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镀铬质量的好坏与镀铬溶液中三份铬离子的含量密切相关。当三价铬离子含量过低时,电镀铬沉积速度慢,镀层软,溶液均镀能力差;而当三价铬离子含量过高时,镀层光亮度差,光亮范围缩小。通常镀铬溶液中三价铬离子含量应保持在2—4g/L。提高镀液中三价铬离子一般采用小阳极大阴极电解处理方法,这种方法要求在特定条件下进行 相似文献
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1.通常,镀镍溶液的pH值过高会使镀层__。2.镀镍液中不允许NO_3~-根存在,通常,它会使镀层__、__。3.镀镍液中的铜杂质过高时,可加入适量的__除去。4.当镀镍溶液中铁杂质高时,往往会造成镀层__、__。5.镀镍液中的铁杂质,一般用先氧化、后调pH值至_的方法,使之沉淀过滤除去。6.我国工业废水排放标准规定,Cr~(6+)含量的最高允许值为__mg/l。7.我国工业废水排放标准规定Cd~(2+)离子为_类有害物,最高允许含量为__mg/l。 相似文献
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我厂在连续大批曼镀铬生产中,由于镀件形状复杂、体形大,需要大景外加阳极,因而大量消耗了镀铬溶液中的三价铬,以致影响沉积速度,镀层质量变劣,均镀性能降低.当镀液中三价铬含量低于1.2克/升,镀铬就难以进行,不得不采用1∶5的阳极(铅极)和阴极(薄钢板),在50~60℃,阴极电流密度5~lO安/分米~2进行处理.但这个方法效率缓 相似文献
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请迅速回答下列问题(填空)〔10〕攀攀卜 O、户,尸、尸、J 11洲、尸﹃月产﹃J、J了‘2八O注‘口d八勺勺了89广.﹄尸l、尹.﹄已且︸尸t\1 JILr口工尸L本题欺鸿势答案(试题见40页)解电膜隔酸〔1〕〔3〕〔5〕促进、少〕快、好、工旦〕、磷,____提高 好二2〕二丁烯毕〕一锡〔6〕降低〔8〕大,差_____习卫王.夔、__「、入___________,‘,‘1了户、尸气﹄了叹了气1,厂﹄‘J了﹄夕见户L/、乙Jr、‘2 rl了厂第二十次电镀基础知识智力测验@陈仲伟
@苏冠宇~~… 相似文献
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本文是日本林忠夫先生在第12届世界表面精饰会议上发表的论文.从电镀镍、锌和铜溶液中可以获得红色、橙色或柠檬黄色的含蜜胺或丙烯-苯乙烯树脂萤光颜料的彩色复合镀层.当镀液中有机微粒的浓度不断增大,直至20克/升为止时,镍、锌镀层中有机粒子的含量亦随而不断增大.但当粒子浓度超过20~30克/升时,镀层中粒子的含量便持平.虽然剧烈搅拌镀液会促使粒子聚集在阴极上,但悬浮的粒子具有更高的动能,它会加速离子从阴极解吸.由于金属的沉积速度随阴极电流密度的升高而加快,而粒子同阴极表面的相互作用可以加速粒子在镀层中的共沉积.因此所得复合镀层具有荧光颜料和镀层金属组合而成的独特的色调.彩色复合镀层的耐磨性较差,为防止其脱色及提高彩色层的耐磨性,可在彩色复合镀层上再镀上一层光亮的Ni、Cr或Au层,也可涂上透明清漆.用复合镀的方法制得的含有机荧光颜料的彩色复合镀层可用于荧光金属板的生产以及作为装饰性彩色镀层. 相似文献
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甘J倒.、iJ“.J衬、d叫,.了嘴.产、.︸司.日月.澳议︸。扩习:盖〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕〔6〕〔6〕〔7〕〔日〕〔9〕化学镀镍层的电导比纯镍一一,其主要原因是镀层结构和含一一量的影响。化学镀镍层的杭蚀能力比标准镍层高,主要因为前者镀层的孔隙一一且含一一。化学镀镍溶液中常用的次亚磷酸钠是一一一一。化学镀镍液中的次亚磷酸钠,能提供活泼的一一一一,把镍离子还原成金属镍。在碱性化学镀镍液中,沉镍速度随次亚磷酸盐浓度增加而一一,但浓度过高时,溶液稳定性将__。化学沉镍的速度随溶液的pH值提高而一一,但过高时,溶液的稳定性将一一。… 相似文献
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在中性镀镍电解液中,以柠檬酸钠作为镍配位剂,镀液温度控制在45℃,研究了柠檬酸钠含量和阴极电流密度对镍镀层表面形貌、电解液电流效率和阴极极化的影响。结果表明,当阴极电流密度为0.6A·dm~(-2)、柠檬酸钠质量浓度为120g·L~(-1)时,镀层平整致密且裂纹较少,电流效率最高。糖精作为光亮剂,能较好地减少镍镀层裂纹,当糖精质量浓度为1.8g·L~(-1)时,裂纹彻底消失,但对划痕的消除效果不佳。但过高的糖精质量浓度不利于镀液电流效率,糖精质量浓度为0.6g·L~(-1)时有较好的镀液电流效率。 相似文献
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分别讨论了工件内腔镀硬铬液的组分———铬酸酐、硫酸和三价铬的含量对镀层性能的影响:铬酸酐的含量过高,镀层硬度降低。硫酸根的含量过高,镀液的分散能力和电流效率降低,并且镀液中Cr3 的含量上升;含量过低,会使镀件凹处的镀层薄,甚至无镀层沉积。Cr3 含量偏高,槽电压升高,光亮区变窄;含量偏低,分散能力降低,镀层光泽性不好,镀后工件水洗性不好。其最佳含量分别为:铬酸酐220~250g/L,硫酸与铬酸酐的质量比1∶(110~120),Cr3 2~4g/L。分别对30℃、40℃和50℃下的铬酐的质量浓度与镀液密度的关系,电镀过程中镀液温度与阴极电流密度及其与工件形状、阳极的设计和电极间距的关系,以及工件的预热温度、冲击电流和反向蚀刻等操作规范进行了介绍。 相似文献
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过去电刷镀都用镍镀层代替铬镀层,但镍镀层的耐磨性、硬度等性能不如铬镀层。本文研究了电刷镀铬的溶液及其施镀工艺。采用三价铬即硫酸铬做主盐,用甲酸铵做络合剂,用高纯石墨做阳极,工作电压选用8—13伏,并研究了施镀的工艺流程。在全光亮镍上镀铬,所得镀层系带青光的银白色金属,其耐蚀性能可以通过48小时盐雾试验,与基体结合强度高,可用作产品的表面装饰。 相似文献
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铁杂质是镀镍液中最常见的金属杂质,它来源于某些化工材料的不纯及钢铁件在镀液中的化学溶解。当槽液中的铁杂质含量达到一定浓度时,会造成镀层粗糙、产生针孔,槽液pH值高时还会形成Fe(OH)_3沉淀并夹杂在镀层中产生脆性、脱皮等疵病。可见定量测定铁含量在电镀工艺管理中是很有必要的。 相似文献
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采用化学镀法在硅基底上直接施镀了Ni-Co-P磁性薄膜,通过调整镀液中金属盐浓度比控制镀层中镍、钴含量,优化薄膜软磁性能。采用SEM、EDAX、XRD和VSM研究了镀液中不同的镍、钴浓度比对薄膜形貌、成分、厚度、镀速、结构和磁性能的影响。结果表明:化学镀Ni-Co-P薄膜由瘤状Ni-Co颗粒组成,镀态的Ni-Co-P镀层由非晶相构成。随着镀液中Co2+浓度的增加,镀层中Co元素的含量增多,Ni元素的含量降低,但镀层的镀速减缓,当镀液中Co2+含量过高时,施镀非常困难,而镀液中金属盐浓度比对镀层中非金属元素P的沉积量影响不大。Ni-Co-P合金薄膜的饱和磁化强度随着镀层中Co元素含量的增加有上升趋势,矫顽力同时呈现下降趋势。当镀液中c(Ni2+)∶c(Co2+)=2∶3时,制备的Ni-Co-P镀层软磁性能最好,其饱和磁化强度达到820 emu/cc,矫顽力仅为4 Oe。 相似文献
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采用赫尔槽试验和直流电解方法研究了三价铬硫酸盐溶液镀铬工艺.研究结果表明,三价铬硫酸盐溶液快速镀装饰铬的最佳镀液组成和工艺条件为:Cr3+15g/L,主配位剂(甲酸)10 mL/L,辅助配位剂15 g/L,Na2SO4 144g/L,K2SO4 50g/L,硼酸60g/L,润湿剂1 g/L,镀液温度35℃,pH 2.5,电流密度12A/dm2.采用这种镀液组成和工艺条件在光亮镍镀层上镀装饰铬,电镀2 min和3min获得的光亮铬镀层厚度分别为0.32 μm和0.49μm,平均镀速可达0.16 μm/min.镀液中的辅助配位剂使镀液的覆盖能力增加,但电镀一定时间后,镀层厚度和平均镀速减小. 相似文献
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《电镀与环保》1986,(2)
传统的镀铬溶液会使催化剂浓度处于临界状态,所以必须经常分析调整。现发现,只要采用硫酸铅,配以一种次级活化剂,如硼酸、氟硼酸和氟钛酸或这种酸的盐类,即可制成自动调节镀铬液。本发明的镀铬溶液的优点是:在铬酸浓度很宽的范围内都是有效的,深镀能力极佳,在很宽的阴极电流密度范围内铬镀层都具有很高的光亮度,不发雾,即使镀到相当宽度,至少也具有缎状光泽;铬层不论多厚,总很光滑,且无树枝状结晶;镀液中无有机化合物。与电解液接触的固相量极小,上层液体与固相之间迅速地建立起平衡;镀液本身能产生具有微裂纹的铬镀层,可以通过选择适当电镀条件来预先确定每厘米长度上的微裂纹数;退去镀铬层时,不必抛光或沉积新鲜的镍层; 相似文献