真空灭弧室发展分析

阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍。     

真空灭弧室生产工艺对灭弧室小型化发展的影响

对真空灭弧室生产方式、发展进程及不同生产工艺对灭弧室小型化发展的影响进行了分析,说明了真空灭弧室向小型化方向发展的意义。     

浅谈真空灭弧室的制造工艺及发展方向

随着真空技术的不断发展．真空灭弧室的制造技术也得到了很大的提高,我国真空灭弧室的设计理论、制造工艺和质量水平都有了质的飞跃。真空灭弧室制造工艺的发展,主要表现在四个方面：触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造工艺．本文主要介绍真空灭弧室的制造工艺特点以及发展方向。     

真空灭弧室的耐压特性及其分析

对真空灭弧室的耐压特性进行了分析和研究，包括灭弧室触头间隙及触头和屏蔽罩间隙的耐压特性，探讨了面积效应在真空灭弧室设计中的应用。本文对于改善真空灭弧室的耐压特性及高电压大容量真空灭弧室的开发有重要意义。     

直空灭弧室的耐压特性及其分析

对真空灭弧室的耐压特性进行了分析和研究，包括灭弧室触头间隙及触头和屏蔽罩间隙的耐压特性，探讨了面积效应在真空灭弧室设计中的应用，本文对于改善真空灭弧室的耐压特性及高电压大容量真空灭弧室的开发有重要意义。     

西安交通大学设计的真空灭弧室结构及性能分析

为了对我国真空灭弧室的生产和发展提出建议,将对我国生产的各种真空灭弧室的结构和性能进行分析,本文主要分析西安交通大学研制的单极纵磁线圈真空灭弧室,多极纵磁线圈真空灭弧室和铁心式纵磁结构真空灭弧室的结构和性能。     

真空灭弧室及其性能

真空灭弧室的结构与其它断路器的灭弧室相比,是比较简单的。真空灭弧室的结构、材料及其制造工艺都对性能有重大影响。但合理设计真空灭弧室,合理选择各种部件的材料仍然是保证灭弧室性能的基础。本文拟对真空灭弧室的结构及影响其分断能力的因素等有关问     

72.5kV高压真空灭弧室内部电场的优化设计

高压真空灭弧室绝缘设计的关键是其内部电场分布的设计。为优化高压真空灭弧室内部的电场分布,使其内部电场强度分布均匀,建立了真空灭弧室的参数化模型。针对真空灭弧室设计工艺参数是变量的问题,利用ANSYS的有限元分析及其参数化语言对真空灭弧室轴向尺寸进行优化设计,通过一阶迭代方法,得到了真空灭弧室相关尺寸的优化序列及变化曲线。优化后与初始参数值相比,电场强度分布更加均匀。     

对真空灭弧室发展方向的浅见

王季梅教授在“我国真空开关技术发展和应用前景”一文中提出了一个十分重要的问题,即真空灭弧室的发展方向问题,王教授指出:“根据今后发展的趋势和要求真空断路器用灭弧室宜采用陶瓷外壳,外形尺寸力求小型化”,关于真空灭弧室(主要是针对10kV真空灭弧室)的发展方向我想谈一点不成熟的看法。真空断路器的主要用户是配电部门,目前我国配电系统使用真空断路器尚不普遍,其原因有三:与油断路器相比,真空断路器的价格太高;真空断路器的过电压比少油和SF_6断路器高;用户对真空灭弧室的可靠性有怀疑。     

真空灭弧室的几种主屏蔽罩电场仿真分析

<正>介绍了在电力系统一个重要元件——真空灭弧室的主屏蔽罩结构设计。随着真空灭弧室产品向小型化和低成本发展,主屏蔽罩的结构也发生相应变化。真空灭弧室作为真空断路器的核心元件,其质量性能好坏直接决定了真空断路器的使用性能表现。市场上,真空灭弧室典型结构组成如图1所示。主屏蔽罩作为真空灭弧室的关键零件之一,主要作用是当触头之间产生电弧时有大量金属蒸气和液滴向真空灭弧室四周喷溅,这些电弧生成     

Change in dielectric strength of vacuum interrupters at reduced service life

The dielectric strengths of two samples of the same type of vacuum interrupter are compared. One vacuum interrupter is a new and has not been tested for switching ability after manufacturing and the other is a vacuum interrupter with a 70% reduced service life. Tests of the dielectric strength are conducted using a standard lighting pulse. Studies have shown that electric breakdowns behind the front of a lighting pulse are caused by electric breakdowns in the screen system of the vacuum interrupter. Possible reasons for the decrease in the dialectric strength of the screen system are discussed.     

72.5kV真空灭弧室电位和电场分布研究

为分析72.5 kV真空灭弧室的电位分布和电场分布及其影响因素,建立了其轴对称有限元分析模型,计算了其电位分布和电场分布,研究了真空击穿的面积效应,并分析了主屏蔽罩的结构尺寸及多个屏蔽罩对真空灭弧室内部电场分布的影响。结果表明:真空灭弧室动静触头之间、触头和屏蔽罩之间的电位变化比较显著,灭弧室内部电场分布不均匀;随着触头间隙距离、触头半径及倒角部分曲率半径的增大,触头表面有效面积将增大,而灭弧室内部最大场强将有所减小;增大主屏蔽罩的半径和长度,可以使屏蔽罩两端的场强有所减小,在真空灭弧室内安装多个屏蔽罩,可以改善内部电场分布。计算结果可为高电压等级真空灭弧室的优化设计提供参考。     

基于永磁操动机构的混合断路器开断能力探讨

论述了基于真空灭弧室和SF6灭弧室串联的混合断路器开断过程.探讨了真空灭弧室与SF6灭弧室对开断能力提升的协同作用,结合混合断路器开断能力提高的机理分析了混合断路器对其操动控制机构的要求.最后设计了一种基于真空断路器与SF6断路器串联的光控模块式混合型断路器实验模型,实验模型采用永磁操动机构解决真空灭弧室和SF6灭弧室...     

真空断路器灭弧室内部气体压力及其测定

真空断路器的使用日益广泛 ,真空灭弧室作为断路器的核心部件 ,其内部气体压力是决定真空断路器工作性能的重要参数 ,笔者就真空灭弧室内部气体压力的测定方法和现场使用情况进行介绍     

高电压等级真空灭弧室绝缘结构的研究

为了解真空灭弧室的绝缘性能,通过对72.5kV真空灭弧室试品的冲击耐压试验以发现规律、分析其影响因素并改进绝缘结构。试验表明,其内部绝缘击穿并非发生在触头间隙,而是触头背部与主屏蔽罩间的间隙放电。增大触头边缘与背部过渡处的圆弧半径后,提高了耐压水平。进一步提出126kV真空灭弧室内部绝缘结构的设计方案,计算了电场分布情况并用真空灭弧室绝缘击穿的统计特性分析其耐压特性。     

Three-phase 110-kV interrupter

The first Russian 110-kV ac outdoor vacuum interrupter is described. The interrupter has split poles and a spring drive. The interrupter parameters are presented.     

不同触头结构真空灭弧室分断能力的测量分析及应用前景

作者测量了不同触头结构中高压等级真空灭弧室的分断能力及弧压特性，并对各种触头的设计思想及熄弧原理进行了讨论，通过对比分析，指出将单极线圈式纵磁和多极线圈式纵磁头应用于国内中高压等级真空灭弧室的必要性。     

Direct-current vacuum contractor for railway transport

The results of studies of switching off a direct current using a vacuum interrupter with a transverse axial-symmetric magnetic field at a recovery voltage of up to 9 kV are presented. The prototype of the DC vacuum contactor based on this vacuum interrupter was developed and manufactured for applications in railways. The contactor is intended for switching off DC current at a rated voltage of 3 kV. The main technical parameters of the vacuum contactor are presented.     

真空灭弧室CAD系统探讨

真空灭弧室是真空开关的核心部件,本文从不同方面探讨了建立真空灭弧室CAD系统的必要性,提出了建立真空灭弧室CAD系统的目标和内容,并提出了真空灭弧室CAD系统的结构和实现方案.     

真空灭弧室中屏蔽罩电位动态测试及分析

本文通过测量真空灭弧室中屏蔽罩电位与电弧电压和恢复电压关系的动态变化波形，探讨真空灭弧室在短路电流分断过程中，真空电弧的燃弧规律和弧后介质强度恢复规律。在试验结果的基础上，对真空灭弧室屏蔽罩电位与触头间电压的动态关系进行了数学推导，从理论上分析了屏蔽罩电位的变化规律，证实这是一种研究真空灭弧室性能的可行方法。