W18Cr4V钢针阀的真空热处理

本文介绍了利用ZC—65型双室真空淬火炉和ZR—30A型真空回火炉,对W18Cr4V钢喷油嘴针阀进行真空热处理所取得的效果,说明了真空热处理的优越性。论述了如何正确合理地制定高速钢真空热处理工艺参数及真空热处理过程中应注意的问题。     

真空热处理设备

位于波兰华沙的欧洲电热技术公司最近收到了土耳其伊斯坦尔热处理厂的订货单,为后者制做全套真空热处理设备和钎焊设备。其中包括一台真空热处理炉,其炉膛尺寸为:长×宽     

深井式真空氮化炉及工艺

本文介绍了处理细长轴件的低真空氮化炉的结构特点和热处理工艺。生产实践表明,细长轴件在真空下氮化,渗层组织良好,厚薄均匀,氮化速度较快,显著地减少氨消耗量,有良好的工作环境。     

最新真空熔炼炉

真空加热可获得无氧化加热、脱气、高纯度化等多种效果，广泛应用于金属热处理、金属熔炼等领域。概述了真空感应熔炼炉、电子束熔炼炉、真空等离子熔炼炉、真空电弧炉等真空熔炼炉的用途与特点。重点介绍了混合动力汽车电动机与蓄电池用钕烧结磁铁与氢吸留合金制造用水冷辊式真空熔炼炉与新型急冷铸造式真空熔炼炉的设备结构、特点及其生产工艺流程。照3图7参1     

WZ003441马钢订购真空脱气设备（RH）

德国SMSMevac真空公司最近接到了中国马鞍山钢铁公司的订单,要求提供1套新型复式真空脱气设备（RH）。该新型RH设备的特点是双位热处理系统,每个系统包括：     

18CrNi8针阀体真空脉冲渗碳热处理

本文着重对针阀体的材料选择,热处理工艺进行了分析和实践。证明采用真空脉冲式渗碳-正火-再加热马氏体等温淬火-冷处理-回火等热处理工艺,能有效地控制热处理变形,获得各处相同的渗碳层深度,优良的金相组织,良好的冷加工性能和零件的使用寿命。     

新型热处理设备

美国爱普生公司最近同墨西哥奎利塔罗市斯莫尔兹热处理公司签订一份供货合同,为后者制作一批新型热处理设备,这些设备包括：2台真空谇火炉、1台真空回火炉、1台渗氮回火炉、工件清洗装置、全套电控系统及水冷系统。该项工程将于2008年三季度末投产。图1。     

18CrNi8针阀体真空脉冲渗碳的热处理

本文徉重对针阀体的材料选择,热处理工艺进行了分析和实践。证明采用真空脉冲式渗碳——正火——再加热马氏体等温淬火——冷处理——回火等热处理工艺,能有效地控制热处理变形,获得各处相同的渗碳层深度,优良的金相组织,良好的冷加工性能和零件的使用寿命。     

真空设备应用与真空系统漏气综述

介绍了真空设备的应用领域及真空热处理炉的现状和发展方向，总结了真空热处理炉的特点，根据放置原理提出了判断真空系统漏气分析模式，从而为准确迅速解决真空度问题提供了有效依据。     

真空热处理炉内污染分析及清除措施

铁、镍基高温合金在真空热处理时往往表面生成少量氧化物,影响产品表面质量、抗拉强度及频率,其原因在于炉内存在气体污染。针对这一难题做了技术分析,找出了消除污染的措施,得出解决问题的办法。     

RQV调速器止动簧热处理工艺改进

RQV调速器的重要零件止动弹簧在试制期间 ,常常出现脆性断裂或弹性不足 ,尺寸变化 ,表面不清洁等质量问题 ,经过多次热处理工艺试验和工艺改进 ,对设备和工艺参数调整和优化后 ,很好地解决了这些质量问题     

真空热处理炉保温屏的试验研究

本文主要介绍了真空热处理炉非金属保温屏以及它的热工性能、真空特性,并提出最优结构和材料组合。     

稀土Dy掺杂CdO薄膜的结构与光学特性

采用真空热蒸发法,在玻璃衬底上制备稀土Dy掺杂CdO薄膜并进行热处理。对薄膜进行结构和光学特性测试分析。实验给出:掺Dy后CdO薄膜沿(111)晶向的衍射峰增强,随掺Dy含量的增大峰强度逐渐减弱。掺Dy含量为5%时可促进薄膜晶粒的生长改善薄膜的晶相结构特性。制备的薄膜表面颗粒均匀,存在颗粒聚集现象。随掺Dy含量增加薄膜的透光率增大,掺Dy含量为9at%时,在波长大于900nm的区域透光率可达90%,略高于纯CdO薄膜。     

单室真空高压气淬炉的研制与开发

介绍WZDGQ30单室真空高压气淬炉的结构和技术特性，炉门卡环结构、炉胆结构和冷却系统，还较详细地介绍该炉的控制系统。     

大型卧式真空退火炉进出料机构设计

介绍了大型卧式真空退火炉进出料机构设计要点,针对不同应用情况,设计了不同形式的进出料机构,该系列进出料机构已应用于国内最大的有色金属卧式真空退火炉上,是大型卧式真空退火炉进出料的关键机构。     

真空气相沉积碲化镉薄膜特性研究

用一种简便的制备CdTe薄膜的方法－真空气相沉积法，在玻璃衬底上沉积CdTe薄膜。在真空度为133μPa真空室中，同时蒸发Cd Te材料，形成CdTe薄膜。为改善其性能，采用改良Cd:Te的原子配比和在Cd Te材料中掺杂In，用N2作保护气体，要不同温度下对薄膜进行热处理。通过SEM、XRD，SAM和AES等测试分析，分别研究了热处理前后CdTe薄膜的结构、组分及工艺条件对薄膜性能的影响。     

抽屉式GKG2-6C型高压真空开关柜的研制

本文从课题来源、研究思路、模型开关技术性能、并下使用特点、解决的主要问题，以及所产生的经济效益等几方面，介绍煤矿新型高压开关柜的研制过程。     

真空气相沉积制备碲化镉薄膜的电学和光学特性

用真空气相9沉积法，同时蒸发Cd和Te材料，在玻璃衬底上沉积CdTe薄膜。对CdTe薄膜掺杂In，并氮气作保护气体，在不同温度和时间下对薄膜进行热处理，研究薄膜的电学特性和光学特性。结果表明，用真空气相沉积法制备的CdTe薄膜的电学、光学特性和由其他方法制备的CdTe薄膜的电学和光学特性基本一致。     

运行参数变化对凝汽器真空影响的探讨

通过对N-16000-I型表面式凝汽器的数值模拟试验，定量地分析了其主要运行参数（冷却水流量、冷却水初温、热负荷、清洁系数等）变化对凝汽器真空产生的影响，所得结论为运行管理人员快速找出真空下降的原因提供了依据。