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范品忠 《激光与光电子学进展》2002,39(4):50-53
自从伦琴发现X射线100多年以来,X射线成像基本原理和射线照相术的解释基本上没有什么变化。普通方法依赖于X射线吸收,它是反差的唯一来源,也是唯一采用射线或几何光学来描述并解释像的形成。该法忽略另一个更有用的潜在反差来源──相位信息。相敏技术,能用波动光学而不是射线光学来理解它,结合相位信息提供扩大和补充标准的吸收反差法。 相似文献
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采用离子束共溅射的方法分别制备了一系列CrxAg1-x(x=19,28,36)样品,经1h的真空退火,通过X射线衍射和原子力显微镜和光学测量,研究了它们在不同退火温度下的结构,表面形貌和光学性质,结果表明其光学性质与颗粒尺寸密切相关。 相似文献
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<正> 微光刻技术已进入亚微米尺寸加工时代,八十年代末即可使高密度集成电路—4兆位动态RAM和1兆位静态RAM存储器付诸生产。对集成密度的需要将要求曝光装置在九十年代就能大批量生产0.5μm及更小线宽的图形。光学曝光具有0.5μm尺寸的生产能力。作为一种适合于大生产用的竞争技术,X射线曝光也进入了实验考核阶段。是否会在九十年代出现一个从光学曝光转向X射线曝光的大突破,就取决于竞争双方各自的技术性能和经济效益了。 相似文献
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从技术特点和研究热点的角度,综述了X射线光栅干涉成像技术与系统的国内外最新进展。介绍了具有代表性的基于Talbot-Lau干涉法的X射线光栅成像原理与系统结构,以及物质对X射线的衰减、折射与小角散射的多信息获取技术。综述了国内外对X射线光栅成像技术与系统的优化改进研究,主要包括光栅步进对高位置分辨率的松弛与大视场高分辨率光栅成像技术的实现。介绍了二维光栅与基于光栅的具有时间分辨率的四维成像技术的国内外最新发展动态。展望了X射线光栅成像技术的发展趋势。 相似文献
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新的质子源质子交换制作的Z切LiNbO3光波导特性 总被引:1,自引:1,他引:1
研究了用己二酸和苯甲酸的不同混合摩尔比作为质子源交换制作的Z切LiNbO3光波导的表面折射率改变、波导深度、折射率分布等光学特性。结果表明,在交换温度为230℃,交换时间为6h时,混合摩尔比较高时,波导为β4相;较低时,为β3相。在β4相时,混合摩尔比越大,波导的表面折射率改变和波导的深度越大;在β3相时,不同的混合摩尔比交换的波导光学特性差别不明显。用双晶X射线衍射法对单苯甲酸和混合摩尔比为60%制作的光波导进行X射线衍射。以上结果对波导器件的制作及理解波导折射率改变的物理机制提供了一些有用的信息。 相似文献
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光生物医学成像研究人员正在追求一个梦想,即不久将来的某天,他们将开发出一种非侵入性方法,使医生能用光探入人体内部。通过分析光与组织的反应形式,这些“光学体扫描仪”将帮助医生诊断诸如肿块之类的疾病,并确定其是恶性还是良性。尽管一系列给人印象深刻的技术已能对人体的某些部分成像,其中包括x射线成像、计算机层析X射线摄影法(CT)、磁共振成像(MRI)、超声及放射性同位素成像,但它们仍有其局限性:·x射线或其它已建立的技术不能准确探测初期的肿块,这时它们很小,而且容易处理。x射线同样不适于对年轻、厚实的胸部成… 相似文献
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为改善 X 射线瞬时成像的空间光学传递能力,本文提出了一种基于 X 射线像增强器的自适应频控电源拓扑模型。通过分析 X 射线瞬时成像所面临的约束条件,探究 X 射线像增强器的空间光学传递模型,本文指出根据入射 X 射线剂量动态自适应调整 X 像增强器的电子倍增能力对最终的成像对比度十分重要。在此基础上,在此基础上,我们最终构建了基于过零电压震荡频率反馈的自适应门控电源控制模型,并通过成像实验证明,利用本文所提出的自适应频控技术可以有效提升 X 射线瞬时成像的整体分辨能力。 相似文献
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1 掠入射空间光学件的测量要求近几年世界各地对X射线天文学的兴趣不断增长。最近发射的和不久将要发射的空载X射线天文望远镜航天器。执行飞行任务的次数不断地增加,诸如ROSAT、SXO、SAX、AX-AP和XMM等望远镜,在这些望远镜中,用于聚焦X射线的光学系统都是采用各种结构形式的掠入射光学件。wolter TypeⅠ系统采用一个抛物面和双曲面根结合的光学系统;Wolter—schwarzchild TypeⅠ系统是由WolgerⅠ系统形状略加变更构成的,WolterⅠ系统近似呈薄片锥形体;Kirkpatrick—Baez(K—B)系统 相似文献
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友清 《激光与光电子学进展》1995,32(11):22-23
用多毛细管光学法准直和聚焦X射线多毛细管光学也称库马柯夫(Kumakhov)光学,它由一束空心毛细管组成,由毛细管壁的全外反射传导X射线。现在已有许多论文介绍这种正在迅速崛起的新技术。多毛细管光学有可能成为全方位X射线光学,因为它可作为X射线和中子的... 相似文献
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X射线光学系统的发展总是遇到难以解决的问题.在X射线波段,对大多数材料的折射率接近1.根据费涅耳方程,X射线反射系数很小,仅在掠入射光学系统,X射线反射系数较大.因此,既不像普通的折光学系统也不像普通的反射光学系统可用于很多应用领域.甚至为X射线波段专设计的掠入射光学系统在技术是相当难实现的.多细管式光学元件可代替以往的光学元件用于X射线聚焦和准直.这种光学元件比其他方法有很多优点. 相似文献
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应用光学国家重点实验室建立以来.真空紫外一软X射线光学研究一直是该实验室的重点发展学科之一,其研究基础深厚、特点鲜明、研究水平处于国际前沿地位,主要从事真空紫外一软X射线光学的基础研究和应用基础研究,已形成从理论到实验.从光源、光学元件和探测器研究到实用仪器开发研制的研究体系,装备有国内先进的真空紫外一软X射线波段光谱测试和光学元件及系统的加工、检测设备,具有真空紫外一软X射线光学的综合研究能力.近期的主要研究方向包括软X射线多层膜技术研究;软X射线显微成像及投影光刻技术研究;真空紫外 相似文献
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《电子工业专用设备》2014,(3):66-67
日联科技成立于2002年,最初以研发生产电子装配行业的特种清洗机与自动光学检测设备为主营业务。2007年以市场为导向凭借勇于创新的精神和雄厚的实力突破微聚焦 X 射线检测技术,填补国内多项技术空白,成为国内首家微聚焦X 射线精密检测设备制造商。目前日联科技已成为国内集微聚焦 X 射线研发、生产、销售与服务为一体的高端检测装备国家级高新技术企业。研发生产的设备广泛应用于锂电池、电子制造(EMS)、集成电路、半导体、太阳能光伏、LED、连接器、汽车零部件、航天、军工等高端行业。 相似文献
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下一代光学掩模制造技术 总被引:3,自引:0,他引:3
尽管其它光刻技术在不断快速发展,然而在0.13μm及0.13μm以下集成电路制造水平上,光学光刻仍然具有强大的生命力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高,当代光学掩模制造技术面临着越来越严重的挑战。本文对下一代光学掩模工艺技术的技术指标和面临的技术困难进行了论述,并对其中一些关键的技术解决方案进行了简要分析。 相似文献