亚微米电子束曝光机数控电流源系统

对于亚微米级的电子束曝光机而言,电子光柱体电流源系统的自动化程度及各路电流源尤其是物镜电源的稳定度,对束斑的影响极大。为突破0.1μm的束斑,特研制了一种电流源系统,集高稳定度、高精度、高抗干扰性、大电流、低噪声、多路输出、计算机控制于一体,它的研制成功为亚微米电子束曝光机的自动化调机奠定了基础,并可推广用于其它需要高稳定度数控电源的领域。 系统构成 该系统在结构上抛弃了传统的开环控制方式,首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源。整个电流源系统由23个模块组成,其中20块电源板输出20路独立的电流;一块8255板作为IBM主机     

DY—5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型微米电子束曝光机的主要技术性能；最细特征线宽０．４μｍ，图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ＾２和２×２ｍｍ＾２；最高扫描速度１ＭＨｚ，可加工１００×１００ｍｍ＾２掩模版或Х７５硅圆片，给出了部分曝光试验结果。     

电子束直接曝光机简介

电子束直接曝光机简介郑国强（甘肃平凉市电子部第４５研究所，７４４０００）１引言电子束曝光技术是集光、机、电、计算机和超高真空技术为一体的综合性技术，它可以把亚微米工艺的集成电路和器件图形直接光刻在Ｓｉ和ＧａＡｓ等圆片上。电子束直接曝光设备在军事微电子...     

亚微米电子束曝光机镜筒光路与结构

介绍了亚微米电子束曝光机光路与结构设计，该电子光学系统采用透镜内偏转设计，系统象差小，偏转灵敏度高，工件面上电流密度大，通过调试和使用，电子束流、最小电子束斑直径等主要设计指标均达要求。     

亚微米电子束曝光机激光工件台位置显示系统

介绍了工件台位置显示系统的组成,工作原理及软件设计。由于采用单片机控制技术,从而保证了系统的显示精度和运行可靠性。     

电子束曝光机吊装结构工作台的分析研究

本文介绍了电子束曝光机激光定位工作台的一种新型吊装结构。用有限元法分析了吊装结构工作台的静态特性及其对测量系统定位精度的影响,并用散斑摄影法测试了模拟吊装结构工作台的静态变形位移。分析与实验表明吊装结构工作台是实现亚微米定位精度较理想的切实可行的结构方案。     

DY－5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型亚微米电子束曝光机的主要技术性能：最细特征线宽０．４μｍ；图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ２和２×２ｍｍ２；最高扫描速度１ＭＨｚ；可加工１００×１００ｍｍ２掩模版或Φ７５硅圆片。给出了部分曝光试验结果。     

0.1微米电子束曝光机成像系统的计算

系统介绍了０．１微米电子束曝光机系统的计算工作,并对每步都给出了程序实现的流程图,最终构成了总的程序计算框图。该程序具有一定的通用性,能对任何３级成像系统进行计算,最后对计算结果进行了定性的分析。     

亚微米电子束曝光机自动输片控制系统研制

概略地介绍了在电子束曝光机上使用的自动输片系统的要求及其组成;较详细地叙述了自动输片控制系统的硬件组成及软件设计;最后给出了运行和检测结果。     

EBES—40A型电子束曝光机的软件开发

本文简要会介绍了一种圆形电子束曝光机应用软件的结构，工作原理及工作过程；并且根据作者长期应用这套软件的具体情况，对使用该软件过程是同到的一些具体问题和解决方法作了详细的说明。此外，对自行编制的软件也作了介绍。     

DJ-2型可变矩形电子束曝光机电子光学设计

本文讨论可变矩形电子束曝光机的电子光学设计,着重分析光路构成和变形偏转补偿等问题。DJ-2型机使用最少的透镜数实现变形束曝光机的功能要求。为实现高速变形偏转,采用高灵敏度串接式平板静电偏转器,通过精确的线性补偿和旋转补偿,使靶上束斑电流密度和分辨率以及原点位置不受束斑尺寸改变的影响。实验结果表明,用发夹型钨丝阴极时的束流密度大于0.4A/cm2;22mm扫描场内边缘分辨率优于0.2m。     

电子束纳米加工技术研究现状

纳米科学技术是８０年代后期发展起来面向２１世纪的高新技术，纳米加工技术是制造量子微结构的主导技术。电子束纳米加工推动着微细加工技术的研究向着分子、原子量级的纳米层次发展。本文重点介绍电子束纳米曝光技术的研究现状及发展前景。     

提高电子束曝光机分辨率的探讨

某些电子束曝光机光刻出的线条是弯曲的 ,因而影响了机器分辨率的提高 ,本文对此现象做了分析 ,并提出可能产生这种现象的原因。这对于解决上述问题 ,提高电子束曝光机的分辨率具有重要意义。     

LaB6阴极在电子束曝光机中的应用研究

本文报告了LaB_6阴极在电子束曝光机中的应用特性,叙述了一些有重要意义的实验结果。     

变形电子束曝光机成形偏转器的设计和性能

在变形电子束曝光机中,为使曝光均匀必须保证靶上束斑电流密度物边缘分辨率不随束斑形状和尺寸的变化而改变。实现这一目标的关键是正确设计成形偏转器。本文讨论采用高灵敏度平行板偏转器实现成形偏转时,为达到上述目标应进行的线性补偿和旋转补偿的设计计算方法。给出了用实验方法改变电子源象与偏转板几何中心的轴向距离所测得的线性补偿因子和旋转补偿因子的值。实验结果与计算值符合较好。     

扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

在综合研究已有的各种复合物镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上,本文对复合物镜的一般理论进行了探讨,推导了普遍化计算公式,并提出新的复合物镜(弯曲物镜)系统。采用解析函数近似表示系统场分布,对弯曲物镜系统象差进行了理论分析,并设计出一个实际系统。数值计算结果给出该系统在55mm2扫描场内,束孔径角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,横向色差0.001m。     

SDS—2型电子束曝光机偏放系统的抗干扰改造

对SDS－2型电子束曝光机偏放系统进行了电磁场、电源、数字信号等三方面的抗干扰改造，因而扫描系统的干扰得到了较好的抑制，使用改造后的偏放系统扫出的版，图形质量和线条分辨率都得到了提高。     

有限长单位脉冲响应滤波器在电子束电源系统中的应用

本文介绍了应用于亚微米电子束曝光机电源系统中的ＦＩＲ滤波器。在高稳定状态下提供严格的线性相位特性，使系统指标确保了０．１μｍ束斑的精度要求。     

电子束曝光机图形处理系统

本文针对现有电子束曝光机在图形处理过程中存在的一些问题，提出了以辅配微机来增强原机处理能力的方法。对曝光机的图形处理过程及异机通讯等问题作了较详细的介绍。