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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 935 毫秒
1.
《稀土》1974,(2)
本文报告了一个高纯氧化钐中稀土杂质的分析方法。使用α——羟基异丁酸作淋洗剂通过离子交换分离把高纯氧化钐中的稀土杂质镨、钕、铕、钆、钇富集起来,经氨水分离,灼烧后进行光谱测定。采用碳酸锂和氯化钠作缓冲剂,直流电弧阳极激发粉末法。在富集二百倍时,氧化镨、氧化钕、氧化铕、氧化钆、氧化钇“五个杂质元素”的测定下限分别为0.0025%、0.0001%、0.0001%、0.0001%、0.00005%,其回收率绝大部分在80%以上。离子交换分离部分经示踪原子鉴定,氧化钕、氧化铕的回收率分别为80.3%、82.9%淋洗流程为16小时。光谱测定部分的五个杂质元素百分相对均方误差不大于±13%。  相似文献   

2.
氧化钇标准物质中CeO_2,Pr_6O_(11),Dy_2O_3,PbO,NiO,CaO的ICP-AES测定江瑞源(福建省测试技术研究所,福州,350003)高纯稀土中杂质测定有控制气氛电弧法、色层分离电弧法及ICP-AES法等。而ICP-AES法对高纯?..  相似文献   

3.
本文采用强酸型阳离子交换树脂以α—羟基异丁酸淋洗分离镝和铽、铽和钆,可将氧化铽中稀土杂质富集进行光谱测定。本法对稀土杂质的富集分离比较快速有效,可分析高纯氧化铽中十一个稀土杂质元素。对单一稀土氧化物的产品分析有实用和参考价值。  相似文献   

4.
用于制备光学玻璃、荧光材料和激光材料的高纯稀土氧化物,其中非稀土杂质的含量,对材料的性能有很大的影响。高纯稀土中非稀土杂质的分析方法有分光光度法、原子吸收法和发射光谱法等,发  相似文献   

5.
研究了萃取色层法制备高纯氧化钇的最佳条件,指出,P_(507)-硅球色层柱和HCl淋洗剂体系能分离氧化钇中的轻稀土杂质,N_(263)-硅球色层柱和NH_4SCN淋洗剂体系能分离氧化钇中的重稀土。我们采用两者的组合,制备了接近六个九的高纯氧化钇。收率约60%左右。  相似文献   

6.
超细氧化钇生产技术江西省科学院近日向社会推出一种超细氧化钇粉生产技术。据介绍,该工艺技术系采用化学湿法制备超细氧化钇粉末。与传统的机械粉碎方法相比,它具有耗能低、产率高、污染小、容易达到高纯等特点。产品为白色清洁细粉,不含任何机械杂质,易于分散。具有...  相似文献   

7.
目前采用粉末原料通过等离子喷涂制备的最先进高纯氧化钇涂层的孔隙率通常为3%~5%。这种孔隙率的涂层在严重的腐蚀和侵蚀条件下会释放非常细小的颗粒。高纯氧化钇涂层主要应用于半导体领域,如,干法刻蚀腔室的抗冲蚀保护涂层(含氟和氯的等离子体),并且这些应用的需求条件也越来越严苛。当暴露于这种腐蚀性和侵蚀性气氛中时,涂层的致密度越高,它的耐侵蚀性就越强。侵蚀速率和细颗粒释放的降低将减少维护频率,从而提高生产效率。最近有文献报道通过悬浮液等离子喷涂(SPS)技术制备致密度更高的涂层,但这种新兴的工艺对制备技术提出了更高的挑战,如需要应对非常高的热通量和处理悬浮液作为原料来使用,增加了偏差的风险。本文开发了一种新的高纯氧化钇粉末,采用传统的大气等离子喷涂(APS)这种粉末能制备致密度范围与SPS技术相同的涂层。通过对粉末中颗粒致密度分布的调整和其狭窄精细粒度分布的微调得到一种独特的粉末材料来制备高质量的涂层。相比于通常报道的团聚和烧结粉末,采用Saint-Gobain ProPlasma HP等离子喷枪喷涂这种粉末显著降低了涂层的孔隙率,提高了沉积效率。  相似文献   

8.
利用铜粉作为导电介质, 与氧化镧粉末混合均匀, 压片, 采用直流辉光放电质谱法(dc-GDMS)测定了高纯氧化镧粉末中的部分杂质元素含量。考察了辉光放电条件, 如放电电流、放电气体流量、离子源温度以及压片条件, 如两种粉末的混合比例、压片机压力等因素对放电稳定性以及灵敏度的影响, 优化了实验条件;尝试了将镧, 氧和铜的总信号归一化进行计算的方法, 用差减法计算了高纯氧化镧粉末中的杂质元素含量。将铜粉作为试剂空白, 连续测定11次, 统计各待测元素检出限为0.005~0.34 μg/g;对高纯氧化镧粉末样品独立测定6次, 测定结果与电感耦合等离子体质谱法基本吻合, 相对标准偏差在20%以内。  相似文献   

9.
高纯Eu_2O_3用于发光材料,其纯度要求很高,因而对其微量杂质测定提出要求。目前,稀土中微量杂质测定,发射光谱分析仍是重要手段。 Y.Osumi等选用CsCl-碳粉作缓冲剂,在Ar-O_2控制气氛下,光电直读光谱测定高纯Eu_2O_3中镧、钇等10个稀土杂质,检  相似文献   

10.
附图的简单说明图1是用连续排列的5个萃取器(理论级数5级)进行对流萃取提纯钇时表示料液、溶剂、洗涤液、杂质及纯钇的流向示意图。发明的详细说明最近彩色电视、通讯、电灯等用的高纯氧化钇的需要在显著增加,钇同稀土元素是一起提职的,因此稀土作为杂质,必须从钇中分离出去。然而稀土和钇的化学性质很类似,分离  相似文献   

11.
《稀土》1975,(1)
本文对氧化钇及磷酸钇二种基质磷光体中各稀土元素的发光光谱作了系统的考察。研究了检测这两种基质磷光体中痕量稀土杂质的可能性。选择了合宜的磷光体制备程序。试验了x—射线管工作条件、单色仪入、出射狭缝及倍增管工作电压对杂质发光强度及检测灵敏度的影响。考察了干扰猝灭效应。建立了高纯氧化钇中痕量钐、铕、钆、铽、镝、铒和铥等七种氧化物的分析方法。此七种杂质氧化物的检测限在0.003~0.15ppm 之间。经加料试验证明准确度良好。  相似文献   

12.
本文采用等离子喷涂方法制备高纯抗等离子体冲蚀氧化钇涂层,对喷涂参数进行优化,研究喷涂工艺对涂层结合强度、孔隙率、粗糙度、均匀性等性能的影响,在等离子反应室内进行了涂层贴片的抗等离子冲蚀试验研究。结果表明,电流、气体流量等热喷涂工艺参数对涂层力学性能影响较大,高纯氧化钇粉末的粒度分布影响涂层的微观组织,获得了满足抗等离子冲蚀速率要求条件下的涂层最大孔隙率。  相似文献   

13.
水文提出在酸性溶液中,以硫酸铵作洗脱剂,通过离子交换将稀土杂质从高纯钪基体中完全分离,然后用发射光谱法进行测定。  相似文献   

14.
本文采用吡咯啶二硫代氨基甲酸铵(APDC)与活性炭(AC)分离富集高纯稀土氧化物中的金属杂质,以 ICP 发射光谱法进行测定,实验了 APDC 与金属离子络合的酸度、活性炭用量、解脱方法以及基体对测定的影响等,方法比较简单、灵敏,为高纯稀土中非稀土杂质的同时测定提供了一个较好的分析方法。  相似文献   

15.
在氧—氩气氛中用直流电弧粉末法测定高纯氧化镱中14个稀土杂质,用光谱纯石墨粉与氧化镱等量混合研匀,装入石墨电极孔穴中作阳极,在 Ar_2∶O_2=4∶1,5升/分的气氛中,用直流电弧激发,在二米平面光栅摄谱仪上摄谱,一次摄谱完成14个稀土杂质的光谱测定,以 logR—logC绘制工作曲线,其测定下限,氧化镧为0.00021%,氧化铈和氧化镨为0.003%,氧化钕、氧化钐和氧化镥为0.001%,氧化铕为0.0022%,氧化钆和氧化铒为0.0002%,氧化铽、氧化钬和氧化铥为0.0005%,氧化熵和氧化钇为0.0003%。总杂质量为0.0116%。变异系数:高含量为5.7~10.9%,低含量为4.1~8.3%。  相似文献   

16.
以提取氧化钇后的低钇混合稀土为原料,先用P_(507)-HCL体系萃取分组分离得高品位单一稀土粗产品和部分高纯单一稀土产品,然后用色层  相似文献   

17.
高纯稀土氧化物(REO)中非稀土杂质的光谱分析(Y_2O_3中非稀土杂质的测定作者已在本刊介绍过)可归纳为二大类:1.直接光谱法,包括全燃烧法、载体分馏法和ICP-AES 法;2.化学光谱法,包括选择沉淀和吸附,溶剂萃取和离子交换法。  相似文献   

18.
三氧化二钇(Y_2O_3)是彩色电视机显象管玻璃内屏的红色基质材料。随着彩电技术的飞速发展和整机质量的不断提高,对Y_2O_3的纯度及其粒度等参数要求也越来越高。对Y_2O_3粉中的稀土杂质(CeO_2、Pr_6O_(11)、Tb_4O_7、Dy_2O_3)和金属杂质(Fe、Ca、Cu、Pb、Ni)  相似文献   

19.
火花源质谱法测定高纯La_2O_3中痕量元素   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用8-羟基喹林/氯仿对高纯La_2O_3进行化学分离富集。将大量基体La分离掉.非稀土杂质元素被富集后进行火花源质谱法测定。测定下限ppb级,测定元素达20多种.相对标准偏差在5~25%之间。  相似文献   

20.
环烷酸萃取制取高纯氧化钇工艺过程中的有关问题   总被引:4,自引:0,他引:4  
氧化钇是彩电显像管红色萤光粉的基质材料。萤光级氧化钇不仅要求Y_2O_3≥99.99%,而且对非稀土杂质铁(≤5ppm)、钙(≤7ppm)、铜(≤5ppm)、铅(≤10ppm)等要求也很高;同时还有严格的粉末粒径中值的要求(d50=3.5±1μ)。目前国内生产萤光级氧化钇采用的环烷酸——盐酸体系,在生产操作中易乳化,是一个比较突出的问题。本文就环烷酸萃取提纯钇过程中的有关问题进行分析讨论,以期对提高氧化钇的质量及改进萃取操作,能起到较好的指导作用。  相似文献   

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