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本文对稻壳合成SiC晶须(简称SiCw)的副产品SiC颗粒(简称SiCp,牌号BP)的合成及特性进行了研究,运用TEM、XRD等分析检测技术,对SiCp的形状、结构、粒度分布等进行了研究。研究表明:BP-SiCp呈无规则形状,以β-SiC为主要晶型。由稻壳生产的BP-SiCp,粒度小于10μm的占76%。此外,对BP-SiCp在复合材料上的应用进行了展望。 相似文献
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本文对Al_2O_3(Ti,W)C和SiCw-Al_2O_3(Ti,W)C的力学性能进行了分析对比,研究了热压工艺、SiC晶须含量、晶须分散效果和晶须/基体的复合情况等对Al_2O_3(Ti,W)C复相陶瓷力学性能的影响。从热膨胀系数失配角度分析和微观结构的观察证实,SiC晶须及(Ti,W)C固溶体对改善Al_2O_3陶瓷力学性能的效果是显著的,SiC_w-Al_2O_3.(Ti,W)C陶瓷材料的增韧机制主要是裂纹偏转和裂纹桥接。 相似文献
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用分析电镜研究SiC晶须的显微结构,按结构特征SiC晶须分为一维无序结构和呈竹节状两类。SiC晶须具有分叉现象,一种是在一个主干上长出几个分支,另一种由一段双晶和分叉成两支晶须两部分组成。SiC晶须双晶互为{221}孪晶关系,孪晶界面平行于基体的(001)M;研究了SiC晶须的热稳定性,发现α-SiC的热稳定性更好些。 相似文献
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稻壳SiC晶须生长工艺和机理研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在以稻壳为原料,氧化物类作催化剂反应生成SiC晶须的过程中,催化剂的主要作用是形成液相,晶须生长方式以VLS为主,同时料内有少量VS方式生长的晶须,料表面有少量CVD方式生长的晶须。 相似文献
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本文在1473~1972K温度范围内对激光合成的、平均粒径为30nm的非晶Si-N-C粉进行热处理(latm.N2,1h);研究了粉体的晶化及微结构变化,结果表明,纳米非晶Si-N-C粉具有短程有序的亚稳结构,此亚稳结构在>1523K发生稳定团相分离,在1773K开始形成α-Si3N4;β-SiC,此时粒子间出现明显的表面扩散形成粒子簇;到1873K晶化加剧,α-Si3N4和β-SiC明显增多,并有少量的石墨碳形成。在1773~1873K,由固相分离形成α-Si3N4/β-SiC纳米复合结构。 相似文献
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采用热压烧结工艺制备了纳米SiC颗粒和SiC晶须协同补强增韧的Si3N4基纳米复合陶瓷材料,并对其微观结构和力学性能进行了研究。结果表明:该复合材料室温抗弯强度达1080MPa,断裂韧性K1c值达11.7MPam^1/2。纳米SiC颗粒和SiC晶须对Si3N4基体具有较好的协同补强增韧作用。 相似文献
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从SiC晶须性能及晶须表面氧化层特性角度研究分析了SiC晶须特性对其在Si_3N_4陶瓷基体中补强、增韧行为的影响。结果表明,晶须的直径、长径比值正比于晶须补强、增韧Si_3N_4陶瓷基体的能力。表面粗糙晶须对Si_3N_4复合材料的强度影响不大,却能显著地改善其韧性。晶须表面氧化层增厚,表面氧化硅从Si-O单键形式转化成为SiO_2后,晶须在Si_3N_4基体中的补强、增韧效果非但没有降低,还略有增加。 相似文献
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本文研究了SiC晶须增韧氧化物陶瓷基复合材料中的晶须/基体界面结构性质及其在补强增韧作用中的作用机制。TEM观察结果表明:复合材料中的SiCw/Al2O3、SiC2/ZrO2(2Y)和SiCw/ZrO2(6Y)界面结合致密,在分析电镜下未发现明显的界面过滤层或界面相,由于膨胀失配而受拉应力作用的界面基体一侧往往成为微裂纹形核的有利部位,ZrO2中t-m相变的体积膨胀效应可以抵消这种热应力,调整基体 相似文献
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以稻壳为原料是合成SiCw的一个重要方法,本文对VLS机理下SiCw的生长速率控制步骤进行了研究,并以此研制了亲的复合催化剂,提高了生成速率,结果表明,稻壳原料中心SiO2与C在高温下生成SiO的反应不仅是生成SiCp也是生成SiCw的生长速率控制步骤。 相似文献
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非晶态Ni-P-SiC涂层的沉积机理与特性研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了非晶态Ni-P-SiC涂层的沉积机理与特性。SiC在机械搅拌力的作用下,随着Ni-P的沉积而机械复合,且保持Ni-P的结构。SiC的加入,显著改变了Ni-P的沉积特性,与Ni-P涂层相比,非晶态Ni-P-SiC涂层具有更高的硬度和耐磨性,孔隙率和抗蚀性变化不大。 相似文献
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SiCw/Al—Li复合材料的热处理强化效应 总被引:1,自引:1,他引:0
本文系统地探讨了热处理工艺对SiCw/Al-Li复合材料的时效强化特性的影响。研究表明,SiC晶须的加入显著加速了Al-Li合金的时效析出过程,在190℃时效条件下,SiCw/Al-Li复合材料在6h就已达到峰值时效,提高固溶温度可以增加复合材料的峰值时效硬度,而增加固溶时间对峰值硬度无明显的影响。 相似文献
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以稻壳为原料的国产BP-SiCw的生长机理为一维的VLS生长。BP-SiCw的直径变化规律遵守晶体一维VLD生长的直径变化规律。即:炉子加热功率的波动越大,晶须表面的粗糙现象越严重。保护气的热容量越大,和炉体进行的热交换量越多,生产出的BP-SiCw的直径也越粗。氢气氛下生产的BP-SiCw表面光洁度优于氩气氛下生产的BP-SiCw产品。 相似文献