酸性镀铜添加剂的作用与浓度测定

本文采用转盘电极阳极溶出法测定了光亮酸性镀铜液中组合添加剂的最佳整平浓度,又用赫尔槽测定了最大光亮区浓度,结果与通常生产中的用量相符。添加剂对铜沉积过程的阻化效应随镀液中添加剂浓度的增大而增大。如果用转盘电极在极限电流的电位处,阴极沉积一定的时间,随后使沉积的铜薄层阳极溶解,此时阳极溶出电量 Q 阳与镀液中添加剂的浓度 C_添成线性关系,因此可用来定量测定镀液中添加剂的浓度。     

一种测定酸性镀铜熔液中氯离子含量的方法

介绍了一种酸性镀铜液中氯离子的测定方法,分析了镀液成分,镀液温度及其它离子对测量结果的影响。     

酸铜镀液中硫酸铜、铁的测定

酸性光亮镀铜,由于镀层优越的光亮性能与良好的防腐能力,作为底镀层而广泛应用于电镀。酸性铜镀液中存在的大量铁离子,恶化镀液的导电能力,降低镀液的分散能力,缩短镀液使用寿命。电流密度范围变窄造成镀层粗糙、不光亮等疵病。经典的高锰酸钾法测定铁存在操作繁琐、时间长等缺点。笔者通过试验,在微酸性条件下.用高锰酸钾氧化 Fe~(2+)离子为Fe~(3+)离子,氧化光亮剂阴极还原产物,消除这些物质对碘量法测定硫酸铜的干扰。同时另外取样,在不加氟化物掩蔽剂的条件下,用碘量法测出铜、铁总量,然后减除铜离子量,即得铁离子的含量。试验结果表明:     

酸性镀铜液中氯离子的测定

1 前言在酸性光亮铜镀液中,准确测定并严格控制(?)中 Cl~-离子的含量是保证镀层质量的重要措施之一定镀液中的 Cl~-离子含量,采用重量分析法,虽然(?)准确,但操作繁琐。为了简便、快速地测定 Cl~-离子文章报导,采用沉淀分离铜,用 AgNO_3直接滴定离子,由于沉淀对 Cl~-离子吸附,测定结果大大偏(?)又有文章报导,采用过量 AgNO_3滴定 Cl~-离子,以(?)矾为指示剂,用 KSCN 反滴定过量的 Ag~+离子,(?)计算出 Cl~-离子含量,此法因 KSCN 与 Cu~(2+)离子反致使测定结果误差极大.     

酸性光亮镀铜液中氯离子的容量测定法

酸性光亮镀铜时,氯离子的含量,常对镀层质量有重大的影响,需要严格进行控制。镀液中微量氯离子的测定,一般都比较困难。本文试验用碳酸钠中和硫酸,用碳酸氢钠将铜沉淀成碱式碳酸铜,分离后,以铬酸钾为指示剂,用硝酸银滴定的方法来测定氯离子的含量。手续比较简便,容易掌握,从一九八三年起使用到现在,得到了满意的结果。     

选择性螯合滴定法测定酸铜镀液中的CuSO4

本文提出一种测定ＣｕＳＯ４含量的螯合滴定方法。该方法是在酸铜镀液中，加入过量的ＥＤＴＡ络合全部的金属离子，再用硫脲、抗坏血酸和１，１０－二氮杂菲选择性地分解Ｃｕ－ＥＤＴＡ．该方法有效地消除了镀液中Ｆｅ＾３＋、Ｚｎ＾２＋、Ａｌ＾３＋等杂质金属离子对测定结果的干扰。方法简便，结果准确，已被成功用于镀铜生产中ＣｕＳＯ４的测定。     

化学镀铜液的再生

通过向溶液中添加消耗的组份,重复循环利用溶液中已有的络合剂和碱,能够使失效的无电解镀铜液得到再生.化学镀铜液采用硫酸铜作离子源,甲醛作还原剂,氢氧化钠和碳酸钠提供碱性,镀液在pH>10条件下工作.络合剂或螯合剂络合住溶液中铜离子并稳定镀液.稳定剂如硫脲,琉基苯并噻唑能进一步控制沉积速度并稳定镀液.铜沉积反应如下:     

三价铬镀铬溶液中六价铬杂质的测定

利用二苯氨基脲在酸性溶液中与六价铬的显色反应,用光度法测定三价铬镀铬溶液中的六价铬。为了控制镀液中双氧水的影响,测定时采用较低的酸度,用3 cm比色皿,以镀液底液作参比,在波长530 nm处测定吸光度。实验表明,对于含双氧水的镀液,测定六价铬的结果偏低3.9%,镀液中的其它组分对测定无影响。本法测定结果的平均偏差为0.05 mg/L。     

硫酸铜镀铜溶液中杂质的影响及其对策

一、前言作为镀铜溶液,现在广泛采用以下3种镀液:硫酸铜镀铜溶液、氰化镀铜溶液以及焦磷酸盐镀铜溶液.其中硫酸铜溶液与其它镀铜溶液相比具有以下的优点:配制镀液费用低,镀     

分光光度法测定酸性镀铜液中的微量铁

采用分光光度法,以二甲酚橙为显色剂、双氧水为氧化剂,用1.5×10-2moL/L的硫酸做介质,在波长为558nm处对酸性镀铜液中的Fe(Ⅲ)进行测定。讨论了酸度、显色剂用量和显色时间对吸光度的影响以及铜离子和其它成分对测定结果的影响。采用该法与原子吸收法测定某厂实际镀液中微量铁含量的误差仅为2.67%,说明该法能满足实际要求。该方法灵敏度与准确度高,测定过程迅速、简便,回收率在93.25%-106.20%之间。     

酸性镀铜液中氯离子的自动电位滴定

采用自动电位滴定法测定酸性镀铜液中的氯离子,研究了镀液中各种成分对测定的影响。实验结果表明,本法简便、快捷。分析结果准确可靠。     

光亮氰化镀铜工艺的研究

一前言氰化镀铜是现实电镀生产中广泛应用的老工艺,此工艺具有镀液分散能力好;深镀能力好;镀层结晶细致;与基体结合力好等优点。因此,往往用于钢铁基体和锌压铸件上直接电镀,作为各种镀层的底镀层。普通氰化镀铜液中所镀得的镀层是无光泽的,在通常的Cu—Ni—Cr镀层体系中,镀件的光亮则全凭较厚的光亮镍层,因此,我国电镀界的科技人员很早就着手研究光亮氰化镀铜,以寻求一种使镀层光亮的添加剂,但长期以来,只是一些Mn、Se、Pb等无机光亮剂,在实际电镀生产中使用有很大的局限性,随着近年金属镍价格上涨,电镀成本的提高,更需要用光亮氰化镀铜节约镍的用量,我们在参阅了大量资料的基础上,经过一年多时间的研究探索,研制出一种能使氰化镀铜层产生镜面光亮的光亮添加剂——QZ系列光亮剂,从     

印刷电路板酸性光亮镀铜的研究

采用１２８６电化学接口及旋转圆秀电极测定了硫酸铜镀液阴极极化曲线和循环伏安曲线，结果表明，Ｃｌ＾－有增大阴极极化的作用，同时还测定给了ＴＤＹ添加剂镀液的深镀能力和分散能力，其分散能力为９２％，深镀能力为４１．３ｍｍ，镀液寿命达３３４Ａ．ｈ／Ｌ。镀层光亮，结晶细致均匀。     

氰化镀黄铜溶液的维护管理

氰化镀黄铜溶液的维护管理张建民氰化镀黄铜溶液组成有多种，含量多少也有差别，但大同小异。因而本文不再叙述具体的镀液成分和操作条件，只谈溶液维护管理的主要共同点。１镀液各成分的作用（１）氰化亚铜、氰化锌二者是镀液中金属离子的主要来源。只有当溶液中铜与锌的...     

光亮铁合金刷镀液

用二价铁盐配制刷镀液，加入稳定剂及抗氧化剂，使之能长期使用和存放，不产生沉淀，不变质。镀液ＰＨ值较高，施镀时采用较低电流密度即可获得高沉积速度。镀层具有较高硬度和耐磨性。     

铜及铜合金镀液中铜的测定

铜及铜合金镀液中铜的测定邱林友（昆明理工大学测试中心，６５００９３）铜及铜合金镀液中铜的测定可采用碘量法。经典的碘量法［１］基于在铜（Ⅱ）溶液中加入过量碘化钾，生成的单质碘以淀粉为指示剂，标准硫代硫酸钠滴定。由于碘单质易挥发，滴定中生成的碘化亚铜易吸...     

低温镀铁用室温起镀法介绍

低温镀铁时一般镀前要用4～5小时处理镀液,目的是使镀液中的三价铁还原成二价铁,并通过电的热效应,使镀液升温至30℃左右,然后才开始镀铁。这要耗费一定的电力和时间,也给工作带来麻烦。     

EDTA化学镀铜溶液中CuSO4的快速分析

本文确定了分析EDTA化学镀铜溶液中硫酸铜的吸光光度法.醋酸-醋酸钠缓冲溶液中,EDTA-Cu(Ⅱ)具有稳定的阳光度,其含量与吸光度的关系符合比尔定律.镀液中Fe1g/L.K_4Fe(CN)_6·2H_2O10g/L及其它组分对本法测定无干扰.     

氰化镀铜过程中碳酸钠的积累和去除

在氰化镀铜过程中，镀液中碳酸钠的积累是造成镀铜产生障碍的主要原因之一。过多的碳酸钠会缩小电流密度范围，使阴极效率下降，阳极易钝化，溶液导电能力下降，粘度增加，还会使镀层发暗、粗糙。氰化镀液在露置于空气中时会有碳酸钠的形成，因而许多电镀学者认为空气中的...     

复合镀铜溶液中微粒与镀液间的相互作用

研究了复合镀铜溶液中SiO2、La2O3、BN以及SiC微粒与镀液间的相互作用。通过测定镀液的pH以及微粒表面的Zeta电位,研究了微粒对镀液中氢离子以及铜离子的吸附。结果表明,加入复合镀铜溶液中的SiO2、La2O3、BN以及SiC微粒不仅吸附了镀液中的氢离子,同时还吸附了镀液中的铜离子,致使镀液的pH上升,微粒表面荷正电。纳米粒子对镀液中荷电粒子的吸附能力较微米粒子更强。