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1.
采用溶胶-凝胶法在硅片基底上制备ZrO2薄膜,在150℃~750℃范围内不同温度下进行热处理,研究了热处理对膜层结构和光学性能的影响。X射线反射用于膜层厚度和界面粗糙度分析,结果表明热处理温度由150℃升至750℃,膜层厚度由常温状态下的112.3nm减小到34.0nm,表面和界面粗糙度均小于2nm。以X射线反射法测得的膜层厚度为初始值,对椭圆偏振仪的测量结果进行拟合,得到不同温度的膜层折射率,结果表明热处理温度为550℃时膜层折射率达到最大值。X射线反射作为直接的膜层厚度测试手段,所得结果为准确分析椭偏光谱提供了参考。 相似文献
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77K基底制备的银薄膜的微观结构和光学性质 总被引:2,自引:0,他引:2
应用蒸发镀膜方法,分别在室温和液氮温度(77K)玻璃基底上制备了银薄膜样品。对两种样品的微观结构和光学性质进行了对比研究,微观结构应用X射线衍射仪、扫描电子显微镜进行分析,光学性质应用椭圆偏振光谱仪进行研究,测量的光学参数与理论计算的结果基本吻合。比较液氮温度基底上制备的银薄膜与室温基底上制备的银薄膜表面后发现:前种薄膜的表面更均匀、颗粒更小;两种薄膜的光频介电函数实部ε1基本没有差别,前种薄膜的光频介电函数虚部ε2大;前种薄膜的光学吸收增强,吸收峰发生蓝移和宽化。实验结果表明颗粒膜的光学吸收峰的位置依赖于颗粒膜中金属的介电常数和粒子尺寸。 相似文献
3.
研究高反射、减反射薄膜的膜系设计、薄膜材料的选取以及薄膜的制备工艺。以GaAs为基底用TXX-700箱式真空镀膜机通过电子束真空蒸度技术制备出808-850nm波段的高反膜、增透膜。反射镜波长在808-850nm范围内,平均反射率R>99.9%;增透膜具有高透射性能,输出镜波长在808-850nm范围内,T>98%。 相似文献
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采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。 相似文献
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用激光脉冲沉积(PLD)法在MgO(001)衬底上成功地生长、制备出了外延铌酸锶钡钠(SCNN)电光薄膜.对生长制备出的SCNN电光薄膜用X射线衍射对其微观结构进行了测量研究;X射线衍射结果显示生长在MgO(001)衬底上的SCNN电光薄膜是外延膜;对生长在MgO(001)衬底上的外延SCNN电光薄膜在200~900nm光谱范围的透射光谱进行了测量研究,通过对薄膜透射光谱的振荡曲线分析计算得到了SCNN电光薄膜的光学常数,结果发现外延SCNN电光薄膜的折射率符合单电子模型. 相似文献
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《功能材料》2020,(7)
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶红外光谱(FT-IR),X射线衍射(XRD)、维氏硬度计(Vicker indenter),分析了氢气流速(0、3、7和10 mL/min)对碳化硼薄膜的光学性质和机械性质的影响。结果表明,氢气流速的增加,可以明显提高红外光学透过率,降低红外光光吸收率。与此同时,氢气的增加还能降低薄膜应力,使薄膜易于附着在基底上。然而,氢气也会使得碳化硼薄膜硬度降低。 相似文献
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光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射,国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃,本文以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在聚碳酸酯(PC)镜片上镀高反射膜,研究了不同膜系结构(层数不同)的反射膜对特定波段的反射效果。研究结果表明,采用了5层膜的设计,PC在可见光区的400nm波段到700nm波段的最高反射率从9.5%上升到85%。PC在特定波段的反射率得到了明显的提高。 相似文献