水热法制备高定向掺铝氧化锌纳米棒阵列

为了制备高定向光电性能优异的掺铝氧化锌(ZAO)纳米棒阵列,采用溶胶-凝胶法在玻璃基片上制备掺铝氧化锌薄膜,以ZAO薄膜为种子层,通过控制掺铝量、稳定荆等工艺参数,采用水热法制备出了高定向ZAO纳米棒阵列.实验表明,铝掺杂量为2%,直径在50nm左右的ZAO纳米棒阵列薄膜具有最好的光致发光性能,表面活性剂可以促进ZAO纳米结构的棒状生长,形成高定向ZAO纳米棒阵列.     

脉冲激光沉积镀膜工艺中不同靶材制备方法对La_(0.72)Ca_(0.28)MnO_3薄膜电学性能和激光感生电压的影响（英文）

采用脉冲激光沉积方法在单晶LaAlO3(100)平衬底和15°倾斜衬底上制备La0.72Ca0.28MnO3薄膜。在镀膜过程中分别采用溶胶-凝胶法和共沉淀法制备靶材。研究不同方法制备的靶材和相应的薄膜的结构、电输运性能和表面形貌。与共沉淀法相比,采用溶胶-凝胶法制备的靶材具有更加均匀的组分和更大的致密度以及晶粒尺寸,因此具有更高的绝缘体-金属转变温度和更大的电阻温度系数。采用溶胶-凝胶靶材制备的薄膜,其晶粒尺寸更均匀、生长质量更好,绝缘体-金属转变温度高20 K,激光感生电压也更大。因此,使用溶胶-凝胶方法制备靶材可以大幅提高脉冲激光沉积方法中薄膜的性能。     

不同方法制备的ODSRAFM钢的结构和性能比较

比较了机械合金化法、溶胶-凝胶-等离子体烧结法和真空熔炼法三种方法制备的氧化物弥散强化低活化铁素体/马氏体钢的结构和性能。机械合金化方法和溶胶-凝胶-等离子体烧结法制备得到的材料氧化物粒子达到纳米级;真空熔炼方法可制备出微米级大小的氧化物弥散强化材料。上述方法制备的材料强度均得到改进。     

涂层超导体缓冲层的制备

综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法.着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等.展望了对下一步涂层超导体缓冲层的制备.     

溶胶-凝胶法在硬质合金刀具制备技术中的应用

溶胶-凝胶法是一种有发展潜力的制备方法,采用溶胶-凝胶法可获得纯度高、粒度细的优质硬质合金粉末,可解决传统的CVD、PVD等涂层结合力不高的问题。本文介绍了溶胶-凝胶法的基本原理,综述了该方法在硬质合金刀具材料制备技术中制粉和涂层两方面的应用和发展情况。     

TiO2薄膜制备技术研究进展

综述了目前较常用的制备TiO2薄膜的方法,包括溶胶-凝胶法、液相沉积法、化学气相沉积法、物理气相沉积法、电沉积法、喷雾热解沉积法、原子层沉积技术、离子自组装技术和水热法等,并对各方法进行了比较.     

纳米二氧化钛薄膜制备研究进展

根据近年来国内外TiO2功能薄膜的研究现状,对化学气相沉积法、水解-沉淀法、液相沉积法、溶胶-凝胶法、溅射法、离子束辅助沉积法等化学和物理制备方法的研究进展进行了综述,并对其优缺点进行了比较和评述.     

现代刀具涂层制备技术的研究现状

刀具涂层是一种机床工具行业的重要材料,其性能直接影响数控机床的机械加工精度.概述了刀具涂层材料的特点、要求及涂层制备技术的发展,分析了化学气相沉积法、物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法及溶胶-凝胶法等几种涂层制备方法的优缺点.结合国内外刀具涂层的研究现状及发展趋势,指出在大力发展化学气相沉积涂层和物理气相沉积涂层技术的同时,开发两者相结合的新型工艺,推动国内刀具涂层技术的快速发展.     

镁合金表面TiO2薄膜制备技术研究进展

综述了目前镁合金表面TiO2薄膜制备技术的研究情况,重点介绍了溶胶-凝胶法、化学镀、液相沉积法、物理气相沉积法、电沉积法、喷雾热解沉积法、原子层沉积技术、激光熔覆、热喷涂等工艺的原理和制备技术.     

Al掺杂ZnO薄膜的制备及红外光学性能的研究

采用溶胶-凝胶法合成Al掺杂ZnO胶体,通过浸涂法在石英衬底上制备不同退火温度的ZAO薄膜.通过XRD、FT-IR、IR-2型红外辐射仪等手段对薄膜进行表征并研究不同工艺条件对薄膜红外性能的影响.结果显示,Al的掺杂并未改变ZnO的晶型结构,薄膜材料具有沿(002)晶面趋向性生长的特点.ZAO薄膜在可见光区具有高透过率,平均透过率在80%左右,在红外波段具有较高的透过率,所得到的ZAO薄膜在红外波段具有较低的发射率.     

TiSiO非晶结构光学薄膜的性能调控机理研究进展

TiSiO复合薄膜的制备方法主要包括溶胶-凝胶、物理气相沉积和化学气相沉积等,针对不同制备工艺条件下SiO2改性TiO2的微观结构与光学参量的调控机理的研究,仍处于探索阶段。综述了近年来国内外在不同工艺条件下沉积的TiSiO薄膜的结构和光学性质,从溶胶体系和热处理工艺两方面,对溶胶-凝胶工艺制备的TiSiO薄膜展开论述,分别归纳了溶胶体系和热处理工艺调控TiSiO薄膜的结构和光学性质的一般规律;从溅射工艺和蒸发工艺两方面对物理气相沉积工艺制备的TiSiO薄膜展开论述,分别阐述了在溅射工艺和蒸发工艺过程中,调控TiSiO薄膜的结构和光学性质的一般规律;从低（常）压化学气相沉积和等离子增强化学气相沉积等方面,对化学气相沉积工艺制备的TiSiO薄膜展开论述,分别阐述了在不同化学气相沉积技术中,通过调节一些重要参数调控薄膜结构和性能的一般规律。总结了不同工艺制备并调控TiSiO薄膜的一般规律的内在联系,并指出了这类薄膜制备工艺存在的问题和后续的研究方向。     

ITO薄膜的生产技术概况及发展趋势探讨

综述了铟锡氧化物(ITO)薄膜的生产技术概况及其发展趋势.介绍了ITO薄膜的主要制备技术的制备原理,包括磁控溅射法、溶胶-凝胶法、化学气相沉淀法、喷雾热分解法及真空蒸发法等5种制膜工艺,并对其优缺点进行了分析.指出ITO薄膜生产技术的发展趋势为:1)大力开发溶胶-凝胶工艺;2)进一步深入研究其合成机理与性能;3)拓宽应用领域;4)开发先进的薄膜制备工艺技术.     

纳米涂层制备技术的进展

综述了纳米涂层的制备方法及其进展,包括化学气相沉积、物理气相沉积、溶胶．凝胶法、自组装、电沉积法、粘涂法、热喷涂技术等;着重介绍了采用热喷涂技术制备的纳米涂层;探讨了纳米涂层研究中存在的问题及纳米涂层的发展前景。     

铁酸铋薄膜的溶胶-凝胶法制备及电性能研究进展

铁酸铋是唯一一种在室温下存在的单相多铁材料,因其具有较高的铁电居里温度、较大的剩余极化强度、较小的禁带宽度和多铁特性,受到国内外的广泛关注。溶胶-凝胶法是制备铁酸铋薄膜的一种常见方法。综述了近年来溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的研究进展,详细阐述了制备工艺参数(前驱液、退火温度、退火气氛、底电极)与掺杂对铁酸铋薄膜电性能的影响;分析了不同制备工艺导致薄膜电性能出现差异的原因;归纳、总结出了目前溶胶-凝胶法制备铁酸铋薄膜的较佳工艺条件;最后,指出了亟待解决的问题。     

AlN陶瓷基板材料的典型性能及其制备技术

AlN陶瓷是一种新型的基板材料,具有优异的电性能和热性能,被誉为新一代高密度封装的理想基板材料。介绍AlN陶瓷的典型性能和导热机理;讨论AlN粉末的5种合成方法：铝粉直接氮化法、Al2O3碳热还原法、化学气相沉积法、溶胶？凝胶法、自蔓延高温合成法和等离子化学合成法;分析AlN烧结助剂的选择和5种烧结工艺：热压烧结、无压烧结、放电等离子烧结、微波烧结及自蔓延烧结;阐述AlN基板的制备工艺及其影响因素。     

Preparation and Properties Of ZnO:Al (ZAO) Thin Films Eposited by DC Reactive Magnetron Sputtering

采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜。研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果表明，多晶ZAO薄膜具有（001）择优取向且呈柱状生长，能量机制决定其微观生长状态。讨论了薄膜的内应力，高的沉积温度和低的溅射功率可有效减小薄膜的内应力。优化的ZAO薄膜电阻率和在可见光区的平均透射率可分别达到310-4-410-4cm和80%以上。     

纳米铜粉的研究进展

介绍了当前纳米金属材料的应用前景及其研究的重要性,重点列举纳米铜粉的主要制备方法,其中包括物理气相沉积法、高能球磨法、γ-射线辐射法、化学气相沉积法、化学沉淀法、微乳液法、溶胶-凝胶法、水热法、电解法和液相还原法等,并介绍了各种制备方法当前的研究进展及制备过程中的优缺点.还进一步介绍了纳米铜粉作为润滑油、导电涂料和催化...