图1)。 相似文献
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本文分析了硅氧油的压缩性能,提出了硅氧油的正割体积模量计算公式和密度计算公式。并用有关实验数据进行数值计算,给出了公式中的系数值或系数计算式。误差分析表明,正割体积模量公式对实验数据的平均计算误差为1%左右,而密度计算公式比正割体积模量计算公式更为精确。只要已知硅氧油的温度t和该温度下的密度ρt,就能求得公式中的所有系数和不同压力下硅氧油的正割体积模量值和密度值。 相似文献
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It is generally assumed that amorphous magnetic alloys respond to field annealing by a process of local directional ordering which leaves the amorphous structure intact. We have made a comparative microstructural study of field-annealed Co95-xFe5(BSi)x amorphous alloys using transmission electron microscopy (TEM) and scanning transmission electron microscopy (STEM) with thin sections parallel to the ribbon surface. Field annealing response was measured from anisotropy in low-field hysteresis loops. These alloys show appreciable surface crystallization for annealing as much as 80 K below the bulk crystallization temperature. The surface crystallization proceeds by a known mechanism (selective oxidation) to which we have added a more detailed understanding. Three steps are involved: (1) formation of an amorphous borosilicate surface oxide layer during annealing; (2) depletion of glass stabilizing elements (boron and silicon) from the underlying amorphous metal substrate; (3) primary crystallization of the destabilized, metal-enriched subsurface layer to an fee or hep cobalt-rich phase. Striking differences in the microstructural morphology were revealed for different glass former ratios B/Si. For high B/Si ratios, the surface crystallites are predominantly fee Co and show a high density of oxygen faults. For low B/Si ratios, the surface crystallites are predominantly hep Co and almost free of faults. Response to field annealing is proportional to the B/Si ratio and correlates with the presence of oxygen faults in surface crystallites. Electron diffraction and microprobe analysis indicate that the surface oxide in silicon-rich alloys is a dense silica glass which appears to be an effective diffusion barrier to oxygen. The surface oxide in boron-rich alloys is a more porous oxide richer in B2O3. These observations appear to be related to those from perminvar alloys where oxygen was found to be necessary for field annealing to be effective. 相似文献
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Hongliang Wang Panjawat Kongsuwan Gen Satoh Y. Lawrence Yao 《The International Journal of Advanced Manufacturing Technology》2013,65(9-12):1691-1703
Hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films have been considered for use in solar cell applications because of their significantly reduced cost compared with crystalline bulk silicon; however, their overall efficiency and stability are less than that of their bulk crystalline counterparts. Limited work has been performed on solving the efficiency and stability issues of a-Si:H simultaneously. Surface texturing and crystallization on a-Si:H thin film can be achieved through one-step femtosecond laser processing, which can potentially alleviate the disadvantages of a-Si:H in solar cell applications. In this study, submicrometer conical and pillar-shaped spikes are fabricated by irradiating a-Si:H thin films deposited on glass substrates with hundreds of 800 nm-wavelength, 130 fs-duration laser pulses in air, and water environments, respectively. The formation mechanisms for the surface spikes are discussed, and the differences in the surface feature characteristics are also presented and explained within the context of the different processing environments. The effect of laser processing on light absorption and crystallinity will be studied later. 相似文献
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为了揭示氮化硅陶瓷磨削温度分布规律以及其对表面成形的影响,首先,建立氮化硅陶瓷纳米级切削的分子动力学模型;其次,研究切削过程中切削参数对切削温度的影响,以及加工过程中切削表面变质层的形成过程;最后,对 K 型热电偶测温和表面能谱分析的仿真与实验结果进行对比分析.结果表明:随着金刚石磨粒切削深度和切削速度的增加,原子晶格发生变形和非晶相变过程中时释放的能量增多,从而使切削温度升高;切削高温会引起氮化硅陶瓷发生非晶相变现象,非晶态原子重新与已加工表面断裂的原子键结合形成表面变质层;分子动力学仿真模型可以用来预测氮化硅陶瓷材料实际磨削加工中磨削温度变化情况,对生产加工具有参考价值. 相似文献
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采用动态热机械分析仪等手段分析研究聚苯酯/玻璃纤维/聚四氟乙烯(POB/GF/PTFE)密封材料的动态和静态热力学行为,考察不同含量的POB和GF对PTFE复合材料的储能模量、高温压缩-回复和蠕变性能的影响。结果表明,POB和GF的加入可显著提高PTFE复合材料的储能模量和热变形温度;在0~30%质量分数范围内,随着POB质量分数的增加,PTFE复合材料的压缩率和回复率均呈现下降趋势,而高温蠕变量则先降低后增大,然后又降低;在质量分数20%POB填充PTFE复合材料基础上,随着GF质量分数的增大,PTFE复合材料的压缩率、回复率和高温蠕变量均呈现先降低后增大,然后又降低的趋势。 相似文献
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以硅渣和玻璃粉为原料,采用粉体直接烧结法制备多孔材料,研究了烧结温度(700~900℃)、烧结时间(15~120min)和升温速率(10~100℃·min^-1)对多孔材料表观密度、气孔率、物相组成、抗压强度的影响。结果表明:气孔结构均匀性随烧结温度的升高而降低;表观密度随烧结温度的升高先减小后增大,随保温时间的延长而增大,随升温速率的增大而减小,气孔率的变化趋势与表观密度的相反;多孔材料的主要物相为玻璃相和硅、SiC、SiO2、Ca2Al2SiO7等结晶相,且结晶度随烧结温度的升高而降低;抗压强度随烧结温度的升高呈先增大后减小的趋势;当烧结温度为750℃,升温速率为30℃·min^-1,烧结时间为30 min时,多孔材料的主晶相为硅和Ca2Al2SiO7,抗压强度最大(1.60MPa),表观密度为0.43g·cm^-3,气孔率为80%。 相似文献
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结合MEMS气密性封装的需要,以玻璃与硅晶片阳极键合为例,给出阳极键合的封装工艺,从键合机理的角度研究了玻璃与硅阳极键合的影响因素,并就玻璃与硅阳极键合的设计因素做了分析,得到直径为100mm的Pyrex7740玻璃晶片和硅晶片在键合温度为500℃时,硅晶片的径向应力σrr=134.29MPa;键合后晶片的径向膨胀μ=0.1274mm。 相似文献
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针对磁流变弹性体压缩弹性模量随磁场变化的问题,在磁场存在的环境下制备出其材料配比分别为羟基铁粉为108 g,硅橡胶为28 g,硅油为18 g的磁流变弹性体磁流变弹性体,在压缩应变ε=2.6%的情况下分别对磁场方向与磁流变弹性体颗粒链压缩方向平行和垂直的情况下建立了数学分析模型。对磁流变弹性体的压缩弹性模量进行了理论分析,并通过实验印证了理论分析的准确性。研究结果表明,加载磁场方向与磁流变弹性体内部颗粒链压缩方向平行的情况下,材料内部磁致压缩力随着磁感应强度的增强而非线性增大;加载磁场方向与磁流变弹性体内部颗粒链压缩方向垂直的情况下,材料内部磁致压缩力随着磁感应强度的增强而非线性减小。 相似文献