在FEA中使用的MOSFET技术

本文对以ＭＯＳＦＥＴ（金属氧化物硅场效应薄膜晶体管）技术提高ＦＥＤ（场致发射显示）等器件的ＦＥＡ（场致发射阵列）阴极发射电流的稳定性作了说明,并就对ＭＯＳＦＥＴ技术的改进作了介绍。     

场致发射阵列真空荧光平板显示屏的研究

本文简叙了场致发射阵列真空荧光平板显示屏的发展概况,分析了这种显示器件的工作原理和驱动方式,并就这种器件的结构和工艺进行了讨论。最后,针对场致发射阵列真空荧光平板显示屏存在的问题,提出了今后改进的措施。     

场致发射显示技术分析

本文介绍了场致发射荧光显示技术的工作原理及特点,分析了场致发射荧光平板显示屏的工作方式,结构及其制作工艺,并讨论了影响显示屏性能的主要因素。     

场致发射显示器会卷土重来吗?

佳能(Canon)和东芝(Toshiba)的合资公司-SED公司宣布,将于2006年生产55英寸场致发射显示器(FED).此外,SED公司还在2005年举行的两个会议上介绍了一些技术细节.本文将评述FED的某些技术信息.     

金刚石薄膜场致发射平板显示的研究

从场致发射实验中发现一种较适合于场电子发射的金刚石薄膜表面微结构。胜表面为这种微结构的金刚石薄膜作阴极制做的简单平板显示器件具有起始发射场强低，发光强度大的特点，且重复性较好。     

场致发射显示器研究与进展

介绍了受人们普遍关注的新一代平板显示器场致发射显示器研制开发的新进展情况,其中包括Spindt结构、碳纳米管、表面传导、金刚石薄膜、MIM和MISM结构、大面积可印刷低逸出功型等场致发射显示器.分析了每种类型场致发射显示器的优点及存在的问题,并对它们各自发展前景做了介绍.     

高真空场发射三极显示器的制作

三极结构的场致发射显示器是一种新型的真空平板显示装置,高真空的实现与维持是确保显示器件正常工作的必要条件.通过采用低熔点玻璃粉烧结工艺和玻璃定位片装置,实现了场致发射显示器的高真空平板封装.从器件封装结构、器件烧结、器件排气和器件烤消等方面进行了工艺改进.综合采用这套技术,已经研发出三极结构的、具有高真空度的碳纳米管阴极场致发射显示器样品.     

场致发射显示器会卷土重来吗?

佳能(Canon)和东芝(Toshiba)的合资公司-SED公司宣布,将于2006年生产55英寸场致发射显示器(FED)。此外,SED公司还在2005年举行的两个会议上介绍了一些技术细节。本文将评述FED的某些技术信息。     

场致发射显示屏及其产品设计的相关技术

本文全面介绍发场致发射显示屏的研制历史和最新进展；系统地讨论了场致发射显示屏产品设计中的相关技术问题。     

场致发射显示器会卷土重来吗?

佳能（Canon）和东芝（Toshiba）的合资公司-SED公司宣布，将于2006年生产55英寸场致发射显示器（FED）。此外，SED公司还在2005年举行的两个会议上介绍了一些技术细节。本文将评述FED的某些技术信．     

全球LED信号显示技术专利态势分析

选择THOMSON（汤姆森）集团的DWPI（德温特世界专利索引）英文专利数据库,采集1965年1月1日到2008年12月31日期间的LED信号显示技术专利文献．建立英文专利数据库;再选择Derwent Innovation Index（德温特创新专利索引）专利分析系统,分别从专利申请总量、重点专利技术和重点专利持有人等方面。对LED信号显示技术专利进行深入的分析,并对比分析国内外LED信号显示技术专利的现状．提出发展我国LED信号显示技术的专利策略。     

场发射显示器阴极材料的发展

文章介绍了显示器件的发展现状,场发射显示器（FED）是显示领域内有发展潜力的一种平板显示器。有望成为数字电视时代的主流显示器件。阴极技术是FED的关键技术,文章还分析了FED的工作原理,并详细论述了FED阴极材料的应用与发展。     

现代显示技术的研究进展

结合其发光原理及特点分析了阴极射线管(CRT)显示器、液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、场发射显示器(FED)的市场走向,认为FED是一种最理想的显示器。对FED不同类型的阴极场发射阵列(FEA)进行比较,认为碳纳米管薄膜阴极是目前最有希望实现FED市场化的场发射体。     

场发射显示器阴极结构的发展

场发射显示器（FED）集传统的阴极射线管显示（CRT）与液晶显示器（LCD）的优点于一身,具有很大的发展潜力,有望成为数字电视时代显示器件的主流。文章详细论述了电子场发射的原理．从F—N公式出发探讨了FED阴极材料的选取和阴极结构设计的原则,最后论述了FED阴极结构的发展。     

场发射平板显示技术的研究方向

本文介绍显示技术的新发展，场发射显示技术的掘起，场发射技术及真空技术，微显示技术的发展，从崦论述了我国场发射显示技术的研究方向。     

场致发射显示器的现状与发展

通过对场致发射显示器（FED）发展现状及其应用前景进行系统的比较与分析，着重讨论了场致发射体与其阵列制备工艺以及各种关键技术的优缺点，并介绍国外著名公司的研究动态，展望FED的发展趋势。     

基于专利地图的智能电视遥控技术竞争态势研究

利用Thomson Innovation专利数据库,对触摸板、惯性传感、超声定位和基于便携终端的遥控等四类智能电视遥控技术的全球专利进行检索,并借助TDA和Innography专利工具,分析智能遥控技术的总体发展趋势、技术分支发展态势、全球区域布局、主要创新机构以及综合竞争力,绘制专利地图。结果显示智能电视遥控技术已进入技术成熟期,并形成了两大主流技术方向;日本、美国、中国、韩国是主要专利来源国;日本企业占据全球智能遥控主要创新机构的半壁江山;三星电子综合竞争力最强,松下、索尼、夏普、UEI等公司也具有较强竞争优势。     

基于Nios处理器的FED控制系统设计

FED是新一代真空平板显示器件,具有色彩自然逼真、响应速度快、宽视角、低功耗、矩阵选址等突出优点,应用范围广泛。FED显示控制系统是整个驱动电路的核心,随着分辨率和规模化的提高,需要高速的帧存储器和高速的接口,加速系统的运行速度,减少传输时间。主要介绍了一种采用Nios软核作为中央处理器,进行主要的计算处理、控制各种信号的FED显示控制系统。同时使用FPGA作为协处理器,把一些运算中常用到的耗用大量CPU时钟的运算以Nios软核的形式嵌入到系统中,利用动态可重构的原理实现各个软核函数的分时复用,提高了整个FED控制系统的性能。     

场发射显示器(FED)荧光粉的研究进展

场发射显示器(FED)是一种新发展起来的平板显示器。它在亮度、视角、响应时间、工作温度范围、能耗等方面具有优良的特性。文章首先简要地介绍了FED发展历史和现状、工作原理以及对荧光粉的要求，然后介绍了FED荧光粉的研究历史和发展现状以及有关FED荧光粉激发和发光机理的相关研究工作。最后就FED荧光粉的研究提出了一些建议。     

金刚石薄膜场发射显示器

简要介绍了一般ＦＥＤ（场发射显示器）的工作原理,研究了非晶金刚石薄膜低场发射特点,讨论了金刚石薄膜制做场发射器的可行性;指出利用金刚石薄膜和阳极选择的方法可对Ｓｐｉｎｄｔ ＦＥＤ进行改进,从而使平面ＦＥＤ更容易实现。