含晶界场离子显微镜—原子探针试样的制备技术

应用电子显微镜和脉冲抛光技术，成功控制了晶界在场离子显微镜一原子探针试样中的位置，使其处于场离子显微镜一原子探针的有效分析范围内，获得铁索体不风含晶场离子显微镜一原子探针试样的制备条件，制成含晶界Ｆｅ－１７Ｃｒ合金试样。     

双辅电极不锈钢电化学抛光技术

提出了双辅助电极电化学抛光技术，研究了实现双辅助电极电化学抛光的设备结构，分析了双辅助电极电化学抛光的基本原理，提出了双辅助电极电化学抛光的工艺规范，结果表明：双辅助电极电化学抛光具有抛光质量高、工件装夹方便等优点，尤其适应于不锈钢管内表面的抛光。     

自行车钢球行星抛光加工工艺

阐述了自行车钢球行星抛光的机理，介绍行星抛光设备，进行新旧抛光工艺的对比，指出了行星抛光加工工艺的发展方向．     

EVE与3M抛光组合对全瓷牙材料抛光后效果影响

验证EVE与3M抛光组合对两种常用临床全瓷牙材料的抛光效果,为全瓷牙抛光修复的临床操作提供依据.实验设置了:(1)1组:临床上釉对照组;(2)2组:绿色碳化硅砂石+氧化铝白砂石依次混合打磨抛光复合组作为对照组;(3)3组:绿色松风陶瓷Ceramaster精细烤瓷砂石抛光复合组作为对照组;(4)4组:绿色碳化硅砂石+氧化铝白砂石+德国EVE氧化锆抛光组合;(5)5组:金刚砂车针+碳化钨车针+氧化铝抛光盘sofa-lex+橡皮抛光头组合.分别对两种常用的临床全瓷修复材料(改良型玻璃陶瓷Vita Serenity,多晶陶瓷氧化锆Cercone)调磨后的试件进行抛光处理,然后对抛光后的试件进行表面粗糙度和电子显微镜测试结果统计学分析.结果表明两种全瓷材料使用不同的抛光工具,不同组间存在着显著性差异.EVE组合对氧化锆组抛光效果较好,抛光效果优于对照组,3M组合对玻璃陶瓷组抛光效果较好,与对照组无统计学差异.本研究表明正确的临床精细抛光方法可以使修复体达到类似上釉的效果,有效提高全瓷修复体的长期稳定性和美观性,避免对颌牙釉质的过度磨耗,增加患者的满意度.     

自行车钢球行星抛光加工工艺

阐述了自行车钢球行星抛光的机理，介绍行星抛光设备，进行新旧抛光工艺的对比，指出了行星抛光加工工艺的发展方向。     

球面柔性抛光机

该设备由陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室研制开发，通过压缩气体使柔性抛光材料表面产生变形，以达到抛光模和被抛光零件密切大面积接触的目的．通过调节支撑件的摆幅、角度以及气体压力，达到非球面光学零件表面的均匀柔性（不改变原有面形）抛光．主要用于光学零件加工及超精密加工装置，特别适合非球面研磨机床磨削成形后的非球面光学零件柔性抛光加工，     

镍铬合金钢脉冲电流电化学抛光工艺研究

机械零件的表面质量直接影响其使用寿命。采用电化学机械复合抛光，可以大大提高机械零件的抛光效率，但对于深小孔等抛光工具（磨头）很难深入的小结构，采用此方法工艺上很难实现。脉冲电流电化学抛光可以经济有效地对复杂形状的零件型腔进行抛光。对镍铬合金材料试件进行了脉冲电流电化学抛光的工艺试验，讨论并分析了实验结果，得出了加工参数对表面粗糙度的影响规律，以及各加工参数影响表面粗糙度的经验公式。     

单晶硅片的区域载荷法平坦化抛光

基于弹性力学的圆板接触理论，分析了在抛光过程中硅片与抛光垫之间的接触压强分布与被抛光硅片的平面度误差的关系，提出了使用区域加载的方法来均等硅片抛光表面的接触压强，并进行了抛光试验，获得了平面度误差小于0．33μm的单晶硅片。这个研究为单晶硅片的集成平坦化抛光提供了一种新的方式。     

Cu-CMP抛光液中有机碱的化学作用实验分析

分析了带有羟基和双胺基的有机碱在Cu－CMP过程中的化学作用，为得到抛光液的最佳配比，在给定的实验条件下对铜进行抛光实验，得到了铜的抛光速率随有机碱浓度的化学作用曲线，并得到了有机碱在抛光液中的最佳浓度。实验结果表明：随着抛光液中有机碱浓度的增加，抛光过程中的化学作用（络合反应）增强，铜的抛光速率随之增大，当有机碱增加到一定浓度时，抛光速率达到最高值，并相应得到了最佳的抛光表面。     

硼硅玻璃薄膜的抛光工艺

对硼硅玻璃产品的用途及加工表面质量要求进行了分析,以自制抛光机为抛光工具,抛光薄膜为抛光膜,水作为抛光冷却液,通过对大量抛光实验数据的研究,拟定了最优的硼硅玻璃薄膜抛光过程工艺.该工艺不仅可以满足加工要求,而且其冷却液还具有绿色环保作用.     

花岗石抛光磨石的分析研究

通过对国内外抛光磨石的硬度，主要组成的成分，含量和组织结构进行分析，对比，找出了国内外抛光磨石的性能差别，提出了制作优质抛光磨石可供借鉴的方向和性能指标。     

基于姿态控制的模具自由曲面柔性抛光过程研究

通过对抛光去除模型中关键参数的研究,并结合实验数据分析,得到柔性抛光过程中的理想姿态控制参数和理想线速度,建立了无干涉抛光过程数学模型.在此基础上,提出一种抛光工具的姿态控制算法,以保证抛光过程中,自由曲面工件各接触点处的抛光参数相同,并以工业机器人Motoman-HP20为对象,实现了理想的抛光头姿态控制.     

微秒级脉冲电流电化学抛光的试验建模与工艺

针对电化学抛光时，在窄缝、盲孔处电解液流动性差的困难．根据试验数据，采用正交试验法与逐步回归分析法相结合和人工神经网络法，分别建立了微秒级脉冲电流电化学抛光的数学模型和网络输入输出模型，探讨了抛光机理，并对两种模型的加工效果进行了比较．结果表明，由于电解液发生扰动，有利于排除电解产物，提高了抛光质量，而基于人工神经网络建立的模型具有更好的加工效果．     

不锈钢管内表面电化学抛光技术的研究

根据电化学抛光的一般原理，采用双辅助电极法实现了不锈钢管内壁的抛光；通过正交试验分析论证了各工艺因素对抛光后粗糙度的影响，得出了最佳抛光液的成分配比及相应的操作条件。     

含草酸磨具在大理石抛光中的作用

用扫描电镜，电子探针，化学分析等方法对含草酸磨具在抛光大理石中的作用进行了研究，分析了抛光作用机理。     

大理石抛光层形成机理研究

抛光是石材加工中极重要的一道工序,对于抛光机理,长期以来一直处于假说阶段。本文针对大理石的四类抛光方法,运用实验观察,表面分析,仪器检测等方法进行了系统地研究。认为四类抛光方法均属于机械、热物理和化学作用的联合作用过程,以检测数据结合理论分析手段提出了抛光表面存在有机化合物薄层的观点。     

单晶锗光学表面数控高速抛光优化试验

为研究单晶锗镜片表面光洁度无法达到要求的加工技术难题,基于数控高速抛光方法,开展了聚氨酯和沥青两种抛光模的数控高速抛光优化试验,以Preston理论为基础,通过不断优化工艺流程和参数,结合运动轨迹仿真和功率谱密度计算,对比分析了两种抛光模的加工效率和表面质量控制能力.试验结果表明:两种抛光方式均能获得较高的面形精度,聚氨酯抛光模具有较高的加工效率,但光学表面微观形貌控制能力较差,沥青模抛光得到的表面粗糙度RMS相比聚氨酯模提升近3 nm.通过单晶锗光学表面数控高速抛光试验,最终优化并提出了聚氨酯初抛光与沥青精抛光相结合的方式,并进行了试验验证.     

模具复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺，认识了其加工规律和特点，并将其应用于生产实际，形成模具复合抛光的系统技术。     

新型电流变抛光工具开发及其抛光实验

针对当前电流变抛光研究中所用尖锥状工具要求抛光间隙为μm级、对设备定位精度要求高及抛光非导体需加辅助电极等不足,研制了一种新型的电流变抛光工具——集成电极工具。介绍了集成电极工具的结构,并对其电场分布进行了计算。新工具不仅可以抛光导体工件,而且也可以抛光非导体工件。工具与工件之间的抛光间隙可以大到mm数量级。以碳化钨(WC)和光学玻璃为对象,分别进行了抛光实验,并通过单因素实验给出了电压、转速、磨料浓度、抛光时间等因素与表面粗糙度的关系曲线。实验结果表明:抛光10min后,WC的表面粗糙度由Ra66.48nm下降到Ra33.18nm;光学玻璃的表面粗糙度由Ra11.02nm下降到Ra3.67nm。     

铝合金机器人砂带恒定力抛光系统设计及仿真

以铝合金制件的砂带抛光成型为目标,研究了铝合金机器人砂带抛光的工作原理和工艺流程,对铝合金抛光系统的张紧气缸推力、调偏电机扭矩和主动轮规格进行了计算,绘制了铝合金砂带恒定抛光机三维图纸。抛光机系统由机器人及夹具、砂带抛光机、电气控制系统、双向上下料装置等组成。在此基础上设计了恒定抛光力的机器人抛光控制系统,采用变频器电流反馈和气缸推力自调整的双闭环系统实现抛光力恒定控制,并对所设计的机器人抛光的运动轨迹进行了模拟仿真,验证了所设计的铝合金抛光机的合理性和可靠性。