| 氮化硅微腔中的光学频率梳(特邀) |
| |
| 引用本文： | 李锦,王丕屿,王正瑜,牛睿,万帅,郭光灿,董春华.氮化硅微腔中的光学频率梳(特邀)[J].红外与激光工程,2022,51(5):20220302-1-20220302-7. |
| |
| 作者姓名： | 李锦 王丕屿 王正瑜 牛睿 万帅 郭光灿 董春华 |
| |
| 作者单位： | 1.中国科学技术大学 中国科学院量子信息重点实验室，安徽 合肥 230026 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(12104442, 11934012) |
| |
| 摘 要： | 具有高品质因子（Q 值）的光学谐振腔能够长时间将光束缚在较小的模式体积内，极大地增强了光与物质的相互作用，成为集成光学器件中具有重大潜力的重要组成部分。聚焦于目前广泛应用于集成非线性光学领域的氮化硅材料平台，为了解决大尺寸氮化硅微环腔由拼接误差、表面粗糙等因素导致的散射损耗较大的问题，进行了一系列的工艺改进以提高大尺寸氮化硅微环腔的品质因子。结果表明:通过薄膜再沉积工艺可以有效降低氮化硅波导的散射损耗，半径为560 μm的大尺寸氮化硅微环腔的本征Q值得到了平均26% 的提升。得益于提高的微腔Q 值，在氮化硅微环腔中实现了重复频率40 GHz 的光学频率梳。
|
| 关 键 词： | 氮化硅微环腔 品质因子 光学频率梳 |
| 收稿时间： | 2022-02-20 |
|
| 点击此处可从《红外与激光工程》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《红外与激光工程》下载全文 |
|
