低触头压力真空开关用铜铬X触头的制备与性能

低的触头压力是真空开关向低电压、高操作频率和小型化发展的重要条件,要求真空触头在具有高的开断能力基础上必须同时具有高的抗熔焊能力。铜铬合金具有高的开断能力,但高的熔焊倾向限制了其在真空接触器、负荷开关和低压断路器等低触头压力开关中的应用。本文总结了国内十余年来发展的铜铬X触头的研究结果,包括成分设计的理论依据、燃弧行为和熔焊性能。这种铜铬X触头的熔焊强度能够降低到商业铜铬触头的1/10。配合TJ-7.2/450真空灭弧室的型式试验结果证明:铜铬X触头既具有极限短路电流开断能力,又具有高的抗熔焊性能。     

用于真空开关的触头材料

本文分析了用于真空开关的触头材料的要求和性能；阐述了最近几年来常用于各种真空开关中的触头材料，如ＣｕＴｅＳｅ，ＣｕＣｒ和ＡｇＷＣ等；文章最后还介绍了国内外正在开发和研究的新触头材料情况。     

真空开关触头材料的电弧重熔研究

本文介绍了真人开关触头材料电弧重熔工艺原理和电弧电熔系统及实验结果。     

东芝真空开关管用触头材料的开发

真空开关与其它开关装置（油、空气、磁吹、气体）比较，具有体积小、重量轻，不需维修和环境协调等优点，作为一种最能适应社会需要的开关装置，其应用范围正在迅速扩大。     

铜铬50触头材料在加工中常见的问题及处理方法

本文就我厂真空开关管所用的国产化铜铬５０触头材料在触头成形加工中比较容易出现的几类问题及这些问题形成的原因与处理方法进行了阐述。目的在于与同仁们共同商讨出一个从要命上解决国产化铜铬５０材料在触头加工中所出现的问题。     

Cr含量对CuCr触头材料性能的影响

研究了ＣｕＣｒ触头材料中Ｃｒ含量对其性能的影响，结果表明，当Ｃｒ含量相对较低时，ＣｕＣｒ触头具有较大的分断能力。     

国外真空开关管用Cu—Cr触头材料研究

本文通过国外专利文献及其他资料,对 VCB 用 Cu-Cr 触头材料的研制情况和最新进展进行综述。为了比较,还介绍了 Cu-Mo 合金触头的性能。     

一种新的触头材料—Cu－Mo系合金

本文介绍了近年来国外研制Ｃｕ－Ｍｏ系触头材料的情况。详细地介绍了该种材料的制造方法和电性能。     

触头材料的开发与选用

本文简要地叙述了真空开关管所用触头材料的开发、生产方法、性能、应用及今后的发展动向。     

发展高电压等级真空断路器的技术问题探讨

本文对发展高电压等级真空断路器的关键技术问题，如触头材料，灭弧室耐压特性、电弧特性、弧后特性、波纹管设计及触头运动特性等进行了探讨，可为高电压等级真空断路器的设计提供依据。     

提高真空灭弧室分断性能的研究

真空灭弧室的分断特性与触头结构、间隙纵向磁场及触头材料有密切的关系，本文对此进行了分析和研究。     

纵磁结构触头涡流的仿真分析

电弧熄灭后,真空触头间隙中的剩磁是由触头结构中各部分的涡流所产生的,其中主要是触头片中的涡流。本文利用有限元法对1/2匝和1/3匝纵磁结构触头在大开距下的涡流特性进行了仿真研究,对比分析了触头结构、开距以及触头片开槽方式等对涡流、纵向磁场滞后时间的影响。