柔性基片上In2O3：Sn和ZnO：Al薄膜的制备及其电学和光学特性

利用直流磁控反应溅射铟锡合金靶和锌合金钯,在软基片上低温沉积了Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）和ＺｎＯ：Ａｌ（ＺＡＯ）透明电薄膜。结果表明,ＩＴＯ和ＺＡＯ薄膜均出现晶格畸变;柔性基片上低温沉积薄膜的电阻率对氧分压的依赖性远低于硅和玻璃衬底;尺度效应对薄膜电阻率有重要的影响。     

Al含量对（Ti,Al）N薄膜抗氧化性能的影响

研究了Ａｌ含量对（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜高温抗氧化性能的影响，并与ＴｉＮ薄膜进行了对比试验，试验结果表明：（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜的抗氧化性能明显优于ＴｉＮ薄膜，随着薄膜中Ａｌ含量的增加，薄膜的抗氧化能力得到改善，特别是当氧化温度≥８００℃后效果更为显著，因为（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜在高温下氧化时，在薄膜表面形成的是稳定致密的Ａｌ２Ｏ３的缘故。     

表面处理工艺对碳钢在水溶液中的腐蚀行为研究

用电化学方法评价了碳钢经喷镀Ａｌ、浸镀Ａｌ、喷镀Ｚｎ、浸镀Ｚｎ、离子注Ｎ几种处理后在含Ｈ２Ｓ、ＣＯ２水溶液中的腐蚀行为。结果表明，每种表面处理方式均使碳钢的耐蚀性能改善，以浸镀Ａｌ改性效果最好，喷镀Ａｌ次之。水溶液中溶解的Ｈ２Ｓ、ＣＯ２气体含量对材料的腐蚀速度有较大的影响。     

离子束增强沉积氮化硅膜及TiAl抗高温氧化性能的改善

用离子束增强沉积（ＩＢＥＤ）方法在金属间化合物ＴｉＡｌ上合成厚度为０．５，１，和２μｍ的氮化硅薄膜。所形成的薄膜为非晶态，膜与基底间存在混合的过渡区，膜与基底结合紧密用ＡＥＳ，ＸＲＤ和ＸＰＳ研究薄膜的组成和结构，高温循环氧化结果表明，经沉积膜的ＴｉＡｌ试样的抗氧化性能显著提高其中沉积０．５μｍ薄膜的试样表现出极好的抗循环氧化性能由ＳＥＭ及ＥＤＳ分析得出，良好的高温稳定性能、高的膜／基底结合力和形成富Ａｌ２Ｏ３和硅化物的保护层是提高ＴｉＡｌ抗高温氧化性能的主要因素．     

Zn—48.48Al—1.65Cu—0.03Mg合金液表面氧化膜微细特性

利用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）和Ｘ射线衍射等,研究了Ｚｎ－４８．４８Ａｌ－１。６５Ｃｕ－０．０３Ｍｇ合金液表面氧化膜微细特性。除Ａｌ２Ｏ３外,氧化膜内还有相当数量的ＺｎＯ和金属Ｚｎ存在,少量的ＭｇＯ和ＭｇＡｌ２Ｏ４明显富集在膜表面,少量金属Ｃｕ滞留于氧化膜中,氧化膜中金属离子明显过剩,计算及生产实践表明,这种氧化结果导致合金Ｚｎ和Ｍｇ含量减少,Ａｌ和Ｃｕ含量反而增加。     

青铜表面SnO2保护膜的制备及其防护性能研究

黑漆古铜镜具有优异的耐腐蚀性能。采用溶胶凝胶法在青铜基体上模拟制备黑漆古铜漆表面的纳米ＳｎＯ２薄膜，并检测了该薄膜对于含Ｃｌ＾－酸性溶液的耐腐蚀性，利用带ＥＤＡＸ的ＳＥＭ进行了表面和截面的元素分析。结果表明薄膜的ＳｎＯ２物相能隔离本体与外界环境，具有一定的防护性能，而表面纳米ＳｎＯ２薄膜的致密度决定了防护效果。     

Zn—Al—Si合金的组织性能及Na变质研究

研究了Ｓｉ合金化Ｚｎ－Ａｌ合金组织性能及Ｎａ变质对Ｚｎ－Ａｌ－Ｓｉ合金组织性能的影响。结果表明：Ｓｉ合金化可提高Ｚｎ－Ａｌ４３型合金的耐磨性，但降低其强度和韧性；Ｎａ变质可改变合金中Ｓｉ的形成，改善合金性能。     

反应生成α—Al2O3（p）／Al—Zn复合材料的制备及其磨损特性

利用Ａｌ与ＺｎＯ之间的反应，制备了αＡｌ２Ｏ３（ｐ）／ＡｌＺｎ复合材料，并对其进行了致密化处理。对所得复合材料的组织分析和磨损特性研究表明：致密化处理可使复合材料致密性提高，αＡｌ２Ｏ３颗粒分布趋于均匀；复合材料磨损特性随孔隙率而变化。     

Color characteristics of Cu-Zn-Al alloys

ＣＯＬＯＲＣＨＡＲＡＣＴＥＲＩＳＴＩＣＳＯＦＣｕ－Ｚｎ－ＡｌＡＬＬＯＹＳ￣①Ｌｉ，Ｂａｏｍｉａｎ；Ｚｈａｎｇ，Ｘｉｕｈｕａ（ＳｈｅｎｙａｎｇＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＧｏｌｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｓｈｅｎｙａｎｇ１１００１５）ＣＯＬＯＲＣＨＡＲＡＣＴＥＲ...     

DEFORMATION BEHAVIOUR OF Cu－Zn－Al ALLOYS AND ITS EFFECT ON TRANSFORMATION HYSTERESIS

ＤＥＦＯＲＭＡＴＩＯＮＢＥＨＡＶＩＯＵＲＯＦＣｕ－Ｚｎ－ＡｌＡＬＬＯＹＳＡＮＤＩＴＳＥＦＦＥＣＴＯＮＴＲＡＮＳＦＯＲＭＡＴＩＯＮＨＹＳＴＥＲＥＳＩＳＷａｎｇＭｉｎｇｐｕ；ＸｕＧｅｎｙｉｎ；ＹｉｎＺｈｉｍｉｎｇ（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＭａｔｅｒｉａｌ...     

Preparation and Properties Of ZnO:Al (ZAO) Thin Films Eposited by DC Reactive Magnetron Sputtering

采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜。研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果表明，多晶ZAO薄膜具有（001）择优取向且呈柱状生长，能量机制决定其微观生长状态。讨论了薄膜的内应力，高的沉积温度和低的溅射功率可有效减小薄膜的内应力。优化的ZAO薄膜电阻率和在可见光区的平均透射率可分别达到310-4-410-4cm和80%以上。     

掺铝氧化锌薄膜的红外性能及机制

采用中频交流磁控溅射氧化锌铝(ZnO 2％Al2O3)陶瓷靶材的方法制备了掺铝氧化锌ZAO(ZnO：Al)薄膜．利用红外光谱仪测试了薄膜的红外反射性能,研究了薄膜厚度、基体温度和氩气压力对ZAO薄膜红外反射性能的影响规律,确定了制备具有高红外反射率的ZAO薄膜的工艺参数．     

大气等离子喷涂Al2O3-3%TiO2涂层的性能

利用两种中频交流磁控溅射电源,溅射Al2O3含量为2%的两块氧化锌铝陶瓷靶材,在不同衬底温度的条件下制备得到了ZAO薄膜。研究了不同衬底温度条件下不同靶材和溅射电源对ZAO薄膜结构、电学和光学性能的影响。结果表明,制备得到的ZAO薄膜均具有c轴择优取向生长的晶体结构,在衬底温度为240℃时,得到的ZAO薄膜的电阻率低至1.4×10-3Ω·cm,可见光平均透过率在82%以上。     

Al掺杂ZnO薄膜的制备及红外光学性能的研究

采用溶胶-凝胶法合成Al掺杂ZnO胶体,通过浸涂法在石英衬底上制备不同退火温度的ZAO薄膜.通过XRD、FT-IR、IR-2型红外辐射仪等手段对薄膜进行表征并研究不同工艺条件对薄膜红外性能的影响.结果显示,Al的掺杂并未改变ZnO的晶型结构,薄膜材料具有沿(002)晶面趋向性生长的特点.ZAO薄膜在可见光区具有高透过率,平均透过率在80%左右,在红外波段具有较高的透过率,所得到的ZAO薄膜在红外波段具有较低的发射率.     

透明导电薄膜ZnO:Al(ZAO)的性能及其在有机发光二极管中的应用

研究了ZAO透明导电薄膜的微观组织结构、化学成分及其电学光学特性.结果表明,多晶ZAO薄膜呈柱状晶并具有(002)面择优取向, c轴晶格常数大于0.52000 nm;ZAO薄膜不同微区之问的成分不均匀导致了电学性能的不均匀; ZAO薄膜的电阻率和在可见光区的平均透射率分别为1.39×10-4 Ω·cm和80.8％.其透射率和吸收率曲线均具有明显的波动性,该波动性影响以ZAO为阳极的有机发光二极管的发射光谱,在5.38 A/m2电流密度下二极管的发光效率大于2 cd/A.     

溅射功率对射频磁控溅射Al掺杂ZnO（ZAO）薄膜性能的影响

用射频磁控溅射技术,在纯氩气氛中不同溅射功率（120 W~210 W）下于玻璃衬底上制备了Al掺杂ZnO（ZAO）薄膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、光谱仪和四探针测试仪等对所制备的薄膜进行了晶体结构、光学和电学性能分析。结果表明,纯氩气氛中不同溅射功率下玻璃衬底上原位沉积的ZAO薄膜具有明显的c轴择优取向性,它没有改变ZnO的六角纤锌矿结构;ZAO薄膜的可见光区平均透光率不强烈依赖于溅射功率,为75%左右;原位沉积ZAO薄膜的电阻率达到102Ω.cm数量级范围,随溅射功率由120 W增大到210 W时,薄膜电阻率从132.67Ω.cm降低到21.08Ω.cm。     

氧化锌铝的典型性能与研究进展

氧化锌铝是一种具有广阔应用前景和发展潜力的复合氧化物半导体材料。介绍ZAO材料的透明导电性、光致发光和红外发射等典型性能;讨论溶胶-凝胶法、水热法、沸水回流法和共沉淀法等粉体制备方法;阐述ZAO靶材的制备方法;分析溶胶-凝胶、金属化学气相沉积、磁控溅射、脉冲激光沉积和热喷雾分解等ZAO薄膜的制备技术;最后指出ZAO的发展方向。     

Zn靶与掺铝ZnO靶共溅射制备ZnO:Al薄膜及其性能

采用Zn靶和ZnO(掺2%Al2O3(质量分数))陶瓷靶在玻璃衬底上共溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜,即ZnO:Al透明导电薄膜,研究Zn靶溅射功率(0～90 W)和衬底温度(室温、100℃和200℃)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:按双靶共溅射工艺制备的ZnO:Al薄膜的晶体结构均为六角纤锌矿结构,且随着Zn靶溅射功率的增加,薄膜的结晶质量呈现出先改善后变差的规律,薄膜中的载流子浓度逐渐升高,电阻率逐渐降低,而薄膜的光学性能受其影响不大;随着衬底温度的升高,薄膜的结晶性能得到改善,薄膜的可见光透过率增强,电阻率降低。     

Effect of Al concentration on photoluminescence properties of sol-gel derived hydrogen annealed ZnO

The effect of the Al/Zn atomic ratio on the photoluminescence properties of hydrogen annealed undoped and Al rich ZnO (AZO) films was studied. The Al/Zn atomic ratios in the AZO films were varied from 0 to 40%. All the AZO films exhibited three peaks in the UV, green and red regions, whereas the undoped ZnO films had two peaks in the UV and green regions. The PL intensity in the UV and red regions increased with an increase in Al concentrations. The highest PL intensity in the UV region was observed in the 20% Al/Zn atomic ratio due to improvement in crystal quality which was also confirmed by XRD measurements. The PL emission in the red region was due to complex luminescent centers like (V_zn-Al_zn)^?. A blue shift was seen in the red region with the introduction of Al. The 20% AZO films obtained the strongest signal at ?420 cm^?1, whereas no FTIR signal was observed at 420 cm^?1 in undoped ZnO. The bond signature at ?420 cm^?1 might be responsible for the highest PL intensity in NBE and red regions.     

The effect of pH on the selective dissolution of Zn and Al from Zn–Al coatings on steel

Selective dissolution of Al and Zn from 5 wt.% Al–Zn (Galfan) and 55 wt.% Al–Zn (Galvalume) galvanized steel coatings was investigated by comparing Zn and Al dissolution rates in 30 mM NaCl at pH from 2 to 12 using in situ kinetic analysis (atomic emission spectroelectrochemistry, AESEC) and in a 5 day immersion test. The selective dissolution of Zn occurred at low pH and selective dissolution of Al at high pH. Results from AESEC and from the immersion test were compared and interpreted in terms of the inhibiting and passivating effect of corrosion product films.