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相似文献
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1.
我厂是以生产原材料(大型锻件、锻材)为主的军工企业,在原材料常规力学性能检测中,由于试样的强度较高(高强度钢,超高强度钢),常遇到拉伸夹具被拉坏的现象.同时利用原试验机的夹具,在制作试样时由于试样的夹齿部分做得较长(一般试样一端需要30~50mm长),极大地浪费了原材料.为此,我们在济南生产的WE-30T液压万能材料试验机上对原有的夹具做了改造.改制是方法如下:选取材料为PCrNi3Mo或42CrMo,将该材料锯成四方形两块,每块料再从当中锯开,然后将待磨面进行刨削,上平面磨床上磨削(目的使切开的两半结合紧密),再将两平面(或两半)的两端用点焊的方式焊接成一体,打中心孔,按图3要求在车床上钻孔、镗孔.最后车成有一定锥度的圆柱体,切掉两端焊点,上夹具在小端面钻孔、攻丝;下夹具在圆柱的大端面钻孔、攻丝,最后热处理.上下夹具均由两半组合而成,将两半用铜片和螺钉联成一体,即成此套  相似文献   

2.
在金相分析中,有时为研究某些试样中的第二相或疏松、微裂纹等微观缺陷及裂纹的扩展情况等立体形态或分布特征时,需要测定其厚度方向的尺寸,即需要测出试佯磨抛去除层的厚度,此时,由于用测微仪只能测出试样表面的相对平整程度,对此就显得无能为力了.为此,我们试验开发出了显微硬度计的另一种用途——金相试样磨抛去除层厚度的无基准精确测量.现介绍如下.1 试验方法试样经400目以上金相砂纸精磨后,用压头为136°金刚石角锥的显微硬度计在试样磨面上打一显微压痕,压痕放大后如下图所示.由于压痕形状是与金刚石压头一致的两相对面间夹角α=136°的正四方锥形,它在试样磨面的投影为正方形□ABCD,抛光后则成为□abcd.设该两正方形的边长和对角线长分别为l_0、l_1和d_0、d_1,则它们之间的关系为:  相似文献   

3.
在弯曲试验的全过程中,冷弯冲头各个部位承受着不同的受力状态,为顺利做好弯曲试验,设计冷弯冲头时应注意以下问题:1 冷弯冲头规格的配置原则上尽可能满足各类材料品种及状态的有关标准对弯心直径的要求,但又必须减少冲头规格配置的数量,便可按级差2mm或小于10%配置,综合列出以下规格系列(单位:mm):6,8,10,12,14,16,18,20,22,24,26,28,30,32,36,40,42,45,48,50,54,56,60,64,66,70,75,80,84,88,92,96,100,108,112,128,14O,154,168,175,192,224,256.在有关标准中,大于128mm规格的冲头都用弯曲90°的冲头,因此弯心圆弧有效工作段的圆弧只需大于90弧度,从强度与材料试验机结构状态考虑,取120弧度的半圆形,弦面中心突出一圆柱与试验机相连接(图1),便能减小冲头的有效高度与重量,有利于安装操作.  相似文献   

4.
国标GB/T229—1994中7.5条规定“试样缺口对称面应位于两支座对称面上,其偏差不应大于0.5mm”.但由于一般国产冲击试验机没有试样缺口自动定位装置,要将试样缺口在支座上准确放置只能利用“跨距样板”手工放置,因此放置试样耗时较长,效率较低.特别在高温或低温冲击试验中,试样从介质中移出至打击的时间根本无法满足标准中7.10条“必须在3~5s内打断试样”的规定.为满足标准中7.10条的要求,必须压缩放置试样时间,采用试样定位器是一种有效的方法.定位器的作用是当放置试样时能使试样准确定位,而冲击时又不与试样接触以不改变原受力状态.定位器如图1所示,活动基座上有两个前定位块和两个后定位块,它们作用是防止定位杆与试样支座或冲击试验机摆锤座壁直接发生碰撞.活动基座钻两个孔,两条导向杆分别从中穿过,使活动基座能在导向杆轴向上往复运动.定位杆(图2)用旧千分尺改制,将其螺纹部分截短,测量端磨尖.定位杆采用千分尺的目的是高、低温试验时能对试样膨胀量进行补偿.拉力电磁铁接冲击试验机“冲击”开关时,拉力电磁铁接通,将活动基座往后拉,当“冲击”开关断开时,活动基座在弹簧的作用下恢复原位.  相似文献   

5.
金属材料弯曲试验一般都是在万能材料试验机的弯曲试验装置上完成的,如图1、2。 现有使用的支承辊式弯曲支座总成两拉杆螺栓位置低,燕尾槽螺钉又位于支座外侧,因此承受支承辊处的水平推力条件很差,稍大一点的试样还未弯曲到180°角时,两支座的支承辊部位就向外叉开了,一次弯曲达不到图2的180°角。从目前万能材料试验机上的弯曲试验装置来看,均存在以上受力条件差的问题,虽然1000kN万能材料试验机上拉杆螺栓位置较高,大试样仍难一次直接弯曲到180°角,拉杆螺栓也有顶弯的现象。在弯曲180°角后卸荷时,需要敲打才能卸下试样。 由于现有弯曲试验设备对大多数试样不能一次直接弯曲到180°角,所以GB232—63“金属弯曲试验方法”标准中明确规定允许二次压弯到180°角,标准才能得到实施。GB232—82标准避开了二次压弯到180°角,GB232—88参照采用ISO 7438国际标准又允许二次压弯到180°角。大家都知道压弯过程的弯曲区域是自由变形,试样弯曲的内圆弧γ必然小于弯心的半径,这二次压弯到180°角除试验结果不可靠外,还使试验操纵的工作量增加一倍以上,压弯时试样容易弹出而很不安全。  相似文献   

6.
冲击试验机保护装置   总被引:1,自引:0,他引:1  
在冲击试验中,冲击试样被冲断后断块飞出,对试验人员的安全构成了威胁.而冲击试验机现有的防护装置只不过起防护栏杆的作用,不能有效防范试样断块飞出对试验人员造成伤害.而在同样有威胁的弯曲试验中,国标GB/T14452-93中8.4条明确规定“试验时应在弯曲试验装置周围装设安全防护罩,以防试作断裂碎片飞出伤害试验人员”.为保障试验人员的安全,冲击试验应参照弯曲试验,在冲击试验机周围装设防护试样断块飞出的保护罩装置.由于冲击试样的形状规则,通常将冲断后的试块作为金相试样,而每次冲击试验后要将飞出的断块逐一找到并保存好,耗时较长,影响冲击试验的连贯性.如能将试样搜集与保护装置相结合,就可省出到处找试块的麻烦.保护置装置如附图所示.图中长方体状框架的校由钢管构成,长方体的长、宽与原防护装置相同,高比摆锤最高位置略高.框架底部焊有插杆,安装在原防护装置的插孔位置上.用网孔小于冲击试样横截面的铁丝网为垂直罩面和顶罩面.罩面为模块式.安装在钢管框架上.可一人拆卸,以保证试验机每年顺利进行年检.在保护罩前罩面上开一大小比标度盘略大且与之同心的圆形开口.在开口处安装透明有机玻璃以便读出冲击值.在前罩面开口下对称安装两扇滑动式推拉网门:将网门向外滑移,保护罩被打开,便可装上冲  相似文献   

7.
福州第一造纸厂化浆车间大切料机车间内,车间面积为18×15m,安装有一台大切料机,以及配套的两台平面振动筛和大小鼓风机各一台,如图1所示.  相似文献   

8.
咨询与服务     
我厂是航天部四院下属的军民品生产单位,对于试验后理化(力学性能、金相、化学)试样是否保存,保存的种类,保存的期限,我在相关标准上没看到过,也曾去过几家单位了解,各不相同.请问国家对试样保存是否有明文规定?另外,关于技术标准有一事请教解释:最近,我们做了某压力容器产品焊接试板焊接接头的力学性能试验,母材为16MnR,规格δ18,技术标准GB6654—86,试验结果σ_b=586MPa,(?)_(kV)=25J(21J,25J,29J),W_M,W_B光好,据GB150—89附录G及GB6654—86,我们判此试验结果合格.但某质量监督部门关于产品试板冲击功的标准值与我们有分歧,他们认为:根据GB150—89附录G表G_4,σ_b=586MPa属于>(515~655)MPa一栏,所以冲击功的标准值应为27J.而且他们一直认为,16MnR的最低冲击功(指产品试板)是27J.若此,那么“钢材最低抗拉强度”如何解释,是否σ_b=586MPa就是钢材的最低抗拉强度而不是490MPa?  相似文献   

9.
咨询与服务     
1.我国目前已制订的低温或涉及低温试验方法的标准有:(1)GB13239——91金属低温拉伸试验方法;(2)GB/T 229—94金属夏比缺口冲击试验方法;(3)GB/T2358—94金属材料裂纹尖端张开位移试验方法;(4)GB 6803—86铁素体钢的无塑性转变温度落锤试验方法;(5)GB 8363—87铁素体钢落锤撕裂试验方法;(6)GB 5482—85金属材料动态撕裂试验方法.2.低温试验设备(1)试验机:应具备符合相应标准要求的试验机,如万能材料试验机、冲击试验机、落锤试验装置等.(2)低温试验的冷却介质有液体和气体两种.因此,试样的冷却装置有槽式(见图1)和箱式(低温环境箱或低温炉)两种.无论是低温槽或环境箱,都应有足够的容量,并能对低温槽(或环境箱)内的冷却介质进行均匀搅拌,以达到试样均匀冷却的效果.(3)测温和测温辅助仪器:热电偶或低温温度计及电位差计或温度自动指示装置等.3.金属材料的力学性能受温度的影响是比较大的.在低温下,钢的冲击吸收功显著降低,这种现象称为钢的冷脆现象,钢的冷脆性在实用工具有限大意义,特别对寒冷地区使用的钢材,更应试验其冷脆性.任何一种金属材料都具有两个强度指标,即屈服应力σ_s和断裂强度σ_f,两者都随温度上升而下降,见图2.σ_s随温度下降的速率比σ_f的下降速率大,因而两者在σ-T曲线上汇交于某  相似文献   

10.
我厂属小厂,量仪较少。一些零件、刀具的测试便成了困难。为了适应生产的需要,我们在“北量”出的简式偏摆仪上加了几个附件,改制成了如图1所示的可以检查轴类、滚(?)、齿轮和花键轴等若干技术要求的多种用途检查仪。一、附件及其动作原理北量出的偏摆仪,只有本体、两个尾座和中间一个表架。所以只能测量一些轴类偏摆的项目。为了扩大使用范围,我们在本体上加了一个纵拖板18,它靠转动手轮35使小齿轮37拨动齿条10作纵向移动。横滑板3沿固定在纵拖板18上的燕尾作前后移动,松开固定螺丝33,可使横滑板3移动到所需要的位置再拧紧固定。  相似文献   

11.
问题解答     
关于热浸型可剥性塑料性能铿定方法及其试样的制备方法,兹据一机部“防锈封存材料试验方法”(讨论稿)分述于后:1.试料(以下均指可剥性塑料的配制成品)的调整与金属试棒涂复处理方法:取材料3000克,切成12~25毫米大小的碎片,用2000毫升不锈钢烧杯三个,各放入500克试料(2个作为 A 试样,1个作为 B 试样),将温度计插入烧杯中部,使试样在190±2℃空气浴中熔融,然后,各烧杯中再加入500克试料熔融。在此熔融温度,A 试样保持16~18小时,B 试样保持64~66小时,以进行调整,将钢棒(10×25×250毫米)或钢片(3×50×75毫米)垂直浸入调整过的试样中,于190±2℃浸入5±0.2秒钟以涂复。一次浸渍法——钢试片或试棒用挂线支持,按上述涂复操作条件浸入试样后迅速取出,在室温放冷。  相似文献   

12.
圆形试样拉断后的对接,通常短试样用一只手还勉强能对正压牢,有时可能还会压不太紧。但对于长试样,一只手对接拉断的试样就比较困难了。为使操作方便,测量准确,自制了一个简单的圆形拉伸试样断后测量固定装置,如下图所示。找一段无缝(或有缝)钢管,内径略比试样夹头直径大些。笔者找到的是内径17mm、外径22mm的无缝钢管。从破旧电器上拆了一根压缩弹簧,钢丝直径1.1mm,弹簧外径11.5mm,自由高度60mm。在钢管两端内孔加工M18mm×1.5mm的细牙螺纹。螺纹长度要长些,并配车螺堵和两件顶头。其中右端顶头较长,以便调头用于短试样。左端顶头杆部可根据弹簧长度确定。为的是使拉断的试样放入固定装置中时有一定的压力,以便对正压牢。压力的大小可通过钢管两端的内螺纹以及螺堵和两端的顶头等调整。  相似文献   

13.
4 马氏体及铁素体或碳化物组织这类组织对亚共析钢来说是马氏体及铁素体,对过共析钢来说是碳化物及马氏体组织.马氏体和铁素体组织.因铁素体的来源不同,其形态也不同.若淬火温度低于Ac_3/高温下有未溶铁素体,冷却时按图1中V_1;的速度冷却.奥氏体完全转变为马氏体,铁素体被保留下来成为组织组成物之一.若加热温度高于Ac_3,高温组织为单相奥氏体,冷却时以图1中V_4的速度冷却,也就是生产中有时采用的预冷淬火,即出炉后在空气中预冷一定时间,再淬入介质中快冷(相当于图1中V_5).但因在空气中预冷时间过长,使淬入介质之前已从奥氏体中析出铁素体,再淬入介质后剩余的奥氏体完全转变为马氏体.由于铁素体形态不同,所以这类组织可能有图4所示的三种形态.第一种是如图4a所示的块状铁素体加马氏体,铁素体是未溶的白色块状,其分布仍然保留淬火前沿轧向呈带状分布.第二种如图4b所示的条网状铁素体加马氏体.由于冷却不足,淬火时首先沿奥氏体晶界析出呈网状分布的铁素体,冷至M_s点时,过冷奥氏体发生马氏体转变,生成低碳马氏体.在b图中铁素体为白色网条状,明显可见沿奥氏体晶界分布的特点;图中还有极少量的针状铁素体.第三种是兼有前两种形态的铁素体,即既有未溶的块状铁素体,又有析出的条网状铁素体,如图4c 所示.图  相似文献   

14.
钣金生产线中的冷轧薄板的辊轧成形以精度高、难度大和成形不稳定等因素,在非标设备生产中一直是一个难点.在多年的轧辊成形的设计和产品调试过程中,笔者对冷轧薄板成形中R的成形工艺进行了总结,归纳出两种方法,现以冰箱围板成形中R为例(单边截面形状如图1)进行探讨.  相似文献   

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摘自西德LEYBOLD-HERAEUS产品样本(1978年) 该泵外形如图1所示,内部结构如图2所示。 该泵端部装有一台真空电机,结构简单;抽速高;抽气口取竖直方向,使用方便;并且没有轴封,因之密封性能好;由于减少传动机构,运转平稳。除此之外,还具有以下特点: 1.极限真空度高,使用双级前级泵,其极限分压力<1 × 10-8托。 2.在一个较宽的压力范围内,具有高抽速,详见图3抽速与压力关系曲线。 3.结构紧凑,没有传动机构。 4.可代替两台单级罗茨泵使用。 5.在大气压下可以启动。 6.空冷,使用方便。 7.根据用户需要,也可用于水平方向抽气。 应用 该泵对较…  相似文献   

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半导体物理一作图和回答下列问翅四、 1.在图1所示的立方晶格中.作出《111}晶面组合图, 并指明相应的晶面指数;再作出(110)晶面. 2.晶向为(11幻的硅单晶体.经化学腐蚀后.在(111)五、 图面上呈现出等边三角形的位错皮蚀坑,试在此晶 面上作出{111}的定位面(图2)。六、 l 尹..,l 图1图2 3.求面心立方晶体的侧格子结构. 4.画出金刚石结构的晶饱,并指出一个晶饱含几个原 子。 5.写出金刚石结构的第一布里渊区与(111)轴.(1。。〕 轴、〔11。〕轴的文点倒格矢‘二.已知两种级流子温差电势率为:护。一枉(二飞二、t、。l。丛一pz。N· 资 q、on丫F,n…  相似文献   

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梅子 《影像材料》2001,(1):19-21
依尔福Delta胶片原有感光度 1 0 0、40 0两个产品 ,感光度 32 0 0是该系列新登场的一个产品。依尔福Delta 32 0 0胶片采用厚度为 0 .1 2 5mm的醋酸片基 ,影调丰富 ,可以使用几个感光度 ,而且非常容易操作。1 胶片技术1 1 高感化技术Delta 32 0 0胶片利用依尔福公司开发用于黑片胶片的核壳晶体技术 ,在实现了高感光度的感光层中 ,采用三重结构的卤化银结晶 ,即乳剂中的卤化银图 1 Delta 32 0 0的银颗粒结晶结晶由核和包裹核的 2个壳形成。如图 1所示 ,外壳 (A)控制显影速度 ;内壳 (B)控制颗粒性和清晰度 ;核 (C…  相似文献   

18.
另一个问题,就是镀膜材料对蒸发源材料的湿润性问题,它关系到蒸发源形状的选择.多数蒸发材料在蒸发温度时呈熔融状态,它们和蒸发源支持体表面会形成三种不同的接触状态,即湿润、半湿润和不湿润.这是由两种材料间的表面张力的大小决定的.在湿润的情况下,高温熔化的薄膜材料容易在蒸发源材料上展开,蒸发会从较大面积上发生,其蒸发状态稳定,且蒸发材料与支持体间粘着良好,可认为是面蒸发源的蒸发;在湿润小的时候,可认为是点蒸发源的蒸发,这种情况下蒸发材料就容易从蒸发源上掉下来.半湿润情况则介于上述两种情况之间,在高温表面上不呈点状,虽沿表面有扩展倾向、但仅限于较小区域内,薄膜材料熔化后呈凸形分布.润湿状态的几种情况如图8所示.  相似文献   

19.
电镀     
《材料保护》2001,34(12)
20011214 电沉积Zn-Ni合金钢板的显微结构和可加工性--Lin C S.Meetallurgical and Materials Transactions A.2000,31A(2):475(英文) 利用含氯化物的高速流动槽获得了Zn-Ni合金镀层钢板,开始沉积富Ni光亮镀层,然后在其上面沉积含8%(wt)~16%(wt)Ni的Zn-Ni合金层.研究表明,镀层的含Ni量影响Zn-Ni层的性能和显微结构,随着含Ni量的增加,Zn-Ni镀层的硬度增加,并导致镀Zn-Ni钢板的可塑性和结合力较差;另一方面,随着含Ni量的升高,镀Zn-Ni钢与压铸件之间的摩擦力下降.含Ni量为8%(wt)的Zn-Ni镀层为多孔等轴晶粒结构,随着含Ni量的升高,镀层表面变为致密刻面结构,含Ni量为16%(wt)的Zn-Ni镀层为锥形结构.X-射线衍射分析表明,含Ni量为16%(wt)以上,Zn-Ni镀层只有γ相.TEM分析表明,含8%(wt)Ni的Zn-Ni镀层为细晶粒结构,含16%(wt)Ni的Zn-Ni镀层变为柱状结构,柱状结构的形成可以由槽中Ni离子浓度的增加及析出的H2较少来解释. 20011215 用于光电化学太阳能电池的CdTe、CdSe和CAs薄层的性能对比研究--Pandey R K.Solar Energy Materials and SolarCells,2000,60(1):59(英文) 在钛基体上用酸性镀槽电沉积多晶CdTe和CdSe薄层,用化学镀槽制备了多晶CdS薄层.这些膜层具有良好的光电化学性能和稳定性,计算了热处理后膜层的固态参数,并与未经热处理的膜层作了对比. 20011216 阻挡层上镀Cu--Takahashi K M.Journal of the Elec-trochemical Society,2000,147(4)):l 414(英文) 利用常规镀Cu液,不管使用的电流密度大小如何(或是使用反向脉冲电镀),都不能在含50nm Ta阻挡层的200 mm试片上获得均匀镀层.镀层的均匀性可由反映电流密度影响和物理化学性能的无量纲极化参数来表征. 20011217 激光增强化学镀微米级铜线--Inen K.Jourmal of theElectrochemical Society,2000,147(4):1 418(英文) 研究了用激光增强化学镀技术将Si基体在Cu(HCOO)2和CuSO4溶液中沉积微米级铜导线的方法,在此工艺中,使用Ar离子激光束将Si表面温度升高,并浸入反应剂溶液,以提高Si表面温度,增强还原反应,促使Cu的沉积.葡萄糖酸和丙三醇分别用作CuSO4和Cu(HCOO)2镀液和还原剂,Si基体在CuSO4/葡萄糖溶液中利用激光增强化学镀方法的最大沉积速度为80 nm/s,其接近常规化学镀Cu速度的5倍.在CuSO4镀液中获得的镀Cu层的电导最小(3.6 mΩ@cm),约为纯Cu电导率的2倍.在pH值接近13的CuSO4溶液中沉积镀层的电导率最佳,试验表明,Si在pH≤13的溶液中不需足够的刻蚀.为了使高pH值溶液中保持Cu离子浓度,必须在溶液中加入乙二胺四乙酸络合剂. 20011218 用脉冲Nd-YAG激光在Al上选择性化学镀Cu--Chu S Z.Journal of the Electrochemical Society,2000,147(4):1 423(英文) Al经阳极氧化、激光辐射和化学镀可获得局部镀Cu层,具有阳极氧化膜的Al试样浸入Cu2+、Cu2+/H2PO2-、稀NaOH溶液中,用脉冲YAG激光辐射,然后在Cu2+、Ni2+/H2PO2-(含/不含pb2+或硫脲)的溶液中化学镀.静电位和X-射线光电子光谱测量表明,在Cu2+和Cu2+/H2PO2-溶液中激光去膜区形成了Cu粒子晶核,在随后的化学镀过程中激光辐射区可获得Cu镀层.研究了pb2+和硫脲浓度、沉积温度对Cu沉积动力学的影响. 20011219 化学镀Ni-Fe-P和Ni-Fe-P-B层的组成、结构和腐蚀特性--Wang L. Surface and Coating Technology,2000,126(2):272(英文) 研究了化学镀Ni-Fe-P和Ni-Fe-P-B合金层的组成、结构和耐蚀性,通过控制NaH2PO2和KBH4的浓度、金属盐比(FeSO4/FeSO4+NiSO)、pH值制备了化学镀层.在18~48g/L NaH2PO2、FeSO4/(FeSO4+NiSO4)比为0.1~1.0、pH值为8~13的镀液中获得了Ni-Fe-P镀层.在13~48 g/LNaH2PO2、0~1.4 g/LKBH4、F3-SO4/(FeSO4+FeSO4)比为0.1~1.0、pH值为9.5~12.5的镀液中获得了Ni-Fe-P-B镀层,改变沉积参数可获得两种镀层的非晶态和晶态结构.在28 g/L NaH2PO2或金属盐比为0.5的镀液中获得的Ni-Fe-P镀层以及在0.4 g/L KBH4镀液中获得的Ni-Fe-P-B合金镀层的最大含Fe量接近38%(at),含中等NaH2PO2量的沉积层浸入酸性和碱性溶液中进行腐蚀试验,其重量损失很少,加入痕量KBH4后降低了沉积层在碱性溶液中的耐蚀性,而Ni-Fe-P镀层的组成改变不明显,使用的基体材料为铜和碳钢. 20011220 黑Co镀层的降解研究--Barrera C E.Surface Engi-neering,2000,16(1):50(英文) 在304不锈钢基体上电沉积黑Co镀层,为了研究镀层的热稳定性,镀层在400℃的空气中加热几个周期,然后用X-射线衍射研究了镀层热处理前后的相组成.通过测量镀层热处理前后的太阳能反射率,计算出了其太阳能吸收率.研究表明,未经热处理的Co镀层由(002)反光相组成,Co沿基体的[002]相外向生长.可以通过多种模型来解释镀层的高吸附率及其深黑色外观,研究了黑Co镀层的热氧化行为及表面形貌变化. 20011221 金属电沉积中的配位化合物(Ⅳ):电沉积贵金属及其合金--Grunwald E.Korrozios Figyelo,2000,40(2):50(匈牙利文) 在镀Ag、Au、Pt槽中,络合物是关键物质.着重讨论了镀Ag和Au在现代电子工业技术的重要作用,并讨论了槽液组成、整平剂和光亮剂. 20011222 在NiTi型合金存储器上化学镀Cu:用XPS研究Sn-Pd-Cu的生长--Silvain J F.Applied Surface Science,2000,153(4):211(英文) XPS分析了NiTi(O)表面上化学沉积Sn、Pd和Cu,从而解释了Sn、Pd、Cu的成核和生长.具有NiTi(O)表面的Sn敏化元素的相互化学反应表明,Sn与Ni2O3反应后Sn(O)界面可能生长氧化物,不稳定氧化物的溶解导致氧化锡膜的形成,并在化学镀Sn(O)膜上有游离.金属Ni原子的迁入,Sn(O)表面上Pd的化学吸附与强Sn-O-Pd界面键的形成有关.纯金属Pd的2D、3D生长,导致纳米Pd核的形成,Cu原子与Pd表面的相互反应,形成Pd-Cu金属互化合物界面,从而具有强界面的结合强度. 20011223 有机添加剂对卤化物电解液电镀Sn-Co合金机械物理性能的影响--Lyakhovets L M.Prakt Protivokorrozion Zasch,2000(1):49(俄文) 测定了钢上电镀Sn-Co合金的电解液组成及工艺规范,合金镀层在低温下储存能保持其可焊性能.研究了合金镀层的机械物理性能. 20011224 电解液导电率--Reade G.Transactions of the Institute of Metal Finishing,2000,78(2):89(英文) 配制的电镀和化学镀液水质量可通过测量其导电性来控制,导电性低说明水中溶解的离子很少.废酸洗液和漂洗水的质量可以通过测定其导电性来快速评定,测定导电性为判断工艺质量提供了一个有效途径. 20011225 低电阻率和TCR Cu-Ni膜电阻器的制备--Ishikawa M.Transactions of theInstitute of Metal Finishing,2000,78(2):86(英文) 利用化学镀和电镀方法,并经低温热处理制备了不含P的Cu45Ni合金膜低电阻率和低TCR的电阻器. 20011226 Pd-Fe合金电镀(Ⅱ):合金电镀体系--Baumgartner M E.Tronsactions of the Institute of Metal Finishing,2000,78(2):79 (英文) 第一部分介绍了单金属电镀,第二部分讨论了合金体系特别是Pd-Ni、Pd-Ag和Pd-Co,研究了Pd-Fe合金电镀中可能使用的络合剂及镀液的稳定性. 20011227 葡萄糖酸盐电沉积Sn-Cu合金--Abd El Rehin.Transactions of the Institute of Metal Finishing,2000,78(2):74(英文) 在含葡萄糖酸钠的酸性硫酸盐溶液中电沉积了Sn-Cu合金,研究了不同电镀参数下获得的Sn-Cu合金的组成、结构和形貌,测定了电镀参数对共沉积过程动电位阴极化和阴极电流效率的影响.结果表明,沉积层为Cu优先共沉积的类型,沉积层中的含Cu量随镀液中Cu含量及槽液温度的升高而增加,随槽液中葡萄糖酸钠浓度的升高而降低,并且随着槽液pH值的升高、施加电流密度的增大,合金镀层中含Cu量减少.X-射线衍射分析表明,合金沉积层由η、ε、β相Cu和β相Sn组成,用扫描电子显微镜测定了沉积层的表面形貌. 20011228 Co和Cu电沉积层的晶体取向--Eagleton T S.Transactions of the Institute of Metal Finishing,2000,78(2):64(英文) 电镀基体的取向对沉积层的分布和形貌有显著影响,尤其是在多镀层结构的生产中.研究表明,在多晶Cu基体上镀Co,Co优先在某一方向沉积,在其他方向产生的沉积层很少,镀Co层可能是六角形密集或面心密集.在Co上沉积Cu时,晶核生长分布与基体取向没有密切关系. 20011229 碘化物槽电沉积Ag-Cd合金的主要参数及合金性能--Mateescu M.Transactions of the Institute of Metal Finishing,2000,78(2):53(英文) 用碘化物镀槽沉积Ag-Cd合金镀层,槽液中的含Ag量、金属比(Cd/Ag)、电流密度和温度都影响合金镀层的Ag含量.随着槽液中含Ag量的增加,合金镀层的Ag含量随之升高;随着槽液温度的升高,合金镀层中Ag含量随之降低;另一方面,降低电流密度或槽液中金属比(Cd/Ag),合金镀层中的Ag含量也会随之升高. 20011230 一种新型提高内燃机轴承表面耐蚀和耐磨性的电镀液--Grunthater K H.Galvanotechnik,2000,91(3):659(德文) 开发了一种新型的用于内燃机轴承电沉积Pb-Sn-Cu三元合金的电镀液,在pH值<1的甲磺酸电解液中可获得78%Pb、14%Sn、8%Cu的合金组成,沉积速度1μm/min,沉积层厚度20μm.获得的细晶沉积层具有均匀的金属分布,在高温下具有良好的扩散稳定性,并具有良好的耐磨损、耐疲劳、耐腐蚀性能.这种电解液主要用于轴承和IC工程的连杆轴承制造中. 200112 31 Atotech Dynachrome体系-Kappes C.Galvano-organo,2000,68(703):355(英文) Atotech Dynachrome体系是-种高速镀铬工艺,譬如汽车活塞环的硬铬电镀,其通常的电解液为含特殊催化剂的无氯镀液,阴极电流效率为28%~40%,电流密度可达100~200 A/dm2.电解液能保证100%的回收而无废液流失. 20011232 镀铬及其应用--Bisselbrecht H.Surfaces,2000(296):22(英文) 回顾了硬铬电镀的历史,详细介绍了不同槽液类型及其组成,讨论了镀前处理特别是抛光处理,提出了主要镀前处理的影响,并研究了镀后处理(包括热处理)的作用. 20011233 三价铬槽脉冲电镀硬铬--Song Y B.Plating and Sur-face Finishing,2000,87(9):80(英文) 用含次磷酸钠络合剂的甲酸氨三价铬槽脉冲电沉积可获得厚硬铬镀层,并使镀层的内应力降低了25%~75%.使用次磷酸盐导致磷嵌入沉积层中,列出了电流效率、内应力、硬度等数据.SEM表明了镀层的表面形貌,研究了镀层的含P量与脉冲工作比的关系. 20011234 广泛应用于塑料模具的电镀硬铬--Dela Puenta M.Products Finishing,2000,64(8):52(英文) 过去硬铬主要用于修复塑料模具,现在越来越多地应用于新模具,主要原因是它具有很高的硬度和较好的耐磨性.20011235 硬铬镀槽中的电位分布及屏蔽物的影响--ZeeuwA.Galvanotechnik,2000,91(10):2 752(德文) 测量了镀铬试样的厚度分布,研究了屏蔽物的影响. 20011236 有机溶剂对平行板槽镀铜的影响--Selim I Z.BullElectrochem,2000,16(7):315(英文) 酸性硫酸铜镀液中加入乙醇、正丙醇、异丙醇、叔丁醇,铜沉积的极限电流密度将随有机溶剂摩尔数的增加呈线性降低,烷基结构可影响沉积过程.通过SEM和EDAX,分析了沉积层的表面形貌. 20011237 用Hull槽研究磺酸盐镀铜--Kokila P.Bull Elec-trochem,2000,16(8):363(英文) 镀铜广泛用作镍、银、金的底层,以防止铁金属表面变硬.磺酸盐镀铜层的晶粒比氰化物镀铜层粗,详述了前处理溶液,提出了获得满意镀铜层的沉积条件. 20011238 改善钢上镀铜层的结合力(第一部分):无氰碱性镀铜液--Gerasimenko A A.Zasch Metall,2000,36(3):321(英文) 一般无氰碱性镀铜层与钢基的结合力不太理想,研究了分别含乙二胺、聚乙烯胺、六甲基四胺、Trilon B、氨、焦磷酸盐的槽液在室温和0.5~2.0 A/dm2条件下镀铜.结果表明,含聚乙烯胺镀槽的效果最佳. 20011239 采用无氰化物或亚硫酸盐的镀金工艺--Simon F.Metalloberflache,2000,54(10):20(德文) 列出了公开文献中无氰镀金槽液组成及不同金络合物的沉积电位,用作络合剂的化合物主要是乙烯和丙烯的硫醇化合物.在这些槽液中也可以获得金合金(如Au+Ag、Au+Im Au+Sn、Au+Cu、Au+Cu+Sn、Au+Bi、Au+Pd、Au+Ni、Au+Co),提供了槽液及合金组成. 20011240 采用无氰化物和亚硫酸盐的新型镀金工艺-一SimonF.Galvanotechnik,2000,91(9):2 470(德文) 从环境角度考虑,开发了无氰化物和亚硫酸盐的新型镀金工艺,氰化物的作用是作为一种络合剂.评述了以前的无氰镀金工艺,列出其选用的络合剂,讨论了硫醇与金的络合物以及金银合金络合物.详细研究了乙烯和丙烯的硫醇化合物,提出了假定的平衡反应. 20011241 Al(Ⅲ)和Cr(Ⅲ)离子对硫酸盐溶液电铸镍的影响--Zhou Z.Bull Electrochem,2000,16(8):358(英文) Al(Ⅲ)和Cr(Ⅲ)是硫酸盐电铸镍溶液中的一种杂质,其影响阴极电流效率、镀镍层的外现和表面形貌.当这种杂质离子达到40mg/L时,电流效率降低,并影响极化和镀层内应力.列出了杂质离子为0~40mg/L时的镀层外观. 20011242 显微工程中镀镍层结构的机械特征--Fritz T.Gal-vanotechnik,2000,91(10):2 894(德文) 拉伸试验表明了应力-应变关系,列出了沉积电流密度,拉伸强度、X-射线衍射数据,研究了沉积电流密度对沉积层结构及其机械性能的影响 (以上范宏义译)  相似文献   

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