基于Alq3及蒽类衍生物的微腔顶发射有机发光器件

制做了具有微腔结构的绿色和蓝色有机顶发射电致发光器件.利用Alqs和TBADN:3%DSAPh材料为发光层,Ag为阳极反射层,ITO为腔长调节层,Al/Ag为半透明阴极,电极的透射率在30%左右.通过改变ITO层的厚度,Alq3器件得到了不同颜色的发光光谱,实现了对光谱的调节作用;TBADN:3%DSAPh器件获得了纯度较高的蓝色发光光谱,色坐标为(0.141,0.049),半高宽为17nm发光光谱,实现了窄带发射.文章对微腔顶发射器件的发射强度和发光光谱半高宽的结果进行了分析.     

一种能在空气中校准线列阵阵元的腔体设计

介绍一种特殊设计的声学腔体,该腔体由声波腔、隔声系统、声波传播通道和测试腔体组成,利用不同腔体的组合设计,使声波在空气中产生能满足低频线列阵阵元校准所需的声场,实现在现场条件下对线列阵阵元的校准。将理论模型与有限元模型相结合对该腔体进行了分析与仿真,建立了包括隔声罩插入损失的计算、测试腔体声场分布的有限元计算和线列阵列中声传播等多个模型。并根据信噪比指标,综合考虑隔声罩插入损失,测试腔体声场分布和线列阵列中声传播三部分的要求,设计了在20~1 000 Hz频率范围内能满足接收灵敏度为-203 d B线列阵阵元校准需求的腔体,并给出了相关的设计参数。     

172nm真空紫外光源的研制及驱动特性研究

通过改进电极引出线以及氟化镁光窗的封接工艺,提高了真空紫外光源器件的可靠性,按照新的工艺流程设计并制作了新型172 nm真空紫外光源.在此基础上为了提高真空紫外光源的效率,对方波脉冲及正弦波形激励下的真空紫外光源的放电特性以及辐射特性进行了分析与研究.研究结果表明,172 nm真空紫外光源的辐射强度随气压、输入电压以及电源工作频率的升高而升高;采用方波驱动时器件的着火电压较低;在输入功率6.8～8.2 W范围内,采用方波驱动时的真空紫外辐射强度是正弦波驱动时的5.5倍.     

反置结构ZnO微米级圆晶的制备和性能研究

利用全自动化功能磁控溅射技术在硅/PS(聚苯乙烯)胶体球模板上制备了具有室温铁磁性和紫外发光特性的两种ZnO微米级圆晶。采用SEM、XRD、PL和VSM对样品进行了表征。结果表明:在PS胶体球去除方法上采用略有不同工艺制备的六边形和反置六边形结构ZnO微米级圆晶均具有(002)择优取向,晶粒大小分别为21.7nm和26.5nm,应力分别为3.26×109 Pa和-1.21×109 Pa,均出现361nm和444nm两个发光峰。两种结构ZnO阵列的铁磁性有所不同,可能是缺陷不同引起的。     

掺Nd2O3高折射率玻璃微球的制备与光学微腔效应研究

制备了掺有稀土发光材料的高折射率玻璃微球,并用XRD、Raman等进行了表征。实验结果表明,该玻璃微球粒径分布范围窄。光学性能好,其折射率约为1．93。用改造的显微拉曼光谱仪测量了微球上转换发光光谱,在其荧光光谱上发现了很强的形貌共振．并用光学微腔理论进行了解释。     

Ar对N_2介质阻挡放电光谱的影响

采用光谱法研究了大气压下氮气、氩气以及氩气对氮气介质阻挡放电等离子体的光辐射特性的影响。研究结果表明：在氮气里添加少量氩气,氮气光谱谱线强度会有所增强,尤其是386.3 nm和418.9 nm谱线强度增强明显。在氩气体积分数为10%时,随着等离子体放电电压变化,氮气的386.3 nm和418.9 nm两条谱线强度在放电电压70 kV时迅速增强。因此,在氮气和氩气混合气体放电中,气体组成影响等离子体内部的能量传输特性以及放电的发光特性。     

圆形金属腔旋流二氧化碳激光器

现有的工业ＣＯ２激光器,主要为横流,纵流和扩散冷却三种,章提出一种新型激光器,即圆形金属腔ＣＯ２激光器,该激光器的腔体由多个等距,同轴安装的空腔单元组成,每个腔单元有多个流道,放电在流道与腔体接口处产生,气流将放电及被其激活的粒子吹入腔内,形成增益,输电激光,章研究了电极结构,金属腔壁对工作气体的冷却作用和胺内的增益分布,研究结果表明,多通道放电吹入和腔内旋流,有利于腔内的均匀放电,金属腔壁有利于腔内对流冷却,降低对气速度的要求,从而缩小激光器的体积,相邻的腔单元相对转动适当角度,可以提高腔内增益分布的圆周均匀性,从而获得光束质量好的激光束。     

容性耦合等离子体腔室放电特性仿真研究

容性耦合等离子体射频放电广泛应用于IC制造中的薄膜沉积、刻蚀工艺中,等离子体中的电子密度和平均电子温度直接影响离化及激发反应速率,其在放电腔室中径向分布的均匀性严重影响刻蚀和薄膜沉积的均匀性。以某12寸腔体为研究对象,采用Comsol软件仿真研究了功率电极电压、腔室气压和极板间距对等离子体的电子密度和平均电子温度的影响规律。仿真研究发现:在研究的气压、电压、极板间距范围内,电子密度和平均电子温度随电压的增加而增加,其均匀性随电压的增加而变差;电子密度随气压的增加而增加,平均电子温度随气压的增加而降低,电子密度的均匀性随气压的增加而改善,电子温度的均匀性随气压的增加先变差再变好;电子密度随极板间距的增加而增加,平均电子温度随极板的增加而降低,电子密度和平均电子温度的均匀性随极板间距的增加而变好。研究结果对指导等离子体参与的IC工艺腔室结构设计及工艺控制具有重要意义。     

射频磁控溅射硅薄膜的制备与结构研究

采用拉曼光谱、光学显微镜、透射电镜研究了不同衬底温度、腔体气压对射频磁控溅射法制备的不含氢硅薄膜相结构和形貌的影响.结果表明430℃时薄膜中出现微晶相,平均晶粒尺寸2.8nm.腔体内杂质及衬底表面的显微缺陷会诱发薄膜针孔、凹坑等缺陷的产生.低温、高压会导致薄膜中空洞缺陷的密集.     

基于TNT敏感聚合物的纳米阵列结构的制备与性质

利用多孔氧化铝模板法制备了两种1,3,5-trinitrotoluene(TNT)敏感的荧光共轭聚合物Tri-phenylamine-CO-para-biphenyene vinylene(TPA-PBPV)和Triphenylamine-co-para-phenyl-ene vinylene(TPA-PPV)的纳米线阵列结构.纳米线的直径在80～100 nm之间,高度在150-200nm之间.和固体薄膜相比,TPA-PBPV和TPA-PPV荧光光谱都发生了蓝移,TPA-PBPV的发射峰从485变为455 nm,PPV的峰从495 nm变为475 nm.蓝移的发光表明聚合物纳米线阵列可以抑制低能量陷阱,有望提高材料的传感性能.     

水下等离子体声源脉冲放电光谱测量与分析

本文采用HR4000CG-UV-NIR光纤光谱仪和NI-PCB压力传感器测量了水下等离子体声源脉冲放电光谱和强声波的压力幅值,分析了声与光之间的能量转换关系,并重点观察了不同放电参数对光谱特征的影响。实验结果表明,等离子体声源脉冲放电光谱为连续谱,能量主要集中在500 nm左右的谱段;放电产生的光能量和声波能量相互竞争,具有此消彼长的关系;提高放电电压,减小电极间隙距离可以提高光的辐射强度和半峰值谱宽度;增大电极间隙距离,将使发光能量向远紫外区移动;更换电极材料将明显改变光的谱分布和强度变化。     

槽沉法制备长余辉发光玻璃微球

选择铝硼硅酸盐玻璃体系，高温熔融法制备了Eu，Dy掺杂的铝硼酸盐基质透明玻璃，并采用槽沉法制备了透明玻璃微球．利用XRD、SEM和荧光光谱对样品进行分析．结果表明：该玻璃微球粒径分布范围窄，光学性能好，其折射率为1．690；单掺杂和双掺杂玻璃微球均具有长余辉发光性能，单掺杂Eu^2＋发光峰位于460nm，而双掺杂Eu^2＋、Dy^3＋的发光峰分别位于456和452nm，并且样品的发光时间达到15h以上。     

CaWO_4粉体和CaWO_4一维阵列的制备及光致发光特性

采用溶胶-凝胶法及辅助氧化铝模板法分别制备CaWO4粉体和CaWO4一维阵列,研究合成CaWO4粉体和一维陈列的光致发光特性。结果表明,制备的样品是纯CaWO4粉体;CaWO4粉体的强发光峰是位于410 nm的宽带谱,而CaWO4一维阵列的强发光峰在450 nm处,其光致发光曲线呈现宽化和强发光峰位的红移,这是样品和模板的光致发光光谱耦合的结果。     

更轻、更亮的铝箔等离子灯

美国伊里诺伊大学的研究人员制成了薄板微型腔等离子灯。这种灯比白炽灯更轻、更亮、更便宜。它由铝箔、蓝宝石和少量气体制成。等离子薄板灯由中间夹有透明氧化铝（蓝宝石）电介质薄层的两块铝箔制成。在灯的中心部位有一个腔体，它贯通上面的铝箔及蓝宝石。板式灯的厚度不足1mm，可像画框一样挂在墙上。有些类似于一般荧光灯，微腔等离子灯是一种辉光放电器件；气体原子被电子激发而辐射光线。但是，微腔等离子灯中的等离子体是在一个微小的腔体中形成的，无需镇流器、反射器和重金属外壳。     

利用电子回旋共振放电提高氢原子制备效率方法研究

基态氢原子的制备是氢原子钟工作的基础,提高氢原子的生成率极为重要.针对电离泡内氢等离子体中的原子成分不易直接被探测的情况,本文将软件仿真模拟与实验光谱诊断相结合,研究泡内原子成分.采用COMSOL软件建立射频感应耦合等离子体(ICP)和微波电子回旋共振(ECR)两种放电模型,模拟了一定输入功率、不同气压下氢等离子体中原子密度的分布规律.根据仿真模型,使用ICP和ECR两种电离源在通氢的石英制电离泡内形成等离子体,测量了一定输入功率、不同气压下的辐射光谱强度.结果表明,15 W输入功率、8 Pa~14 Pa气压时,微波ECR放电产生的原子密度明显高于射频ICP放电,可知此时微波ECR放电能更高效地产生氢原子.该研究显示出微波ECR放电在氢原子钟上的应用前景.     

无汞平面光源亮度与发光效率的优化

为了提高无汞平面光源的发光效率和避免放电收缩,本文设计并制作了一种新型的具有弧形电极结构的12寸无汞平面光源,基于该新型结构光源,对不同气压下Ne+Xe(10%),Ne+Xe(15%),Ne+Xe(30%)三种混合气体的光电特性以及驱动脉冲波形的上升沿对亮度及系统发光效率的影响进行了研究与分析。实验结果表明,平面光源的亮度随着气压的升高以及Xe含量的增加而升高,在60 kPa时采用Ne+Xe(30%)气体,其平均亮度可达7500 cd/m2;在气压低于60 kPa时,发光效率随气压的升高而急剧上升,随着气压的进一步升高以及Xe含量的增加,发光效率上升趋势逐渐变缓,甚至呈下降的趋势,在50 kPa时采用Ne+Xe(30%)系统最高发光效率可达23.7 lm/W;另外,通过优化驱动波形的上升沿,可以进一步提高平面光源的亮度及光效(约10%)。     

微尺度方波射流冲击阵列的传热特性研究

利用数值模拟研究微尺度下方波脉冲冲击阵列的传热特性,验证模型的合理性后,不断改变方波脉冲特性,分析各项参数对冲击换热能力的影响。通过分析流场云图,详细阐述了方波脉冲微射流强化换热的机理。计算结果表明:提高时均雷诺数可有效强化占空比为0.5的方波脉冲射流阵列的换热能力;通过改变脉冲频率来强化换热能力的实际效果与流态有关,在强化频段内,紊流的换热系数增幅可达20%,层流的增幅也可达到7.5%;在合理的参数条件下,方波脉冲射流可有效增强冲击效应和涡流扰动,从而强化射流阵列的换热能力。     

氩气中二维射流阵列的产生与特性研究

阵列型射流放电等离子体克服了单管射流放电处理面积小的缺点,是获得大面积等离子体和提高处理灵活性的有效方式。本文报道了在低成本氩气中产生稳定大面积二维射流阵列的研究成果。采用针-环-板结构的射流单元蜂巢状排列组成二维射流阵列,利用高频电源驱动,通过优化气流等条件,获得了氩气中稳定的二维射流阵列放电。诊断了射流阵列的电气特性、发光特性及发射光谱,并得到放电功率、传输电荷和放电空间粒子强度随外加电压和管间距的变化规律。研究了管间距和气体流速对射流阵列均匀性和稳定性的影响,并结合射流单元之间的耦合作用对实验结果进行分析。结果表明,稳定射流阵列工作的电压范围为8~9.5 kV,管间距分别为2,5,8mm时,其工作面积分别为7.64,15.3和29.6cm~2。稳定射流阵列的放电电流和放电功率可达上百毫安和上百瓦,其放电参量和主要活性粒子强度均随外加电压的增加而增加。外加电压固定时,管间距对射流阵列的放电功率和传输电荷等参量影响不大。管间距和气体流速对射流阵列放电均匀性影响明显,随管间距减小和气体流速的增加,射流单元之间的排斥效应越明显,管间距为2mm时,射流单元之间的库仑力最大,管间距为8mm时,射流单元未出现偏移。     

等离子体显示板真空紫外荧光测试系统

设计等离子体显示板(PDP)真空紫外荧光测试系统来测评PDP荧光粉的特性。系统通过巧妙设计测试腔,模拟PDP放电单元,为激发PDP荧光粉发光提供所需要的较强真空紫外线,使系统能够分析出荧光粉的光谱功率分布、发光亮度、带宽、发射谱线主峰波长、色品坐标、颜色纯度和主波长等各种光学特性。实验结果数据表明,该系统的可重复性好、精度高,为研制高质量的等离子体显示板提供了依据。     

坡流挤压涂布嘴变截面腔体的理论探讨

本文从简化的流体连续方程和N·S 方程出发,讨论坡流挤压涂布嘴缝隙内乳剂的泊阿苏依流动,给出缝隙内乳剂流量公式,并根据相对误差概念求出受缝隙宽度和高度,隙缝进出口的乳剂压力降即相应的腔体乳剂压力分布等影响的涂布涂层宽向不均匀度公式,由此表明等截面腔体乳剂压力分布不均匀度难于等于零。将腔体截面视为变量,从流体力学的能量和动量定律出发,推导出理想流体和粘性流体(可把乳剂看作粘性流体)在腔体内压力分布均匀的条件是,腔体取线性变横截面积,即抛物线变横截面半径的分布规律,并给出公式。指出该结论对类似的流延嘴和挤压嘴有同样意义。坡流挤压涂布作为涂布工艺的重大技术突破,以其快速、多层、薄层和高粘度乳剂涂布的优越性广泛应用于感光材料工业。对涂布嘴的理论与实践的研究一直是一个重要课题。本文试图就涂布嘴腔体取变截面分布规律对涂布涂层宽向均匀度的影响进行理论探讨。