快速评价微杜瓦真空寿命及应用

微杜瓦内置吸气剂是一项关键技术,使红外微杜瓦内部长期维持高真空状态,保证红外探测器组件全寿命周期内可靠工作。采用传统方法预测微杜瓦真空寿命不仅耗时,而且难以及时指导微杜瓦设计和技术改进。通过分离影响杜瓦真空寿命的核心因素:贮存温度和吸气剂用量,采用单因素实验的方法评价微杜瓦真空寿命,实现真空寿命的快速评价。结合内置吸气剂的杜瓦高温贮存实验,预估室温下真空寿命。另外,采用杜瓦内置真空规技术,极大地缩短了内置吸气剂杜瓦的高温贮存试验时间,为微杜瓦的吸气剂用量配置和技术改进提供及时的信息资源。     

提升红外焦平面探测器杜瓦组件的贮存寿命

杜瓦内真空度退化和芯片盲元增加是影响红外焦平面探测器杜瓦组件贮存寿命的两大方面。杜瓦组件的排气策略直接关系到红外红外探测器杜瓦的真空寿命和红外芯片的贮存寿命,是影响红外探测器杜瓦组件可靠性的关键。本文以杜瓦放气率测试技术为依托,结合杜瓦组件在贮存环境下的退化规律和模型预测杜瓦贮存寿命。最后,综合平衡排气温度/时间对杜瓦真空寿命及芯片盲元损耗的影响,提供一种实现红外芯片和杜瓦真空同时失效的技术途径。     

提升红外焦平面探测器杜瓦组件的贮存寿命北大核心CSCD

杜瓦内真空度退化和芯片盲元增加是影响红外焦平面探测器杜瓦组件贮存寿命的两大方面。杜瓦组件的排气策略直接关系到红外红外探测器杜瓦的真空寿命和红外芯片的贮存寿命,是影响红外探测器杜瓦组件可靠性的关键。本文以杜瓦放气率测试技术为依托,结合杜瓦组件在贮存环境下的退化规律和模型预测杜瓦贮存寿命。最后,综合平衡排气温度/时间对杜瓦真空寿命及芯片盲元损耗的影响,提供一种实现红外芯片和杜瓦真空同时失效的技术途径。     

高温工作型红外探测器杜瓦漏热分析与测试

基于高温工作型红外探测器杜瓦组件的发展趋势,对影响杜瓦漏热指标至关重要的传导漏热和辐射漏热作了分析,提出杜瓦设计改进的方法。概括了杜瓦漏热测试的常规方法,并分析其在高工作温度杜瓦漏热测试方面的缺陷。采用真空保护量热法,实现高工作温度型杜瓦组件漏热的可靠测试,推动第三代红外焦平面探测器组件的发展。     

高真空多层绝热二氧化碳低温容器真空寿命与绝热性能分析

首先介绍了影响真空绝热低温容器真空寿命的影响因素和常用的吸气剂,然后针对高真空多层绝热二氧化碳低温容器,进行了真空寿命和绝热性能的分析研究。     

6 m3高真空多层绝热液氧容器真空性能

对高真空多层绝热液氧容器的真空寿命影响因素进行了分析和研究,提出了解决问题的技术方案,分析了吸附剂,吸气剂在获得和保持夹层真空度中的重要作用。     

真空玻璃内部吸气剂的应用

真空玻璃内部良好的真空度是保证其性能的重要指标,如果真空度下降,其保温、隔声等性能将随之变坏,因此如何获得并保持良好真空度是制作真空玻璃的关键技术之一。本文主要论述了真空玻璃中使用吸气剂来保持真空度的重要性,并介绍真空玻璃对吸气剂的特殊要求,真空玻璃发明人研制出了包封吸气剂及解封技术。通过长期对比测试,证明了放置有包封吸气剂的真空玻璃,能长期保持真空寿命。     

基于材料放气特性的杜瓦真空失效时间研究

杜瓦真空失效的两类模式是漏气和材料放气。漏气是导致杜瓦真空早期失效的主要原因,可通过工艺控制手段解决真空短命问题,材料放气是制约长寿命杜瓦真空寿命的根本原因。杜瓦放气特性是进行杜瓦真空失效时间计算的基础,建立杜瓦材料放气特性的合理测试方法成为评估杜瓦真空失效时间的关键。本文分析了小孔流导法和压强上升法测试杜瓦放气特性存在的固有问题,提出了进行杜瓦放气量测试的合理方案。杜瓦放气量测试是杜瓦真空可靠性研究的有效手段。杜瓦的放气特性不仅可用于杜瓦真空失效时间的评估,而且可用于计算杜瓦真空加速寿命试验的加速因子。     

非蒸散型锆铝吸气剂的极高真空性能

非蒸散型吸气剂是以体吸气作用为主的吸气材料,它避免了蒸散型吸气剂蒸发时污染器件,升华时温度高且不易控制等缺点.近期的研究表明,锆铝吸气剂与其它抽气手段配合可以获得超高真空.真空系统中常用的锆铝吸气剂是双面涂复的带状材,一般选用康铜或镍作压结带的带基.国外产品多数采用康铜作带基,国产吸气剂带仅用镍作带基。实验中选用国产锆铝吸气剂材料.对它的特性作了一般性介绍,着重对锆铝吸气剂的超高真空和极高真空性能进行了研究.给出了所使用的真空系统示意图和实验得出的抽气曲线,以及各种情况下的质谱图.对实验结果作了详尽地分析.     

MEMS器件真空封装用非蒸散型吸气剂薄膜研究概述

MEMS器件是机械电子系统未来的发展趋势。许多MEMS器件需要进行真空封装,从最大程度地减少残余气体,且真空封装水平的高低决定了器件的性能优劣甚至决定器件能否正常工作。常规的MEMS器件封装是在真空腔内放置块体吸气剂,占空间且容易产生微小颗粒污染。在器件的真空腔室内镀上吸气剂薄膜,吸气剂薄膜在器件高温键合的同时被激活,就可在后期维持真空腔内的真空度。非蒸散型吸气剂薄膜激活后在室温下即具有优异的吸气性能,应用于MEMS器件真空封装可以提高器件的寿命和可靠性。目前,提高非蒸散型吸气剂薄膜的吸气性能,降低其激活温度是国内外研究的焦点。本文简要介绍了非蒸散型吸气剂薄膜的吸气原理,从膜系材料和制备技术两方面分析了国内外研究现状。在膜材料方面,目前采用ⅣB族+ⅤB族组合的三元合金作为非蒸散型吸气剂薄膜的膜系材料。另外,在材料中掺入Fe、稀土元素等进行薄膜结构的修饰也是较常用的手段。值得指出的是,TiZrV合金薄膜是兼具较好的吸气性能和最低激活温度的非蒸散型吸气剂(NEG)薄膜。在制备技术方面,MEMS器件用非蒸散型吸气剂薄膜一般采用磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜工艺的关键是制备出柱状的纳米晶结构,该结构存在大量的晶界,可促进原子的扩散,降低激活温度。磁控溅射镀膜工艺的研究围绕靶材选择、基片温度、溅射电压、溅射气氛等。探索综合性能更优的新型材料体系和增大薄膜的比表面积仍然是目前非蒸散型吸气剂薄膜研究的关键。本文最后对非蒸散型吸气剂薄膜的研究趋势进行了展望,指出加入调节层的双层膜的激活性能和吸气性能优于单层膜,但调控机理有待明确,今后可以在TiZrV薄膜研究的基础上进一步进行双层薄膜的研究,也可横向拓展进行新型薄膜体系,如ZrCoRE等新型合金薄膜的研究。     

钡吸气剂和氩气

一、前言电真空器件的性能和寿命与管内气氛密切相关。管内的有害气体和杂质气体要减少到尽可能低的程度,因而选用各种类型的吸气剂来得到较为满意的真空气氛。钡吸气剂由于制造简单,价格低廉,吸气性能良好,在电真空器件中应用,管内真空度通常可提高1～2个数量级。可是,钡吸气剂蒸散后,因钡吸气剂会释放出一定量的氩     

电真空器件残气质谱分析和贮存寿命的快速测试研究

电真空器件内的残气压强是制管和管子工作过程中管内吸气剂材料吸气后形成的平衡压强,器件击破后质谱分析室本底气体会被吸气剂吸收。因质谱分析室放出的本底气体量一般远小于吸气剂在器件内原吸收的气体量,故器件内的残气压强的新平衡值增量可以忽略,分析室本底不会影响正确的分析结果;大气漏入管内后只表现出该管内惰性气体氩的积累;据此,我们提出了充氩法贮存寿命的快速测试方法。只有吸气剂失效或吸气饱和后管内残气质谱图才反映出漏入的大气成份或分析室本底气体干扰的特征。     

红外探测器真空封装的初步研究——质谱分析技术在红外光电器件中的应用

本文报导了利用四极质谱仪对红外器件真空层残气质谱分析的结果,并用它得到器件热脱刚处理工艺条件。光电导红外器件的烘烤温度可达105℃。并认为密封环境、镀银工艺的控制、消气剂设置都是重要的。随着红外应用技术的迅速发展,作为红外仪器心脏部分的探测器件,其性能的可靠性和稳定性越来越引起制造者和用户的关注。以往我们比较重视光敏元件本身的性能而对真空封装用的杜瓦瓶并不那么重视。但在实际使用中杜瓦瓶的地位并不亚于光敏元本身。在国外,许多研制生产红外探测器的厂商都将半数以上的研究技术力量投入封装和可靠性工艺。本工作的根本目的,是使工作在低温(77K)的玻璃杜瓦瓶贮LN_2的时间尽量长,即要求杜瓦瓶的真空绝热性能特别好,所以本工作归根结蒂是一个解决高真空的绝热问题。根据一般气体的脱附的弗兰克尔公式: T=T_0exp((Ed)/(RT))温度和脱附时间是反比的指数关系,因此烘烤温度无疑是影响残气脱附最重要的因素。需要指出的是:我们的红外器件目前还经不起较高温度的烘烤,这是由化合物材料自身的性能所决定的。这样,上述的问题就演变成一个“在有限烘烤温度下的高真空获得”的问题。本文,将主要运用对残气质谱分析的方法对真空封装工艺进行深入的研究,至于其它问题,后面的讨论部分作进一步的论述。     

战术武器用红外探测器免维护高可靠性研究

许多情况下,全寿命周期维护问题是战术武器装备非常关心的任务指标,由于红外探测器的真空和制冷器需要经常维修的时候,维护成本和寿命成了突出矛盾,研究机载武器系统、弹载武器系统应用的高可靠性红外探测器,会突破战术武器全寿命周期免维护应用方面的技术瓶颈。研究内容涉及应用环境条件、维修性、寿命、成本优化的量化指标分析。研究成果提高了探测器对于恶劣环境的适应性,减少了产品的复杂多样性,更新了技术水平。本文叙述了集成杜瓦制冷器探测器组件(IDDCA)的可靠性,介绍免维护高可靠性探测器生产过程及其改进思路。     

吸气剂在低温容器中应用的研究进展北大核心CSCD

吸气剂是维持真空的重要工具之一。本文将低温容器真空夹层内使用的吸附剂归纳为三种:第一种是化学吸附,主要特征为吸气剂与吸附质发生化学反应,常见有氧化钯、氧化铜等;第二种是物理吸附,其特点为吸气剂与吸附质(一般为气体)由范德瓦尔力将吸附质吸收于吸气剂微孔内,比如分子筛、活性炭等;第三种吸附既具有化学反应又包含物理吸附,常见如银分子筛何银吸气剂。本文讨论了国内外学者对不同吸气剂在低温容器中的研究成果,分析了真空夹层中产生气体的原因,探究了吸气剂的选用、吸气性能、吸附过程以及吸附机理,提出了后续研究方向主要集中在低温环境下吸气剂对低温容器全真空寿命周期内维持真空的性能。     

吸气剂在低温容器中应用的研究进展

吸气剂是维持真空的重要工具之一。本文将低温容器真空夹层内使用的吸附剂归纳为三种:第一种是化学吸附,主要特征为吸气剂与吸附质发生化学反应,常见有氧化钯、氧化铜等;第二种是物理吸附,其特点为吸气剂与吸附质(一般为气体)由范德瓦尔力将吸附质吸收于吸气剂微孔内,比如分子筛、活性炭等;第三种吸附既具有化学反应又包含物理吸附,常见如银分子筛何银吸气剂。本文讨论了国内外学者对不同吸气剂在低温容器中的研究成果,分析了真空夹层中产生气体的原因,探究了吸气剂的选用、吸气性能、吸附过程以及吸附机理,提出了后续研究方向主要集中在低温环境下吸气剂对低温容器全真空寿命周期内维持真空的性能。     

非蒸散型薄膜吸气材料研究进展

非蒸散型吸气薄膜是大型超高真空系统设备维持超高真空的重要材料,近来又成为基于物联网应用的MEMS器件维持可靠性和长寿命的关键材料。本文综述了非蒸散型薄膜吸气剂的基本原理、材料体系和制备技术,介绍了国内外吸气薄膜的材料现状、结构与性能、多功能化的最新进展,讨论了增大比表面积、调控纳米级精细结构的调控、实现多功能化和提高沉积精度是未来吸气薄膜技术的发展趋势。     

St707非蒸散型吸气剂的性能研究

非蒸散型吸气剂已经广泛被应用于密封的真空器件和粒子加速器来达到需要的真空。本文介绍了Ｓｔ７７非蒸散型吸气剂的吸气机理,操作程序和吸气性能,并且把一些实验结果给以说明。     

材料高温出气与电真空器件的寿命

本文首先评述了残余气体的量和质对电真空器件性能和寿命的影响。根据电真空器件是静态真空件的特点,指出降低气源的重要性。 分析了:漏、渗透、出气表面化学反应各种气源因素并做了数字比较。认为出气是最根本、最首要的。 说明了电真空器件的出气主要应考虑高温出气。介绍了目前国内外高温出气研究中选择的物理参量,加温方式,出气机制中的问题,以及如何把高温出气数据运用在电真空器件上。 一、残余气体对电真空器件的影响 电子管属于静态真空器件(如果不计吸气剂的作用)。 近年来栅控管、微波管、电子束管、光电器件等几个大类均已发展到…     

红外探测微型杜瓦用环氧玻璃钢材料导热系数的测定

红外探测微型杜瓦是一种能满足红外光敏元件在低温及真空环境下有效工作的重要装置,杜瓦的绝热性能直接关系到上探测元件的工作温度和工作时间,这也是杜瓦性能的主要考核指标,这种微型杜瓦的制造材料是添加了一层铝箔的环氧玻璃钢。实验测定了这种环氧玻璃钢材料的导热系数,以及实验研究了铝箔添加层的厚度与所处位置对导热系数的影响。