半水基非ODS液晶清洗技术的应用研究

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.     

半水基非ODS液晶清洗技术的应用研究

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求.     

水基清洗技术在彩管荫罩黑化前清洗中的应用

本文主要介绍了水基清洗技术在彩管成型荫罩黑化前清洗中的应用。介绍了水基清洗技术的清洗原理、工艺特点,以及对水基清洗剂的一般要求及实际使用中的注意事项。     

水基金属清洗剂的清洗机理

本文介绍了水基金属清洗剂的性能，组成及水基金属清洗剂的清洗机理和选用。     

锅炉化学清洗技术的发展(二)——综述及相关问题分析

本文就COG-STN等精细线路高档LCD液晶屏狭缝液晶、电极引脚及玻璃表面的清洗,从非ODS清洗剂、清洗工艺和清洗设备三个方面进行了研究,结果表明使用半水基非ODS清洗剂Fisher2000-1和UEA-8090八槽式水基超声波清洗机清洗能满足产品品质的要求。     

40cm CDT荫罩水基清洗技术

不基清洗取代ODS清洗是世界环保的需要。本文着重讨论了水基清洗的机理，清洗工艺，清洗设备技术，生产中的不良对策等。     

无VOCs水基免清洗助焊剂的研究

研制了一种以水作溶剂,不含挥发性有机化合物(VOCs)的水基免清洗助焊剂。根据信息产业部制定的免清洗液态助焊剂标准,使用Sn-3.8Ag-0.7Cu无铅焊料,对该免清洗助焊剂进行了性能检测。结果表明:该助焊剂在外观、稳定性、粘性、卤化物含量等方面都符合标准,对无铅焊料助焊效果较好,无卤化物,无毒,无刺激性气味,环保,安全,节省成本。对无VOCs水基免清洗助焊剂在波峰焊中的应用给出一些建议。     

水基清洗技术在彩管荫罩清洗中的应用

本文结合生产实际,着重论述了将水基碱性清洗技术应用于成型荫罩的清洗工序,通过对工艺条件的摸索、对重大工艺不良采取了对策和对设备进行了必要的改造,最终达到了良好地清洗效果,从而结束了使用对臭氧层有破坏作用的三氯乙烷清洗荫罩的历史。     

成型荫罩水基清洗工艺开发及应用

本文结合生产实际,着重论述了将水基碱性清洗技术应用于成型荫罩的清选过程中所进行的工艺条件摸索优化、重大工艺不良的攻关对策及对设备进行的必要改造工作,最终达到了良好的清洗效果,结束了一直使用三氯乙烷清洗荫罩的历史。     

替代ODS清洗工艺的选择与对设备的要求(二)

3．对清洗设备的要求和清洗设备的导入．验收。3．1对清洗设备的要求。替代ODS清洗改造项目一般都需要针对项目的具体情况重新制造清洗设备，直接利用原有清洗设备或稍加改造就能达到替代ODS清洗目的的情况很少。通过清洗工艺试验和清洗质量评价确定的清洗工艺方案，是设计制造新清洗设备的基本依据之一；而另外一个更原始的基本依据则是     

全自动太阳能硅片清洗机的研制

全自动太阳能硅片清洗机是对脱胶预清洗之后的硅片进行进一步的清洗。为了保证得到洁净的硅片,除了采用碱溶液清洗之外,清洗设备还增加了浸泡、超声清洗、抛动、鼓泡等清洗工艺,提高了硅片的清洗质量和可靠性,保证了硅片的清洗合格率。采用先进的自动控制系统,不仅能满足客户的现有工艺要求,还可以根据用户的需求进行不同的工艺配置。     

光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究

研究了光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺,在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下,通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响,研制出有效清洗光学元件的清洗工艺,并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。同时发现光学元件的放置时间会影响元件的清洗效果。超声清洗刚加工好的光学元件洁净效果较好,清洗时间较短;有6个月存放期的光学元件,表面颗粒污染很难洁净清洗。     

超声波清洗对LCD性能的影响的研究

研究了超声波清洗对液晶器件定向层性能的影响，结果表明：超声波的输出功率、液晶器件的形状与尺寸以及清洗时的放置方式均对定向层的划伤程度产生较大的影响。并在此基础上进行了理论计算，结合实验结果，分析了定向层划伤的原因。     

半导体元件清洗技术浅谈

随着社会的进步和科学技术的迅猛发展,对洗净技术的要求也越来越高。清洗方式多种多样,但最主要的是突出在喷射清洗和超声波清洗两大方面,应用于全国各行各业,并且也得到了明显进步。     

利用激光清洗技术清除砂岩及光学元件表面污染物

激光清洗技术与其他清洗方法（化学清洗、超声波清洗等）相比,具有保证清洗对象无损、清洗效果好、精细和无污染等优点,正在被广泛地研究和应用。根据去除原理的不同,激光清洗技术被分类为干式激光清洗、湿式激光清洗和激光等离子体冲击波等方法。在文物保护领域中,石质文物表面的污染物影响文物美观,更严重威胁着文物的保存。在高功率固体激光装置中,光学元件表面的污染物严重影响了激光系统的正常运行。利用激光清洗技术清除砂岩表面的墨迹污染物以及镀金K9玻璃表面颗粒和油脂污染物,利用显微镜、暗场成像法、紫外可见近红外分光光度计、X射线光电子能谱仪等方式检测清洗效果,结果表明清洗效果良好。     

物联网视阈下光伏面板自动清洁系统的研究

光伏面板的清洁对太阳能光伏发电系统的正常运行和发电效率至关重要。基于此,文中提出了一套基于物联网的太阳能光伏面板自动清洁系统,其分为感知层、网络层、服务层和应用层等4个层级。在整个系统中,光伏面板管理节点是其核心,文中创造性地提出了自动模式和手动模式两种控制流程,可根据实际情况进行切换。该系统可及时监测光伏面板的状态,控制清洁设备进行清洁操作,提高光伏面板清洁的及时性和效率。     

超声波洗净设备的设计制造

本文介绍了超声波洗净设备在制造过程中需考虑的有关设计问题，以及在制造技术方面需考虑的多种因素，并提出了实用性的建议。     

超声波清洗机在清洗装滚子的塑料盒中应用

通过对原来用纸盒和改用塑料盒装滚子前后清洗方法的比较，介绍了改用超声波清洗塑料盒的新工艺，提高了清洗效率，减少了对环境的污染，极大地改善了工人作业环境。     

覆铜箔板全自动叠合拆解回流生产线

叠合拆解回流生产线是生产覆铜板的主要装备。本文研究了基于PLC自动程序控制的覆铜箔板叠合拆解回流生产线,主要由叠合系统、拆解系统、钢板清洗系统以及铜箔牵引剪切系统组成。研制的全自动叠合拆解回流生产线已经在覆铜板生产企业中得到了应用。     

集成微电路基板清洗新技术与ODS清洗技术

文章介绍了集成微电路基板清洗领域的ODS替代清洗技术，着重介绍了十槽式超声波清洗机在高精度的集成电路清洗工艺中的具体应用。