非晶态Ni-W合金镀层的高温氧化性能研究

研究了Ｎｉ－Ｗ合金镀层的抗高温氧化及镀层加热处理后的硬度。为了进一步提高非晶态合金（Ｎｉ－Ｗ）镀层的性能,往镀液中又加入了Ｐ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｂ元素。     

电沉积镍基合金及其纳米复合镀层的研究现状

电沉积镍基合金具有独特的物理、化学和机械性能,并且能够得到性能更为优异的非晶态合金,具有广阔的应用前景和乐观的发展趋势.综述了近年来国内外电沉积镍基合金及其纳米复合镀层的研究现状和发展动向,展望了今后电沉积镍基合金的发展前景,并指出了纳米复合镀中仍待进一步探讨的问题.     

非晶态Ni-P-ZrO2复合镀层的耐磨性能

采用纳米ZrO2作为复合粒子,通过电镀方法制备非晶态Ni-P-ZrO2复合镀层,研究纳米ZrO2粒子及热处理温度对复合镀层耐磨性能的影响。结果表明:纳米ZrO2粒子的存在不影响镀层基质金属的非晶态结构;镀态下Ni-P镀层的磨损受黏着磨损和犁削磨损机制共同作用,耐磨性能较差,纳米ZrO2粒子的加入,缓解了镀层的黏着磨损和犁削作用,使磨损量大幅降低;非晶态Ni-P-ZrO2复合镀层在350℃热处理温度下已转变为晶态结构,镀层具有最高的耐磨性能,其磨损方式为磨粒磨损和脆性剥离。     

Ni-Mo-P非晶态合金电沉积工艺及镀层耐蚀性

通过正交试验优化镀液组成和工艺参数,用电沉积法获得了外观呈银白色、平整光滑的Ni-Mo-P非晶态合金镀层。用扫描电镜、X射线衍射、能谱分析及电化学极化曲线法研究了镀层的表面形貌、组织结构、化学组成及耐蚀性能。结果表明,由于钼元素的加入,镀层的组织结构得到改善,致密性增加,在5%NaCl和0.5mol/L H2SO4溶液中的耐蚀性较不锈钢和Ni-P非晶镀层的更为优异。     

电沉积非晶态铬镀层及其耐蚀性

在低浓度铬酸溶液中，室浊罡获得了镜面光亮的铬镀层，Ｘ射线衍射，透射电镀选区电子衍射（ＳＡＥＤ）表明，镀层为非晶态。非晶态铬镀层在１ｍｏｌ／ＬＨＣｌ、１ｍｏｌ＝ＬＨ２ＳＯ４和３％ＮａＣｌ溶液中的俯腐蚀结果，与传统铬镀层相比，非晶态铬镀层具遥更为优良的耐蚀性能。     

(Ni-W)-ZrO2非晶复合镀层的制备及其性能

报道了制备（Ｎｉ－Ｗ）－ＺｒＯ２非晶复合镀层的电沉积工艺,获得了含１０．０％～３６．２％（Ｖｏｌ）ＺｒＯ２非晶复合镀层。用Ｘ射线衍射技术分析了镀层的结构,测定了镀层的ＤＴＡ曲线、硬度和高温抗氧化性能。结果表明,ＺｒＯ２微粒的引入,明显提高了非晶Ｎｉ－Ｗ合金的热稳定性、硬度和高温抗氧化性能。     

电沉积非晶态铬镀层的研究及其应用

对电沉积非晶态铬镀层的研究现状,非晶态铬镀层的组织与性能特点进行了全面的综述,指出了研究中尚未解决的问题,展望了非晶态铬镀层在工程中的应用前景.     

固体微粒对合金镀层结构的影响

研究了形成复合镀层过程中固体微粒结构对基质金属结构的影响。结果表明，固体微粒晶体结构的对称性越高，越易使基质合金晶体化；微粒晶体结构的对称性越低，越易保持基质合金的非晶态结构。     

双向脉冲快速电沉积非晶态Ni-P/Al_2O_3复合镀层

采用双向脉冲电沉积法制备出高P非晶态Ni-P/Al_2O_3复合镀层,利用扫描电镜(SEM)和能谱分析(EDS)方法考察镀层的微观形貌和化学组成,采用X射线衍射技术(XRD)表征镀层的相结构,并通过分析金属镀层和复合镀层的电化学测试结果,评价不同种类镀层的耐腐蚀能力。结果表明:与直流电沉积法相比,双向脉冲电沉积法可将镀层中的P含量提高至12.06%(质量分数),有利于非晶态Ni-P合金镀层的形成。采用双向脉冲法制备的Ni-P/Al_2O_3复合镀层比直流电沉积法制备的Ni-P/Al_2O_3复合镀层更平整、结晶更致密。脉冲电沉积法制备的非晶态Ni-P合金镀层具有更好的耐蚀性,而且复合微粒Al_2O_3的加入,对进一步提高非晶态Ni-P合金镀层的耐蚀性有积极作用。     

电沉积Zn-Fe-SiO2复合镀层研究

报告了电沉积Zn-Fe-SiO2复合镀层的研究结果,论述了电流密度、极间距、搅拌方式、阳极数量及排布方式、添加剂等对Zn-Fe-SiO2复合镀层的影响及试验所取得的技术指标,并分析了生产过程的安全性及环保性。试验结果表明,Zn-Fe-SiO2复合镀层工艺具有过程稳定性好,维护措施简单方便,生产的环保及安全性好等优点。     

316L不锈钢Ni-W-P非晶态化学镀层的耐腐蚀性能

为了弄清316L不锈钢Ni-W-P非晶态化学镀层的耐腐蚀性能,以模拟人工汗液和5.0%H2SO4溶液为腐蚀介质进行了阳极极化试验.结果发现,镀层厚度超过10μm时:(1)Ni-W-P非晶态化学镀层的耐蚀性能与316L不锈钢基本相当;(2)在前48时,Ni-W-P非晶态化学镀层耐汗液的抗变色能力也与316L不锈钢相近,但随着浸泡时间的延长,抗变色能力较316L不锈钢差.     

非晶态Ni－W合金电镀及其耐蚀性研究

本文研究了Ｎｉ－Ｗ非晶态合金电镀共沉积的规律及其耐蚀性。结果表明，镀膜中钨含量达到４３．３ｗｔ％以上时，形成非晶态结构，且该镀膜可在较宽的电势范围内形成钝化膜，具有较强的耐蚀性     

非晶态Ni－W合金镀层的高温氧化性能研究

研究了Ｎｉ－Ｗ合金镀层的抗高温氧化及镀层加热处理后的硬度。为了进一步提高非晶态合金（Ｎｉ－Ｗ）镀层的性能，往镀液中又加入了Ｐ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｂ元素。     

非晶硅光敏材料的高电阻率化研究

本文研究了用于制造非晶硅感光鼓的高阻非晶硅光敏材料，通过微量掺Ｂ、Ｏ，控制ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜中的ＳｉＨ２和ＳｉＨ基团的组成比，有效地实现了非晶硅材料的高电阻率化，其暗电阻率ρｄ≥１０＾１３Ω·ｃｍ，在可见了光至近红外光范围内，具有很高的单色光电导增益，σｐｈ／σｄ≥１０＾３。分析了ａ－Ｓｉ：Ｈ［Ｂ、Ｏ］材料ＩＲ谱的特征，说明了氧原子和硅－氢基团对微结构的影响及其在支配非晶硅光电性能方面的重要作用。     

电化学方法制备非晶态铬工艺的研究

本文研究了从三价铬电镀溶液中获得非晶态铬镀层的工艺，用ＥＤＸ和ＷＤＸ测定了镀层的组成，表明镀层是由铬和少量的碳组成：用Ｘ—射线衍射测定了镀层的结构；发现镀层在２θ为４３°时，有非晶态的特征峰“ＢｒｏｎｄＧａｕｓｉｏｎＰｅａｋ”；并且用ＥＧ＆ＧＰＡＲＣ电化学软件研究了电镀溶液的电化学行为。     

电沉积法制备ZrO_2薄膜的工艺研究

研究了水溶液中电沉积ZrO2薄膜的工艺,系统分析了镀液成分、pH值、电流密度及沉积时间对电沉积ZrO2薄膜的影响规律,并分析了薄膜的厚度、成分和形貌等。研究结果表明,在硝酸锆水溶液中加入一定量的络合剂和添加剂,可以得到与基体结合好、分布均匀的ZrO2薄膜。     

Thermal Conductivity Measurements of Thin Amorphous Silicon Films by Scanning Thermal Microscopy

Thermal conductivity measurements of thin amorphous silicon films performed with a micro-thermistance mounted on an atomic force microscope are presented. A specific thermal model is implemented, and an identification procedure is proposed to extract the film contribution from the apparent thermal conductivity. Results show agreement with the literature regarding interface resistance data, but lower thermal conductivity values are obtained.     

铁钴镍基非晶态软磁材料的研究

研究了１０钟以铁钴镍为基的非昌态软磁材料，对非晶态合金的成分，熔点，晶化温度，居里温度及一些磁性能作了分析比较、将将材料制成元件装到电子镇流器上试验，研究结果表明，铁磁元素铁钴镍的含量比例，是影响非晶态磁性的主要因素；类金属元素对软磁材料的磁性能也有一定的影响，含磷的非晶态合金的熔点，晶化温度及居里温度比含碳的较高。     

机械镀无结晶镀层致密化分析

采用少锡盐沉积机械镀锌工艺制备了机械镀锌的镀层.利用扫描电镜(SEM)观察机械镀锌层的断口形貌,借助晶体学的基础理论分析了镀层的结构,按其规律用散乱钢球堆积模型直观地模拟了镀层的立体结构,以此分析镀层的致密化机理.结果表明,机械镀锌镀层中的锌粉颗粒以散乱密堆的方式结合,形层过程不发生结晶现象;研究建立了机械镀无结晶镀层的最密填充理论模型,定量求得了镀层的孔隙率.