混响室搅拌器位置优化的数值分析

为研究混响室搅拌器位置对测试区域场均匀性影响,采用基于矩量法的电磁仿真软件FEKO对混响室仿真模型进行数值计算,通过与遗传算法相结合对混响室搅拌器位置进行优化,得到了搅拌器位置的最优解以及相应的表征混响室测试区域场均匀性的电场标准偏差值.研究表明:搅拌器位置影响测试区域场均匀性,当搅拌器位置处于最优配置时,测试区域各轴向电场标准偏差较初始状态分别下降了47.4%、20.1%、57.1%,总标准偏差下降了44.0%,测试区域场均匀性较优化前有所提高,提高了混响室用于电磁兼容测试时的准确度.     

复杂强电磁环境下系统辐射敏感度测试方法

系统地介绍了复杂强电磁辐射环境下系统级装备辐射敏感度测试的开阔场辐照法、低电场扫描法、混响室和模拟器法.分析了每种方法的原理、特点及适用范围:开阔场辐照法实现的技术难度较小,但对硬件要求高且容易受到外界环境场干扰;低电场扫描法技术上容易实现,对硬件要求低,但需要获取辐射场与线束电流的递推关系;(混响室可以用较小的功放产生较强的电磁场;)模拟器法可以产生场强极高的辐射环境,且具有试验空间大,场均匀性好等优点,高压脉冲源的研制、辐射天线的设计是该方法需要解决的关键技术.     

使用天线监测场强的混响室场均匀性校准方法

由于传统电场探头在某些环境下进行混响室校准具有局限性,提出使用天线进行混响室场均匀性校准的方法.对两种方法进行了论述,并进行了实地测试,数据处理后分别得到同一混响室条件下两种方法所得场均匀性标准差,经过相关系数运算,可得出两种方法具有较好的一致性的结论.     

基于镜像对称的多馈源混响室扩展方法研究

提出了基于镜像对称的多馈源混响室扩展方法,给出了镜像对称扩展混响室改善工作区域场性能的原理,对单混响室及镜像混响室模型进行数值模拟计算,并设计了3组仿真实验从场强大小和场均匀性两个方面验证镜像混响室改善工作区域场性能的可行性.实验结果表明:单混响室镜像对称组合扩展后,在成倍扩展混响室及工作区域体积的同时,工作区域场强增大,场均匀性有所提高,解决了混响室体积扩展与场强减小以及变频场均匀性恶化的矛盾;通过发射天线同时馈入相同功率即多个小功放合成的方法解决了混响室高场强问题,降低对功率放大器的要求,进而降低混响室的测试成本.     

混响室发射天线指向对场均匀性影响研究

采用基于矩量法的电磁仿真软件FEKO建立了混响室仿真模型,并对步进模式下的混响室模型进行了数值计算.将混响室数值计算与遗传算法相结合,通过仿真计算与理论分析研究了混响室发射天线指向对场均匀性的影响.研究结果表明:改变发射天线指向,其本质是改变混响室各模式前的加权系数,导致表征混响室工作区域场均匀性的电场标准偏差随之发生改变.发射天线指向处于最优配置时,工作区域各轴向电场标准偏差较初始状态有所下降,说明通过优化提高了工作区域场均匀性.     

相似原理应用于混响室缩比模型的验证分析

为了能够将缩比模型应用于混响室设计中,对电磁场相似原理在混响室金属谐振腔体中的适用性问题进行了验证.分析计算了混响室缩比前后的模式数目,证明其符合相似原理;对构造的模型进行了仿真分析,表明缩比前后混响室金属腔体中观察点的电场值具有相似性;通过混响室实物的场均匀性测试数据验证了仿真分析方法的正确性.理论推导和仿真分析结果...     

双发射天线对混响室场性能影响的数值分析

提出了双天线激励混响室的方法,研究了双天线激励对混响室场性能的影响。分析了双天线改善混响室场均匀性的原理,对单天线激励下的混响室模型以及处于不同位置的双天线激励下的混响室模型进行了仿真计算,从场均匀性和场强两个方面研究了双天线对混响室场性能的影响,对双天线影响场强的机理进行了分析。研究表明:采用双天线激励改善了混响室工作区域的场均匀性;采用双天线可以降低对功率放大器的要求,降低大型混响室测试成本。最后对双发射天线在大型混响室中的应用进行了探讨和展望。     

镜像对称结构对多馈源混响室场性能的影响

为解决混响室大体积与场性能高要求之间的矛盾,提出了一种基于镜像原理的多馈源混响室的设计思想,从原理上分析了镜像多馈源混响室的可行性和有效性,并通过仿真计算研究了镜像双馈源混响室的场性能.结果表明,在输入功率一定时,两个单混响室系统组合成镜像双馈源混响室后,在工作区域的场均匀性能不下降的基础上,不但可用于电磁兼容测试的工作区域体积大幅度增大,而且测试区域的电场强度也得到了提高.同时,对镜像多馈源混响室进行了进一步的扩展分析,得出了组成镜像多馈源混响室的单混响室系统数量的理论表达式.     

利用多天线源搅拌改善混响室场均匀性的分析

通过在混响室的简化三维模型中随机设置激励天线的位置和姿态实现多天线源搅拌因素的引入.与其他方法的对比验证确定利用矩形腔体的电并矢格林函数来仿真电偶极子激励下的电场分布.研究和分析了多天线源搅拌技术对传统混响室工作区域内场分布均匀性的改善作用,结果和理论分析吻合,其性能的提升会受到天线极化和工作频率的影响.     

混响室的仿真与优化

混响室的结构设计中,搅拌器的设计是一个难点.合理设计的搅拌器会改善混响室的场均匀性、降低最低可用频率.文章通过实验仿真,定性分析了不同的搅拌器大小、形状与个数对混响室性能的影响.     

混响室桨叶夹角对场均匀性影响的仿真及测量

用HFSS10．0对混响室进行仿真,研究了搅拌器的夹角对场均匀性的影响。首先阐述了混响室的特点及其场均匀性校准的原理和方法,然后根据实际混响室的尺寸,用HFSS10．0进行建模,通过仿真得出搅拌器在不同夹角情况下的场均匀性。最后根据仿真结果,对混响室的场均匀性进行测量,验证了合理的设计搅拌器会改善混响室的场均匀性,降低最低可用频率。     

顶角设置QRD散射体的混响室内场均匀性分析

提出了混响室内设置散射体的一种新方法。用FDTD方法对该结构混响室内的场进行了仿真分析,并与无搅拌器及散射体结构的混响室内的场均匀性、散射体位于混响室内6个壁面时混响室内的场均匀性进行了分析比较。结果表明:本文所提出的8个顶角处均设置QRD散射体的方法可有效提高混响室内的场均匀性,实现了进一步提高混响室内场均匀性的目的。     

源搅拌混响室的仿真分析与实验研究

根据谐振腔理论,分析了理想情况下影响源搅拌混响室性能的主要因素,通过数值计算对其进行仿真验证,确定了影响混响室场均匀性的主要因素有激励天线的极化方向,摆放位置以及激励源的位置数等;在此基础上提出了一种可行的源搅拌方案,通过实验的方法,在满足一定采样数情况下,实现了混响室较好的场均匀性;同时借助K-S拟合对源搅拌混响室测量场值的统计特性进行了分析,结果表明:源搅拌混响室的一维场分布服从瑞利分布。     

Examination of field uniformity in vibrating intrinsicreverberation chamber using the FDTD method

The concept of the vibrating intrinsic reverberation chamber is investigated. The finite difference time domain (FDTD) method is applied to examine the conditions under which the desired field uniformity is obtained. using a continuous wave excitation     

EMC混响室电磁场模态研究

混响室谐振腔激励的三维电磁场的推导一般采用并矢格林函数的方法,物理意义不太明显。用本征函数迭加的方法推导混响室有源激励的电磁场分布公式,有利于正确建立混响室电磁结构模型,树立正确的物理概念。并根据公式及其推导过程,分析了混响室EMC电磁工作机理,以此将EMC混响室电磁工作状态按模式状况进行了系统地分类,为混响享研究设计提供理论指导。     

Evaluation of Transmit Antenna Position in Reverberation Chamber

The position of the transmit antenna is analyzed and evaluated according to the measurement data in our developed reverberation chamber. Nine calibrations are measured carefully. The key parameters such as field uniformity, quality factor, the average normalized electric field, and the receive antenna calibration factor are analyzed in detail. It is indicated that the position of the transmit antenna has insignificant influence on the test repeatability of calibrations