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利用STM对金属有机络合物电双稳材料Ag-TCNQ的薄膜进行电学性质的表征与改性,在针尖强电场的作用下,当电压达到某一阈值后薄膜从高阻态跃迁至低阻态,这两种高低阻态可分别定义为一个存储单元的"0"与"1"状态.在STM的常规工作模式下,测量了薄膜的电学性质的变化;考虑到在STM的常规恒流工作模式下,针尖与样品之间的隧道结是影响电学性质的表征与改性的一个不可避免的重要因素,而它并不是材料本身的属性,为此利用STM进行了针尖与样品"接触式"的测试与分析,并且与常规工作模式进行了比较. 相似文献
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基于STM的有机电双稳材料电学性质的表征与改性 总被引:2,自引:1,他引:1
利用STM对金属有机络合物电双稳材料Ag-TCNQ的薄膜进行电学性质的表征与改性,在针尖强电场的作用下,当电压达到某一阈值后薄膜从高阻态跃迁至低阻态,这两种高低阻态可分别定义为一个存储单元的"0"与"1"状态.在STM的常规工作模式下,测量了薄膜的电学性质的变化;考虑到在STM的常规恒流工作模式下,针尖与样品之间的隧道结是影响电学性质的表征与改性的一个不可避免的重要因素,而它并不是材料本身的属性,为此利用STM进行了针尖与样品"接触式"的测试与分析,并且与常规工作模式进行了比较. 相似文献
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利用STM构建金属有机材料的纳米结构和改变电学性质 总被引:2,自引:0,他引:2
研究和开发利用扫描隧道显微镜(STM)对材料进行纳米尺度加工的功能,藉助于STM针尖和样品之间的强电场在金属有机络合物Ag-TCNQ薄膜表面构建了纳米点、纳米点阵和纳米线等纳米结构。伏安(I-U)特性曲线和扫描隧道的测试表明,在针尖强场作用后材料表面的局域电子态密度迅速增大,在电学上由高阻态转变为低阻态,这种效应可能归因于金属原子和有机分子之间的电荷转移。这些纳米结构展示了用作高密度存储器和纳米导线的可能性,有机导电材料将是未来纳米电子材料的理想候选者,而STM则将成为纳米电子学微细加工的有力工具。 相似文献
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利用I-Z曲线的STM"接触"模式的电学测量和表面改性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用STM对金属有机络合物电双稳材料Ag—TCNQ薄膜进行电学性质的表征与改性,在针尖强电场的作用下,当电压达到某一阈值后薄膜从高阻态跃迁至低阻态,这两种高低阻态分别定义为一个存储单元的“0”与“1”状态。本文考虑到在STM的常规恒流工作模式下,针尖与样品之间的隧道结对于电学性质的表征与改性具有影响。为此测量隧道电流I对隧道结宽度Z的依赖关系,I-Z曲线,从而确定针尖刚好接触样品的接触点,利用STM进行了针尖与样品“接触式”的电学测量和表面电学改性研究,并与常规工作模式进行了比较。 相似文献
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为了拓展光电器件在存储领域的应用以及更深入地了解阻变机理,研究了Cu/TiOx/Al电阻式随机存储器(RRAM)的激活(forming)过程,其中TiOx为透明薄膜。利用磁控反应溅射方法,通过改变O2分压制备出具有高折射率(在可见光区域平均值约2.23)和低消光系数(在可见光区域平均值约0.004 2)的透明TiOx薄膜。通过构建Cu/TiOx/Al三明治结构验证了透明TiOx薄膜的阻变存储特性。在阻变过程中,通过调节forming电压和电流,实现了透明TiOx薄膜的阶段性forming。对不同forming阶段的I-V拟合,进一步探索透明TiOx薄膜forming过程的电子传输方式。结果表明,随着forming的发展,透明器件的传输机理发生明显改变,由肖特基发射(SE)转变为FN隧穿,直接隧穿,到最后的欧姆传输,最终实现完整的forming。揭示了TiOx薄膜应用于可见光波段光电存储器件的可行性。 相似文献
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一种具有极性记忆效应的热可擦有机电双稳薄膜 总被引:2,自引:0,他引:2
报道了一种新型有机材料AOSCN(3,9-双(10-(二氰基亚甲基)-9-亚甲蒽基)-2,4,8,10-四硫杂螺[5,5]十一烷),能与Cu形成具有电双稳特性的络合物,在6V电压下,薄膜发生从高阻态到低阻态的转变,跃迁时间小于30ns,驰豫时间小于1μs。若薄膜已发生高阻态到低阻态转变,高温热处理能使其恢复初始状态,这有望制成可擦写存储器。此外,在一定的工艺条件下,AOSCN与Cu和Al形成的金属-有机-金属(MOM)结,具有极性记忆效应。 相似文献
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基于光致漂白的双光子吸收三维光信息存储原理,以钛蓝宝石飞秒脉冲激光在一种新型光致漂白材料芴类衍生物BMOSF中进行光致漂白双光子信息写入和读出的实验研究,实现了6层光信息存储,信息点间距和信息层间距分别为8和10μm;采用MATLAB软件对6层信息点进行信号强度识别和信号点强度对比.实验表明,芴类衍生物BMOSF可以用... 相似文献
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系统总结了用于光存储记录层的氧化物薄膜的存储机理、存储特性以及最新进展,讨论了氧化物掺杂对提高存储性能的影响,指出了氧化物薄膜存在的不足,并探讨了可能的改善途径.在此基础上对存储材料的发展趋势及氧化物材料的研究前景进行了展望. 相似文献
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采用真空蒸镀法制备了以TeOx 薄膜为记录层的可录光盘 ,采用溅射法制备了以Ag In Sb Te O为记录层的可擦重写光盘 ,并测试了这两种光盘在波长为 5 14 .5nm的动态存储特性。实验结果表明 ,可录光盘的载噪比在波长 5 14 5nm时达到 3 0dB ,波长 780nm时达到 41dB ;可擦重写光盘的载噪比在波长 5 14 5nm时达到 2 5dB ,波长 780nm时达到 3 8dB。对光盘载噪比偏低的可能原因及改进方法进行了讨论。光盘动态存储性能测试证明了这两种薄膜可用作蓝绿光波段高密度光存储介质。 相似文献
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Kang‐Ho Park Jeongyong Kim Ki‐Bong Song Sung‐Q Lee Junho Kim Eun‐Kyoung Kim 《ETRI Journal》2004,26(3):189-194
We demonstrate a high‐speed recording based on field‐induced manipulation in combination with an optical reading of recorded bits on Au cluster films using the atomic force microscope (AFM) and the near‐field scanning optical microscope (NSOM). We reproduced 50 nm‐sized mounds by applying short electrical pulses to conducting tips in a non‐contact mode as a writing process. The recorded marks were then optically read using bent fiber probes in a transmission mode. A strong enhancement of light transmission is attributed to the local surface plasmon excitation on the protruded dots. 相似文献
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Hydrogenated silicon nitride(SiNx :H) thin films are deposited on p-type silicon substrates by plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) using a gas mixture of ammonia and silane at 230 °C.The chemical compositions and optical properties of these films,which are dealt at different annealing temperatures,are investigated by Fourier transform infrared(FTIR) absorption spectroscopy and photoluminescence(PL) spectroscopy,respectively.It is shown that the FTIR presents an asymmetric Si-N stretching mode,whose magnitude is enhanced and position is shifted towards higher frequencies gradually with the increase of the annealing temperature.Meanwhile,it is found that the PL peak shows red shift with its magnitude decreasing,and disappears at 1100 °C.The FTIR and PL spectra characteristics suggest that the light emission is attributed to the quantum confinement effect of the carriers inside silicon quantum dots embedded in SiNx : H thin films. 相似文献
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Very thin films, less than 100 nm-thick, are used in a variety of applications, including as catalysts and for thin film reactions
to form patterned silicides in electronic devices. Because of their high surface to volume ratio, these very thin films are
subject to cap-illary instability and can agglomerate well below their melting temperatures. In order to develop a general
understanding of agglomeration in very thin films, we have studied initially continuous and patterned films of gold on fused
silica substrates. Two in situ techniques were used to monitor agglomeration: 1) heating and video recording in a transmission
electron microscope, and 2) measurement of the intensity of laser light transmitted through a sample heated in a furnace.
Electron microscopy allowed inves-tigation of the role of the microstructure of the Au film and analysis of light transmis-sion
during heating allowed determination of temperature-dependent and film-thick-ness-dependent agglomeration rates. These results
will be described along with models for the agglomeration process. 相似文献