半水清洗替代ODS清洗PCB的技术探讨

本文主要叙述了ODS清洗剂对大气臭氧层的破坏，从而导致对人类生存环境的危害，介绍了目前替代ODS清洗剂的几种方法。其中半水清洗替代ODS清洗PCB的技术是一种比较好的工艺方法。本文着重对我公司在实施这种方法过程中，设备的选型、清洗荆的选择、清洗技术参数的设定、清洗效果等进行了探讨。     

飞机表面清洗剂配方研制过程中的快速试验方法探讨

前言 　　飞机是高技术高价值产品.清洗飞机时应充分考虑清洗剂对飞机安全性的影响,同时还要考虑清洗剂的综合性能[1].国外许多有关飞机表面清洗剂的材料标准如MIL-C-43616C[2].MlL-C-87936A[3].MIL-C-8557OB[4]等对飞机表面使用的清洗剂规定了严格的技术要求,包括清洗剂的清洗能力、Ph值、对飞机表面金属材料的影响(全浸腐蚀,缝隙腐蚀、氢脆等)、对飞机表面非金属材料(油漆层、胶粘剂、有机玻璃等)的影响、稳定性(硬水稳定性、低温稳定性、加速贮存稳定性)等多项技术指标.……     

洗净安全环境保护--从用户角度看清洗设备制造

本文从清洗剂、清洗设备用户的角度阐述了用户在选择清洗剂、清洗设备时的思路和做法。     

中小企业超声波水系清洗技术的替代案例

在中国大陆.破坏环境但清洗能力优良的清洗剂氟里昂(CFC-113).1,1,1-三氯乙烷(TCA)已逐步限产,其中CFC-113清洗剂将于2006年禁止生产和使用;TCA将于2010年禁止生产和使用.在洗净领域.中小企业替代清洗剂、替代清洗设备的转换进展迟缓.作者通过近2年深入研究.实际服务.对中小企业洗净技术进行分析评价,对清洗工序的替代技术成功案例总结成文,以期对读者有所帮助.……     

基于多源信息融合的飞机清洗剂优选方法

针对飞机清洗剂的选型问题,以清洗剂的实际使用效果为评价基准,根据飞机服役环境特点,开展典型气候的自然环境试验;进一步地基于多源信息融合的加权平均数据处理技术,提出了飞机清洗剂优选方法。结合典型装备的清洗剂优选需求,在热带海洋环境下开展了两种清洗剂清洗装备涂层的自然环境试验。研究结果表明：清洗剂定期清洗的试验件综合性能明显地优于未清洗的试验件;多源信息融合可有效地降低不确定性因素对测试结果的影响,所提出的方法正确有效,可用于飞机清洗剂的优选。     

真空开关管生产线上CFC-113替代清洗技术

本文通过几种非ODS清洗剂与CFC-115清洗剂性能的比较，同时简要说明了真空开关管的生产过程中各种清洗剂的使用情况，说明了HEP-2清洗剂替代零部件清洗和整管带电清洗中使用的CFC-115清洗剂的情况。     

电子工艺用清洗剂的现状及发展趋势

在综合国内外文献资料的基础上,着重介绍了电子工艺的清洗技术和电子工艺用清洗剂的现状及发展趋势.从而了解到电子工艺用清洗剂目前还存在许多不足及我国的水基清洗剂在技术上急需突破的诸多难题.但是,水基清洗剂具有安全环保、清洗范围广、与大多数被清洗物相容性好和价格低等优点,同时基于相关法律政策,它将成为今后发展的趋势.     

使用半水基清洗剂的清洗技术 (第二次报告)

在电子仪器的助焊剂清洗作业中,日本使用得最多的是半水基清洗剂。首先就半水基清洗剂的概念和特点加以说明,并介绍清洗剂。其次介绍数例在封装电路板的清洗作业中遇到的问题及其解决办法。     

PCB组件水清洗工艺技术研究

通过对水清洗工艺技术的研究,掌握水清洗工艺的方法,使PCB组件水清洗后达到国军标的要求。采用试验元器件、PCB、清洗剂以及焊接辅材组装水清洗样件,经过大量的水清洗试验,对清洗时间、清洗温度、漂洗次数、清洗剂体积分数对清洗效果的影响进行研究,水清洗后按标准要求进行目视检查以及残留离子含量检测,最终得出合适的水清洗工艺参数及清洗剂。     

CPT电子枪零件清洗新工艺的开发与应用

本文阐述了在水基清洗剂清洗彩色显像管（ＣＰＴ）电子枪的工艺开发过程中清洗工艺及其工艺参数的选择，解决的关键问题，超声波清洗设备的设计配套问题。是国内首家依靠自己的技术力量开发成功电子枪精密冲压零件水基清洗剂的清洗新工艺，避免了环境污染，改善了荼环境降低了清洗成本。     

正确使用HEP-2清洗剂

正确使用HEP-2清洗剂已是当前迫切需要关注的问题。HEP-2清洗剂具有清洗效果好，价格与原有的ODS清洗剂大体相当的优点。如果使用不当，会出现酸度，本文从酸度概念分析，应用监视清洗槽内溶液的酸度方法；达到正确使用HEP-2清洗剂的要求。还介绍正交试验法，寻找正确使用HEP-2清洗剂的清洗工艺最佳方案。     

清洗行业提前半年淘汰四氯化碳清洗剂

2003年3月26日,国家环境保护总局正式印发环函[2003]69号公告,决定自2003年6月1日起在全国范围内禁止使用四氯化碳(CTC)作为清洗剂。为了控制我国ODS清洗剂的消费,保证清洗行业淘汰计划的顺利实现,清洗行业淘汰ODS特别工作组于2002年开始对ODS清洗剂的使用是实行许可证管理制度,要求所有消费用户申领许可证。经统计,在规定时间内,没有一家用户申请CTC消费许可证。因此,清洗工作组认定在全国范围内全面禁用CTC清洗剂的时机已经成熟。特向国家环保总局建议比计划提前半年时间在清洗行业率先淘汰四氯化碳(CTC)清洗剂,并得到批准。四氯…     

锅炉化学清洗技术的发展(二)——综述及相关问题分析

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求。     

清洗行业ODS淘汰现状

根据《ODS清洗剂消费调查报告》,中国生产和进口的CFC-113和TCA主要用作清洗剂,而生产和进口的CTC主要用做CFCs原料。源自《ODS清洗剂消费调查报告》和《上海、北京和大连地区ODS中小消费者抽样调查》的数据构成清洗行业计划的基准数据,并在此基础上形成了清洗行业信息调查报告。     

日本企业替代ODS及卤代烃清洗剂的主流技术碳氢清洗

日本企业在ODS和卤代烃清洗剂替代过程中形成的主流技术-碳氢清洗,具有洗净力强、适用面广、安全环保等诸多优势,值得我们学习和借鉴。本文详细介绍了碳氢清洗剂和真空清洗干燥机的特点和技术。     

Hep-2清洗剂工业用可行性分析报告

鉴于中国清洁行业协会通过鉴定认为Hep-2清洗剂是目前替代ODS类物质中最合适的一种的结论,但研究结果表明：Hep-2清洗剂有水存在时会发生水解反应,生成的酸性物质不仅会腐蚀液晶器件的ITO电极,而且对清洗设备也会产生破坏作用;该清洗剂在加热清洗过程中还散发出强烈刺鼻、致人头晕头疼的气体。因此认为该种清洗剂并不具有工业用可行性（至少在LCD清洗行业中）,这与鉴定结果相违背,在此提出以供大家讨论。     

半水基非ODS液晶清洗技术的应用研究

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.     

半水基非ODS液晶清洗技术的应用研究

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.     

第8步：清洗

影响SMT清洗过程的因素集中表现为：清洗产品针对特定杂质的清洗性能；空气、水和固体废物等环保要求；健康与安全因素；降低焊剂残余量以满足最终用户提高可靠性的考虑。拥有成本的因素；以及向无铅合金的转换等。工程清洗剂的设计必须充分考虑以上所有因素。     

水基金属清洗剂的清洗机理

本文介绍了水基金属清洗剂的性能，组成及水基金属清洗剂的清洗机理和选用。