望远镜红膜物镜色度设计与检验初探

在红膜的设计与镀制过程中，由于影响薄膜的因素较多，因而实际镀制的红膜其反射颜色是不一致的，造成了红膜标准的多样性。为此本文将从色度计量方面给出设计的具体要求，即从光谱特性曲线计算红膜物镜的透射色度和反射色度；ＸＹＺ表色系统的色度座标值（Ｘ、Ｙ、Ｚ）及其取值范围，色饱和度的大小，检验时的光路、光源等。     

光纤型脉冲多通道快速分光颜色测量仪

本文开发了一种采用脉冲氙灯光源照明、多元陈列光纤做为多通道接收器的光纤型脉冲多通道快速分光颜色测量仪。该仪器的色分辨率高、动态范围大、色品坐标精度为０．００２、测量光谱范围３８０ｎｍ－７８０ｎｍ、光谱分辨为１０ｎｍ、测量时间为几个ｍｓ、测量时间间隔小于５ｓ、能测量较暗物体的颜色，并能给出各种标准照明体和各种色度系统下的色度参数。如果将照明光源换以紫外激发光源或待测光源，就能进行荧光物体和颜色的脉冲     

数字电影系统高性能冷反光镜

为了实现数字影视系统中反光镜较高的光谱要求和良好的膜层特性,深入分析了深椭球反光镜的膜层厚度分布关系,讨论并实践了膜系设计及镀制工艺。使用自行研发设计的高性能冷反光镜专用镀膜机,镀制了光谱特性趋于一致的数字电影反光镜产品,并成功应用于数字电影放映系统。     

应用SiC反射镜表面改性技术提高TMC光学系统信噪比

为了消除SiC反射镜的固有缺陷,提高反射式光学系统的信噪比,使用SiC表面改性技术对同轴三反射(TMC)光学系统的SiC反射镜进行了处理.首先,应用等离子体辅助沉积(PIAD)技术沉积了一层Si改性层,接着对改性层进行精密抛光,然后在反射镜表面镀制Ag膜和增强膜,最后获得了表面改性对TMC光学系统信噪比的影响.Wyko轮廓仪测试表明,SiC反射镜的粗糙度R_a由10.42 nm降低到了0.95 nm;镀制高反射膜后,主镜、次镜、三镜及折叠镜在0.5～0.8 μm可见光波段的反射率＞98%.计算结果表明,应用了表面改性技术后TMC反射式光学系统的信噪比提高了5%以上,说明SiC表面改性技术是一种提高TMC光学系统信噪比的有效方法.     

脉冲多通道快速分光显微色度仪

本文开发了一种用于颜色产品微面积精细颜色测量、采用脉冲氙灯光源、光纤环形照明、全息平场凹面光栅型脉冲多通道快速分光显微色度仪。该仪器结构简单、色分辩率高、色品坐标精度为０．００２、最小分辨线视场为０．０１ｍｍ，测量光谱范围为可见区、光谱分辨率为１０ｎｍ、测量时间间隔短、能进行较暗物体和荧光物体的微面积精细颜色测量，并能给出各种标准照明体和各种色度系统下的色度参数     

SiC反射镜表面改性对TMC光学系统信噪比的影响

SiC（Silicon Carbide）反射镜由于固有的缺陷,在使用时会影响反射式光学系统的信噪比。采用表面改性技术后,Wyko轮廓仪测试表明SiC反射镜的粗糙度由10.42nm（Ra）降低到了0.95nm（Ra）,镀制了银反射膜和增强膜后,主镜、次镜、三镜及折叠镜在0.5μm-0.8μm的可见光波段反射率＞98%。计算的结果表明应用了表面改性技术后TMC反射式光学系统的信噪比提高了5%以上。     

光度色度仪系列〉新产品WSF-J分光测色仪

1应用范围 WSF—J分光测色仪是一种性能优越、用途广泛而又操作简便的测色仪。适用于测量各种物体的反射色及透射色,可以测试色度、自度以及两种物体或液体的色差等。仪器的照明接收方式为CIE规定的d／8。它可以显示可见光波段（380。760nm）中物体或液体的反射比与透射比,可给出物体或液体反射色与透射色的光谱曲线,     

双金属镜微腔结构中单介质调谐层的设计

根据优化势透射率给出了双金属镜微腔中理想单介质调谐层的折射率和厚度,估算了由于在可见光波段实际材料的限制引起的透射率光谱的改变,并且结合腔镜的反射系数和位相改变引起的微腔辐射因子的变化,综合考虑了单介质调谐层对整个器件发光耦合效率的影响。说明在设计含有源层的金属薄膜微腔器件中,介质层的设计和优化应考虑微腔效应的变化。     

光谱扫描间隔对节能光源色度测试的影响研究

研究了光谱扫描间隔对节能照明光源色度测试及合格性判断的影响.实验采用积分球-光谱仪测试系统,分别以1nm和5nm两种光谱扫描间隔测量节能灯样品光谱、色温、显色指数、色坐标等参数.实验结果发现:1nm、5nm采样条件下光源光谱功率在610nm附近峰值相差最为显著;1nm扫描间隔所测色温值均高于5nm间隔所测值,显色指数均...     

DM-450C真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450C型真空镀膜机,在1994年,被机械部评定为一等品。该产品是在DM-450A的基础上改进而成,该镀膜机主要用来蒸镀光学镜片的反射膜,透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻工业品的装饰性薄膜。 DM-450C镀膜机的蒸发功率比DM-450A     

薄膜技术在消除机械瞄准具虚光问题中应用的研究

用波动光学理论建立起光在空气与金属表面的传播模型,通过分析,给出了机械瞄准具照门缺口处虚光成因的近似解释。分别用特征矩阵法和矢量法计算出了所需的一层与多层减反射膜的膜系参数,与现有的薄膜材料参数相比较,选择适当的材料作等效代换,给出了一套合理的膜系设计。     

全角度反射的多层介质膜系

在总结金属反射镜及多层介质反射镜的优缺点的基础上 ,按照一维光子晶体的设计思想 ,提出用λ/4膜系设计特定波长范围内的全偏振全角度反射镜的方法 ,给出了反射带中心波长、边缘波长及带宽的表达式 ,并对如何避免 Brewster窗作了定量分析。     

360°高阶非球面反射式全景镜头设计

为了简化系统配置、提高图像采集及处理效率,实现单一光学系统环视高清全景成像,依据折反射式光学系统的工作原理,设计了高阶非球面反射式360°全景镜头,并对光学结构和系统像质进行优化设计。该相机采用高阶非球面反射镜压缩视场角,将垂直光轴方向俯仰角从-55°到20°的环视目标光引入到系统,接着,在后续光路中利用玻璃透镜组对目标光进行接收,并使其聚焦于相机靶面,获得物体的环形全景图像。通过对系统像质的优化,得到高清的360°环视全景图像,并对光学系统的主要性能指标进行了分析。所设计的360°全景镜头采用1片高阶非球面反射镜和10片玻璃球面镜组成,系统的焦距为0.4mm,光圈数为2.2,俯仰角达到75°,像方全视场在150lp/mm处的光学传递函数值均大于0.3。该360°全景镜头采用单一光学系统成像,解决了传统拼接式全景镜头图像采集与图像处理效率低的问题,同时通过简化系统结构,使该产品符合成本低、可量产的要求。     

基于液晶5CB的静电纺丝光控形变器件

光控形变器件以其高响应速度在仿生学领域得到广泛关注。通过静电纺丝的方式,成功制备出了一种在可见光波段可实现形变响应并恢复的器件。通过在聚氨酯(TPU)弹性基底膜上静电纺丝有序排列的液晶小分子4-氰基-4'-戊基联苯(5CB)的聚乙烯醇(PVA)纤维膜,可以使其中的5CB在吸热后发生相转变并产生体积收缩,最终带动基底膜实现弯曲形变。通过静电纺丝或涂覆的方式添加光热转换率高的碳纳米管(CNTs),可以进一步赋予该类器件光控响应能力。结果表明,制备的器件因其良好的光控形变性能和光控响应性能,故可作为执行器用于人体仿生学等领域。     

基于复合抛物面聚光器的LED反射器的设计

针对发光二极管(LED)具有寿命长、发光效率高、显色性好、节能等诸多优点,基于复合抛物面聚光器(CPC)的结构与原理,设计了一种LED反射器,通过与传统荧光灯灯具比较,采用最优化理论和光学软件TracePro对其进行模拟仿真,结果表明这里所设计的反射器具有光场分布合理,充分利用光能节约能源,传统反射器无法比拟的优点.     

光学薄膜元件在舞台灯光中的应用

舞台灯光灯具采用传统光学系统,光学系统主要实现灯光的视觉效果如光强、颜色及其他一些特殊效果。而光学系统中的各种光学元件都需要光学镀膜。现主要介绍舞台灯光中常用的光学薄膜元件类型、设计膜系和光谱曲线,探讨光学镀膜材料和工艺,以及光学薄膜元件的应用场合。     

薄膜干涉滤光片单色性的研究与应用

研究了薄膜干涉滤光片的单色性对生化仪和光谱分析仪实现高信噪比的重要性。通过对薄膜干涉滤光片单色性的数学分析,结合实际应用,设计和制作出的高信噪比薄膜干涉滤光片能完全符合生化检测的要求,能正确地反映出不同被检样品的特性。     

摄影镜头的光学薄膜膜系设计

摄影镜头的光学薄膜是减反膜 ,但摄影镜头的接受载体是彩色感光胶卷。所以摄影镜头的减反膜不仅应达到减反效果 ,还必须满足彩色胶卷的感光要求。从工作经验出发 ,阐述设计摄影镜头光学薄膜膜系的方法、重点 ,以及膜系设计的工艺性问题     

大功率LED阵列光源的配光设计

通过LightTools软件实现针对大功率LED阵列光源的窄幅配光系统的设计。首先,分析了抛物面反光杯的焦距和出光口径与半峰边角的关系,并由此关系确定了15°半峰边角要求下所需的抛物面反光杯的初始面型参数值;其次,在二次曲面范围内对初始面型的面型常数k做进一步的优化,得到最佳的反光杯面型;再次,改变光源和反光杯焦平面之间的相对位置,来消除光强轴线方向的凹陷;最后,实现了窄幅投光灯的配光设计。该设计方法对不同光束角要求的快速配光设计有一定的指导意义。     

离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性

Ta_2O_5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta_2O_5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备参数之间的相关性进行研究。研究结果表明:在置信概率95%以上时,对Ta_2O_5薄膜禁带宽度影响的制备参数,权重大小依次为氧气流量、基板温度、离子束电压;而对Ta_2O_5薄膜Urbach带尾宽度影响的制备参数,权重大小依次为基板温度和氧气流量。对于Ta_2O_5薄膜在超低损耗激光薄膜和高损伤阈值激光薄膜领域内应用,本文的研究结果给出了同步提高薄膜的禁带宽度和降低带尾宽度的重要工艺参数选择方法。