光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究

研究了光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺,在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下,通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响,研制出有效清洗光学元件的清洗工艺,并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。同时发现光学元件的放置时间会影响元件的清洗效果。超声清洗刚加工好的光学元件洁净效果较好,清洗时间较短;有6个月存放期的光学元件,表面颗粒污染很难洁净清洗。     

降低清洗溶剂挥发浓度的方法

本文论述影响超声清洗设备清洗溶剂的挥发浓的因素，并提出降低清洗溶剂的挥发浓度一些方法。     

表面处理对FED薄膜型金属电极性能的影响

针对场致发射显示器（FED）金属薄膜与玻璃附着力的特性,提出一种超声清洗和UV清洗相结合技术应用于薄膜型金属电极表面清洁处理。本文分析了超声清洗和UV清洗的基本原理．利用绿灯观测装置和大面积视频显微镜检测不同超声清洗时间和频率以及UV清洗对金属电极质量的影响,利用场发射测试系统测试经表面处理前后的金属薄膜电极性能。实验结果表明,FED金属薄膜电极在32kHz超声清洗10min,Uv光清洗5min后,电极表面干净,无尘埃和有机污物,金属膜层不脱落。显示器场发射性能稳定。     

超声清洗技术及其应用

超声清洗技术是已经得到广泛应用,并且正在不断发展中的清洗新技术.本文简要地介绍了超声清洗的作用原理、方法和技术,以及在实际应用中为达到较佳清洗效果所需要考虑的因素.     

ITO玻璃光刻工艺的研究

将光刻胶涂敷在带有ITO薄膜的玻璃表面上，利用紫外光对其进行光刻，通过金相显微镜观察刻蚀后的ITO表面形貌，定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响，得到最佳清洗工艺为：洗涤剂棉球擦洗，然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次，烘干；对于正性光刻胶RZJ-390PG，最佳实验效果的曝光时间为5min最佳显影时间为2min；最佳刻蚀时间为6min，为OLED得到精细阳极奠定了基础。     

电子组装中PCBA清洗技术（待续）

清洗对于电子产品可靠性有着非常重要的影响，针对印制电路组件污染物进行了系统阐述，并对不同的清洗技术和工艺进行了总结归纳，讨论了影响清洗效果的各个因素及其检验规范，为实际生产起到指导作用。     

硅晶片热氧化前的清洗技术探索

阐述了硅晶片表面的各种沾污对热氧化生长的氧化膜质量的影响。进行了数组热氧化前硅晶片表面沾污清洗的实验,分析清洗液浓度、温度、超声等因素对清洗效果的影响。在显微镜下观察试验结果,对清洗后硅晶片表面出现的微粗糙度、蚀点及损伤等情况做了详细分析．并对引起这些情况的因素重新制定考察水平,进行优化改进,得到最佳的清洗效果。     

电子组装中PCBA清洗技术

清洗对于电子产品可靠性有着非常重要的影响,针对印制电路组件污染物进行了系统阐述,并对不同的清洗技术和工艺进行了总结归纳,讨论了影响清洗效果的各个因素及其检验规范,为实际生产起到了指导性作用。     

离心清洗应用于印制电路板的研究

离心清洗是清洗印制电路板的一种有效方法,它与传统的喷淋和超声等方法相比具有清洗能力强、对工件保护效果好和应用范围广等特点。阐述了离心清洗机的设备结构特点和基本工艺流程,并通过实验阐述了影响清洗效果的几个因素温度、速度、喷淋方式、喷淋角度、溶剂的选择、变速及正反转的设置等,并提出了改进措施。离心清洗已成为PCB的主要清洗方法之一。     

利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度

为了探讨不同清洗工艺对基片表面微观粗糙度的影响,利用总积分散射(TIS)仪分别对不同条件下超声清洗的K9玻璃基片,End-hall离子源清洗的K9玻璃基片和Kaufmann离子源清洗的熔石英基片的表面均方根(RMS)粗糙度进行了系统表征.结果表明,K9玻璃基片经不同条件下的超声波清洗后,由于清洗过程中表面受到损伤,其RMS粗糙度均有所增加;而对于End-hall离子源和Kaufmann离子源清洗的基片,其表面RMS粗糙度的变化受清洗过程中离子束流、清洗时间和离子束能量等实验参量的影响较为明显,选择合适的实验参量可以降低基片表面粗糙度.     

超声波洗净设备的设计制造

本文介绍了超声波洗净设备在制造过程中需考虑的有关设计问题，以及在制造技术方面需考虑的多种因素，并提出了实用性的建议。     

超声技术在半导体行业中应用探讨

晶片的洁净程度直接决定了晶片的价值,而晶片最前端工艺就是清洗。现代化超声技术的应用可让晶片更洁净。超声波清洗的功率、频率、尺寸、安装方式的选择都与晶片清洁程度有着密切关系。主要对超声波的原理和频率的选定进行了介绍。     

集成微电路基板清洗新技术与ODS清洗技术

文章介绍了集成微电路基板清洗领域的ODS替代清洗技术，着重介绍了十槽式超声波清洗机在高精度的集成电路清洗工艺中的具体应用。     

超声波清洗在贵/廉金属复合材料生产过程的应用研究

本文结合“ODS清洗剂消费淘汰项目”的实施，并对新型超声波清洗机及新型ODS清洗液进行了工艺试验，阐述了超声波清洗技术是贵／廉金属复合材料生产过程中无可替代的清洗技术。     

超声波清洗对LCD性能的影响的研究

研究了超声波清洗对液晶器件定向层性能的影响，结果表明：超声波的输出功率、液晶器件的形状与尺寸以及清洗时的放置方式均对定向层的划伤程度产生较大的影响。并在此基础上进行了理论计算，结合实验结果，分析了定向层划伤的原因。     

全自动太阳能硅片清洗机的研制

全自动太阳能硅片清洗机是对脱胶预清洗之后的硅片进行进一步的清洗。为了保证得到洁净的硅片,除了采用碱溶液清洗之外,清洗设备还增加了浸泡、超声清洗、抛动、鼓泡等清洗工艺,提高了硅片的清洗质量和可靠性,保证了硅片的清洗合格率。采用先进的自动控制系统,不仅能满足客户的现有工艺要求,还可以根据用户的需求进行不同的工艺配置。     

轴承的超声波水洗工艺与自动清洗线的开发应用

本文介绍了轴承的水基清洗的工艺技术及其开发使用的自动清洗线的应用实例。以水基清洗轴承替代了传统的汽油清洗和强酸清洗的工艺，其清洁度达到了产品质量要求标准，其废水排放达到了环保要求标准，这一实例不仅适宜中小型轴承厂。更适合大型轴承厂采用，它为轴承清洗领域提供了一种新思路，很有参考价值，值得推广。     

超声波清洗机在清洗装滚子的塑料盒中应用

通过对原来用纸盒和改用塑料盒装滚子前后清洗方法的比较，介绍了改用超声波清洗塑料盒的新工艺，提高了清洗效率，减少了对环境的污染，极大地改善了工人作业环境。     

九工位智能超声波清洗机的实际应用

九工位智能超声波清洗机的开发和应用是北京真空电子器件研究所对清洗工艺技术改造的一种尝试。本文介绍了该清洗机的策划、设备性能、结构特点、控制能力以及实际应用效果。     

超声波清洗机的技术现状与建议

文章对超声波清洗机发生器的生产技术进行回顾分析，并对行业如何健康发展提出自己的建议。