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钼靶材作为制备钼薄膜的溅射源,其致密性、纯度、粒径及取向分布决定溅射薄膜的品质与性能。为了确定钼靶材轧制的最佳工艺,将钼靶材在60%~90%变形量下以不同工艺条件轧制,并在900~1200℃下以不同温度退火,然后采用精密测量、金相观察、扫描电镜成像(SEM)、 X射线衍射(XRD)、电子背散射衍射(EBSD)等方法表征钼靶成品的理化性能和组织结构,并分析和讨论钼靶材的致密度、晶粒度以及结晶取向等特征关系。结果表明,当轧制变形量为80%~85%时,钼靶致密度达到99.8%,经过1000℃真空退火后,组织均匀性最佳,测得平均晶粒尺寸为57.1μm,同时靶面呈现出显著的{100}晶面择优取向。 相似文献
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铜钼精矿氧化焙烧-二段氨浸得到铜钼氨溶液,通过考察净化剂用量、时间、温度对净化过程的影响,净化得到的钼酸铵溶液酸沉得到的四钼酸铵符合国标二级品的标准要求。 相似文献
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在试制双相钢00Cr25Ni7M03NA钢管时,采用挤压+冷轧+冷拔工艺,发现热加工热塑性差。主要表现在制坯时开裂,挤压管坯内外表面时有裂纹,冷轧抗力大,道次变形量小,冷拔前打钳把断裂。成品管检验结果表明,化学成分、性能等技术指标达到技术要求,工艺路线成熟。 相似文献
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针对石油管L80-13Cr因加工特殊扣的需要,要求尺寸精度高的情况,通过试验对采用离心坯和锻造坯挤压管的尺寸精度进行了对比分析,结果表明:采用离心浇注管坯挤压钢管,在尺寸精度的控制上要远优于锻坯的挤压钢管,尤其是在壁厚偏心问题上,采用离心浇注管坯作挤压钢管能够得到很好的解决。 相似文献
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采用无水四硼酸锂熔融制样,建立了用波长色散X射线荧光光谱(XRF)法测定三氧化钼中MoO3、Pb、Cu、SiO2、CaO、Fe2O3、K2O 7种组分的方法。以Mo为主要分析元素分别对仪器参数、分析谱线、曲线拟合进行了研究,并详细讨论了熔融法制样条件中熔剂的选择、脱模剂的选择、熔融温度和熔融时间的确定。采用经过多次化学分析的样品作为标准样品绘制校准曲线并选择相应校正程序进行校正。该法用于三氧化钼样品的分析,结果同湿法分析数据相吻合,能满足生产中三氧化钼样品中七种组分分析的需要。 相似文献
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《粉末冶金学》2013,56(15):92-113
AbstractA series of Ni-ThO2 and Ni-12% Mo-ThO2 alloys, containing from 3 to 9 vol.-% thoria, were prepared by selective hydrogen reduction of mixed submicron oxides. Room-temperature strength properties considerably higher than usual, with good ductility, were obtained. At 982°C, creep-rupture properties were excellent, with significant improvements in strength and stability due to solid-solution strengthening of nickel by 12 wt.-% molybdenum. An investigation was made of the benefits derived from additional cold work after hot extrusion, with and without intermediate annealing treatments. An analysis of the probable strain distribution in oxide-dispersion-strengthened alloys is presented. 相似文献
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进行了烧结、轧制工艺对比试验,研究了粉末粒度、形貌和烧结工艺对大型钼烧结板坯组织和性能的影响;轧制方式对LCD溅射靶材用大尺寸钼板微观组织、织构以及性能的影响,探讨了影响LCD溅射靶材用大尺寸钼板组织、织构及性能的主要因素。结果表明:制备大型烧结钼板坯可选用颗粒大小较为均匀、分布疏松、粗细搭配合理的中等粒度钼粉;相比普通钼板坯而言,通过延长保温时间,1900℃高温氢气中频烧结,可制备轧制大尺寸钼靶材用大型钼板坯;LCD溅射靶材用大尺寸钼板轧制总加工率需大于70%;采用1火次多道次单向轧制工艺,正常轧制的LCD溅射靶材用长条形钼板再结晶退火后可得到均匀细小的等轴晶粒组织;由于纵向开坯轧制阶段的不均匀变形(非正常轧制),导致包覆横轧得到的LCD溅射靶材用宽幅矩形钼板再结晶退火后组织不均匀,细晶粒和粗大晶粒并存;单向正常轧制的LCD溅射靶材用长条形钼板再结晶退火后近表层无明显优先织构取向。纵向开坯轧制,然后用包覆换向横轧得到的LCD溅射靶材用宽幅钼板再结晶退火后近表层存在较强的{0,0,1}〈1,-1,0〉、{0,0,1}〈6,-1,0〉和{0,1,1}〈1,0,0〉织构。 相似文献