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| 等离子体处理碳纳米管的研究现状及展望 | |
| 引用本文： | 徐涛,杨静晖,傅强.等离子体处理碳纳米管的研究现状及展望[J].物理学进展,2011,28(1):78-82. |
| 作者姓名： | 徐涛 杨静晖 傅强 |
| 作者单位： | 中国工程物理研究院化工材料研究所,四川绵阳621900 ;四川大学高分子材料与工程学院,四川成都610002 四川大学高分子材料与工程学院,四川成都610002 |
| 摘 要： | 采用等离子体处理技术对碳纳米管进行表面处理是一项新兴的技术,本文对在碳纳米管处理过程中,等离子体处理工艺参数的选择,以及处理前后表面结构变化、形貌变化、场发射效应等进行了综述,并对等离子体处理技术在碳纳米管表面修饰中的应用前景进行了展望。 |
| 关 键 词： | 等离子体处理 碳纳米管 表面修饰 |
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