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印刷电路板酸性光亮镀铜的研究 总被引:5,自引:1,他引:5
采用1286电化学接口及旋转圆秀电极测定了硫酸铜镀液阴极极化曲线和循环伏安曲线,结果表明,Cl^-有增大阴极极化的作用,同时还测定给了TDY添加剂镀液的深镀能力和分散能力,其分散能力为92%,深镀能力为41.3mm,镀液寿命达334A.h/L。镀层光亮,结晶细致均匀。 相似文献
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HEDP镀铜液在铜电极上的电化学行为 总被引:4,自引:2,他引:2
采用测量开路电位-时间曲线和阴极极化曲线的方法,研究了铜电极上HEDP镀铜的电化学行为.结果表明,HEDP体系的溶液组成与温度都会影响铜电极的稳定开路电位,电镀铜过程的阴极极化(镀层结晶质量)与极化度(镀液分散能力).溶液中HEDP浓度升高,则稳定开路电位变负,阴极极化和极化度增大,有利于电沉积铜的电极过程.溶液pH升高时,稳定开路电位变负,电沉积铜的阴极极化增大.溶液温度降低时,电沉积铜的阴极极化增大.阴极极化较小时的极化度较大,且随pH的升高或温度的降低而明显增大. 相似文献
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钢件直接镀铜性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文对硫酸铜-柠檬酸钠-磷酸氢二钾直接镀铜液与氰化镀铜液的性能进行全面对比,从溶液的分散能力、深镀能力、电流效率、电导率、阴极极化和极化度、时间-电位曲线及稳定性等试验结果表明溶液无毒、稳定、电化学性能好、电流效率高和沉积速度快。从镀铜层外观、内应力、孔隙率、氢脆性、定性定量结合力及防渗碳渗氰等试验结果证明,铜层与钢件基体之间的结合力很好,通过试生产说明能达到实际生产要求。从而初步解决了钢件在不含氰化物的镀液中,不要预镀或预浸处理就能直接镀上结合力好、孔隙率小、无脆性铜层的问题。 相似文献
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本文提出了一套新型的碱性氰化镀铜光亮剂GC93系列,为全有机合成物与某些络合物所组成。经与美国安美特公司2号碱铜光亮剂对比结果表明,两者处于同等水平,其中电流效率还高于安美特公司2号碱铜光亮剂。具有镀液稳定,容易控制,光亮范围广,长时间电镀也不起毛剌,走位能力特佳等优点。 相似文献
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2000型硫酸盐镀铜光亮剂的研制 总被引:5,自引:1,他引:4
2000型硫酸盐镀铜光亮剂在深镀能力、整平能力和出光速度上比以SP、M、N和P为光亮剂的配方有较大的改进和提高,而且镀镍前不必进行脱膜处理,其性能接近进口的210光亮剂水平。 相似文献
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介绍了高效率、高韧性、全有机氰化物光亮镀铜工艺。其BC系列、碱铜系列光亮剂能够大幅度提高铜镀层的沉积速度,光亮电流密度范围为0.15—5.0A/dm^2,以2A/dm^2的电流密度电镀时电流效率达到85%以上,沉积速度每分钟达到0.85μm以上。碱铜99A型光亮剂能够镀出镜面镀层。特别适用于锌基合金、铝合金电镀。 相似文献
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对比研究了SF-522型添加剂和国外某进口添加剂对氯化钾镀锌液及所得镀层性能的影响.镀液组成与工艺为:KCl200g/L,ZnCl2 50g/L,H3BO3 35g/L,柔软剂30 mL/L,光亮剂1.5 mL/L,温度25℃,时间25 min,电流密度2A/dm2.无锌基础液的阴极极化曲线表明,SF-522型添加剂和国外某进口添加剂在抑制析氢和增强极化方面的性能相近;光亮范围、分散能力、覆盖能力等镀液性能测试结果同样表明二者的性能相近.从含SF-522型添加剂镀液中所得镀层的耐蚀性略优于从含进口添加剂镀液中所得镀层;二者的结合力均合格;前者表面平滑,只存在少量微孔,其微观形貌明显优于后者. 相似文献
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线材硫酸盐连续镀锌光亮剂的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
线材连续镀锌工艺常用于钢丝的防腐处理。为解决传统工艺中所存在的镀导质量问题,研制出一种专用于线材硫酸盐镀锌的组合光亮剂。该光亮剂由主光亮剂、载体光亮剂和辅助光亮剂。通过赫尔槽试验,电流效率及阴极极化曲线的测量研究了光亮剂的作用效果。结果表明:使用该光亮剂能提高镀液的电流效率,且在很宽的电流密度范围内获得光亮,耐蚀的锌镀层。 相似文献
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柠檬酸-酒石酸盐无氰镀铜工艺研究 总被引:1,自引:1,他引:0
研究了一种柠檬酸-酒石酸盐无氰镀铜工艺,通过正交试验确定的最佳工艺条件为:碱式碳酸铜55g/L,柠檬酸260g/L,酒石酸钾钠32g/L,碳酸氢钠1.5g/L,光亮剂(二氧化硒和三乙醇胺)0.02g/L,pH为9.0,温度35°C,电流密度为1.5A/dm2,阴、阳极面积比为1:2,时间8min。镀液和镀层的性能测试结果表明:镀液稳定,镀液分散能力为84.52%,镀液覆盖能力为4.5,工艺得到的镀层达到二级光亮以上,镀层结晶细致、均匀,镀层结合力良好、孔隙率低,可作为碳钢制品的装饰性镀层和续镀其他金属或合金的底层或中间镀层。 相似文献
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钢铁基体上碱性无氰镀铜 总被引:1,自引:0,他引:1
给出了一种钢铁基体上碱性无氰镀铜的工艺配方。介绍了镀液的配制方法和稳定性,并将本工艺与氰化镀铜工艺的深镀能力进行了比较。测试了电流效率、镀层的受热性和结合力。提出了工艺流程中需要注意的问题。结果表明,本工艺的深镀能力优于氰化镀铜工艺,得到的镀层经烘烤和弯曲试验均无脱皮、起泡现象,镀层与基体结合良好。 相似文献
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